DE2112686A1 - Verfahren zur Erhoehung der Ausbeute photochemischer Reaktionen - Google Patents

Verfahren zur Erhoehung der Ausbeute photochemischer Reaktionen

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DE2112686A1 DE19712112686 DE2112686A DE2112686A1 DE 2112686 A1 DE2112686 A1 DE 2112686A1 DE 19712112686 DE19712112686 DE 19712112686 DE 2112686 A DE2112686 A DE 2112686A DE 2112686 A1 DE2112686 A1 DE 2112686A1
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Description

AQUITAItTE-ORGAlTICO, Tour Aquitaine P-92 Paris-JUa Defense (Prankreich)
Verfahren zur Erhöhung eier Ausbeute photo chemischer Reaktionen
Bei photochemischen Reaktionen, die in Gegenwart einer in das Reaktionsmilieu eingetauchten oder nicht in das Reaktionsmilieu eingetauchten emittierenden Strahlenquelle durchgeführt v/erden, stellt man nach gewissen Betriebszeiten einen erheblichen Ausbeuteverlust fest, bedinat durch den Niederschlag eines klebenden und viskosen Überzuges, der - nach einer gewissen Aufenthaltsdauer - auf der Berührungswand mit dem Reaktionsmedium, durch die die Lichtenergie übertragen wird, teert und eine Abschirmung bildet. Uenn die Enittiervorrichtung eingetaucht wird, so ist die sogenannte nRerührungswand" die Außenfläche des Kühlmantels der Tlmittiervorrichtung. Fenn die Emittiervorrichtung sich außerhalb des Behälters befindet, tritt das gleiche Phänomen an der Innenseite der Berührungswand mit dem Reaktionsmilieu auf, die die übertragung des Lichtes ermöglicht und durch
. - 109840/1729 - 2 -
■anki Bayer. Hypath. o. WMhHI-lwik LaIm Nr. β·α/··4»7 · pvaMohaek-Kantai Mttnstwn 493OI
OniOlNALINSPECTED
die sich die Bestrahlung vollzieht.
Insbesondere bei Photooxxjnierungsreaktionen von Cycloalkanen, "fio immer eine Emittierungsvorrichtung verwendet wird und das Reaktionsmilieu einer Bestrahlung unterworfen v/ircl, erscheint auf der Außenwand der Strahlenquelle ein teeriger "iederschlag, der den für die Reaktion erforderlichen Lichtdurchgang behindert und infolgedessen die Reaktionsgeschwindigkeit. *";as hat einen bedeutenden Ausbeuteabfall zur Folge und beeinträchtigt die Reinheit des erhaltenen Produktes. Dieser schwere Hachteil schadet beim großtechnischen kontinuierlichen Verfahren. Um diesen Nachteil zu vermeiden, sind schon verschiedene Maßnahmen in Betracht gezogen worden.
Von den schon zur Überwindung dieser Schwierigkeit vorgeschlagenen Mitteln können folgende genannt werden:
1. der Zusatz von Carbonsäuren zum Reaktionsmilieu {US-Patentschrift 2 719 116);
2. der Zusatz von Chlorwasserstoffsäure zum Reaktionsmilieu (deutsche Patentschrift 1 070 172);
3. der Zusatz von Halogenäthern zum Reaktionsmilieu (französische Patentschrift 1 326 983);
4. Intermittierendes oder kontinuierliches Waschen der verschmutzten Wand mit einem Schwefelsäurestrom (französische Patentschrift 1 266 054) oder mit Chlorsulfonsäure (französische Patentschrift 1 364 244);
1Θ 3 8 4 0 /17 2 9 owginal
5. der Zusatz von Schwefelsäure zum Reaktionsmilieu, kombiniert mit schnellem Rühren (französische Patentschrift 1 335 822);
6. der Niederschlag eines transparenten und inerten Überzuges von kristallinem Cycloalkan auf der Kand des Mantels (deutsche Patentschrift 1 138 038);
7. die Auskleidung der Außenwand der Emittiervorrichtung mit einer transparenten und wasserabweisenden Substanz, wie eines Harzes oder eines Organopolysiloxans (französische Patentschrift 1 411 144).
Alle diese Anordnungen bieten keine völlig befriedigende Lösung bei1'1 großtechnischen kontinuierlichen Verfahren.
Die vorliegende Erfindung hat ein einfaches, wirksames und wirtschaftliches Verfahren zum Gegenstand, tun die Ausbeute von photochemischen Reaktionen mit in das Reaktionsmilieu eingetauchten oder nicht in das Reaktionsmilieu eingetauchten Emittiervor- λ richtungen und insbesondere von Phötooximierungsreaktionen von Cycloalkanen zu verbessern, indem das Ankleben von viskosen Niederschlagen auf der Berührungswand der Fmittiervorrichtung vermieden wird. Diese Niederschläge neigen dazu, Teere durch Abbau zu bilden.
Das Verfahren, Gegenstand der Erfindung, besteht im Inbertihrungbringen der Wand mit dem Reaktionsmilieu bei einer derartigen Temperatur, daß der viskose überzug genügend flüssig wird, um
10984 0/1729 ossatMAL inspected
- 4 ~ 2112688
nicht mehr an der Wand zu kleben. Eines der zur Durchführung dieses Verfahrens verwendeten Mittel besteht darin, längs der Berührungswand eine heißere wärmeabführende·Flüssigkeit zirkulieren zu lassen, als das Reaktionsmilieu, das ermöglicht, je nach der Viskosität der Niederschläge eine Wandtemperatur von -30 bis +1500C aufrechtzuerhalten. Diese Flüssigkeit kann flüssig oder gasförmig sein oder sich aus einem Gemisch von passenden Flüssigkeiten zusammensetzen, um die gewünschte Temperatur auf der Höhe der Berührungswand zu erhalten.
Außerdem wird bei der PhotooKimierungsreaktion von Cycloalkanen, die eine organische Phase und eine schwefelsaure Phase, die eine in die andere dispergiert, enthalten, das Wiedererhitzen der Wände, die die Energie übertragen, in Abhängigkeit von der Oximkonzentration in der schwefelsauren Phase und von der .Menge dieser schwefelsauren Phase im Reaktionsmilieu reguliert.
Es ist evident, daß das Wiedererhitzen der Berührungswand nicht in jedem Fall der Ausbeute der Reaktion bei Änderung der optimalen Temperatur des Reaktionsmilieus schaden muß.
Diese letztere kann leicht durch ein passendes Rühren kontrolliert werden oder durch eine vorher festgelegte ausströmende Menge an Reaktionsmilieu oder durch die Anwesenheit eines Wärmeaustauschers, . der die durch das Wiedererhitzen der Wand bedingte Erhöhung der Temperatur ausgleicht. - 5 -
OWGHMAt mt
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in den besonderen Fall der Photooximierung von Cycloalkanen kann die Temperatur zwischen 20 und 95°C liegen. Hierdurch wird keineswegs -lie Temperatur des auf etwa 15 C gehaltenen Reaktions- ^nilieus geändert. Der auf dein Niveau der Wand gebildete, durch Licht abbaubare Film hat eine sehr geringe thermische Leitfähigkeit. Die Bührbedingungenf die ausströmende wen^e und der wärmeaustauscher bleiben identisch init den Bedingungen, bei öenen rran ohne Tfiedererhitzen das Mantels vorgeht.
Das T'7iedererhitzen der Berührungswand kann indirekt durch thermischen Austausch und beispielsweise mit Hilfe einer wärmeabführenden Flüssigkeit, wie weiter oben erwähnt wurde, erfolgen oder direkt durch ganz andere Mittel, wie Widerstände, eine metallische Auskleidung oder andere bekannte mit dem Material der strahlendurchlässigen T*Tand verträgliche Mittel.
Die Anwendung des Verfahrens bei der Photooximierung von Cycloalkanen, die eine organische Phase und eine schwefelsaure Phase, die eine in der anderen dispergiert, enthalten, ermöglicht, die Temperatur der Wand, die die Lichtenergie in Berührung mit dem Reaktionsmilieu entsprechend der Oximkonzentration in der schwefelsauren Phase überträgt und entsprechend der Henge an schwefelsaurer Phase im Reaktionsnilieu zu regulieren.
Man versteht unter organischer Phase die Phase, die aus flüssigem Cycloalkan oder in einem inerten organischen Lösungsmittel
109840/1729
gelösten Cycloalkan unter den Peaktionsbedingungen besteht. Fas die schwefelsaure Phase anlangt, so enthält sie die zur Herstellung des HitrosierungsH»ittels und zur Extraktion des Oxiiris erforderlichen Reaktanten, nämlich: eine mit Chlorwasserstoff- >säure gesättigte schwefelsaure Lösung von ^itrosy!schwefelsäure.
Eines der sehr leicht verwendbaren Mittel besteht in einem bestimmten Oximprozentgehalt in der schwefelsauren Phase, um die Menge an schwefelsaurer Phase zu variieren, indem der Reinheitsgrad geändert wird, uns anschließend die Temperatur der Berührungswand auf die richtige Temperatur zu bringen, um die in Berührung mit der Wand befindliche schwefelsaure Oximlösung flüssig zu machen.
Die Schwefelsäure hat bei der Photooximierungsreaktion verschiedene Aufgaben. Das Lösungsmittel von Hitrosy!schwefelsäure wird in den Reaktor eingeleitet, um in Anwesenheit von überschüssiger Chlorwasserstoffsäure Nitrosylchlorid zu bilden. Die Schwefelsäure hat auch die Aufgabe, das Oxim herauszuziehen, das sich im Laufe der Reaktion im Eeaktionsmilieu bildet. Die größere Oximmenge wird in der Nähe der Wände erhalten, die die. Lichtenergie übertragen und wo der Lichtfluß am größten ist.
Man hat jedoch festgestellt, daß in Anwesenheit von überschüssiger Schwefelsäure die Produktivität der Reaktion ungünstig beeinflußt wird und erhebliche Probleme bei der Behandlung der
109840/1729 ammmü iNiPtCTED
schwefelsauren Abflüße schafft.
Fs ist also sehr nützlich, eine maximale Produktivität ohne Verschmutzen der Fmittierungsvorrichtungen und ohne überschüssige Schwefelsäure zu erhalten. Zu diesen Zv?eck und in Übereinstimmung mit der Erfindung stellt man eine Beziehung zwischen der Temperatur der Wände, die die Lichtenergie übertragen, und der Gewichtsrienge an schwefelsaurer Phase itn Reaktionsmilieu durch eine bestimmte Oximkonzentration in der schwefelsauren Phase her.
Fig. 1 ist eine schematische Darstellung einer Fabrikationsanlage von Cycloalkanonoxim, bei der ein Variieren des Reinigungsgrades und ein Wiederaufheizsystem der Berührungswand durch thermischen Austausch und ganz besonders durch Zirkulation einer wärmeabführenden Flüssigkeit vorgesehen ist.
Die sehr vereinfachte Anlage besteht aus einem, beispielsweise zylindrischen Reaktor 1, in den eine Eochdruckguecksilberlampe eingetaucht wird, die einen Doppelmantel 3 aufweist, in dessen Innerem die wärmeabführende Flüssigkeit 4 durchfließt und durch einen Wärmeaustauscher 5 und eine Pumpe 6 im Kreislauf geführt wird. Die kontinuierliche Speisung der schwefelsauren Phase und der organischen Phase im Reaktor erfolgt bei 7. Das Reaktionsmilleu wird jeweils gerührt und auf einer Reaktionstemperatur
109840/1729 ohk»nal inspected
•unterhalb von 15°C durch eine Pumpe 8 und den Austauscher 9 gehalten. Ein Luftabzug IO ermöglicht, die im Reaktionsmilieu vorhandenen unlöslichen f gasförmigen Produkte zu entfernen. Man zieht bei 11 die Reaktionsprodukte ab, die eine organische Phase enthält, und die das Oxim enthaltende schwefelsaure Phase v^ird von der organischen Phase durch Zentrifugieren bei 12 abgetrennt. Die schwefelsaure Phase, die das Oxim enthält, wird ganz oder teilweise bei 13 in Richtung auf die Umsetzungsstufe befördert.
Die organische Phase wird teilweise bei 14 gereinigt und in den Kreislauf bei 7 zurückgeführt.
Anhand dieses vereinfachten Schemas stellt man fest, daß man für einen gegebenen Oximprozentgehalt in der schwefelsauren Phase, der durch die Konzentration der in den Reaktor bei 7 eingeführten Nitrosy!schwefelsäure bestimmt wird, leicht das Reinigungsverhältnis variieren kann, um die optimale Menge der schwefelsauren Phase für eine Berührungswandtemperatur zu bestimmen, die man mit der Temperatur der wärmeabführenden Flüssigkeit regulieren kann. Es werden in den Tabelle I und II unten die Minimaltempe-· raturen der wärmeabführenden Flüssigkeit angegeben, die die Temperatur der Berührungswand in Abhängigkeit von der Gewichtsrcenge der schwefelsauren Phase im Reaktionsmilieu bestimmen, und zwar für eine Oximkonzentration in der schwefelsauren Phase von 25 Gew.-% in Tabelle I und für eine Oximkonzentration von 35 Gew.~% in Tabelle II. " g
, 109840/1729
Tabelle I
Gewichtsmenge der schwefelsauren Phase
15 % und darüber 12 % 10 %
3 % 6 % 5 %
4 %
Minimaltemperatur der wärmeabführenden Flüssigkeit (in°C)
10 15 25 40 50 60
Tabelle II
Gewichtsmenge der schwefelsauren Phase
Minimaltemperatur der wärmeabführenden Flüssigkeit(in°C)
15 % und darüber 12 % 10 % 7 %
IO -
25
35
70
Die Tiberprüfung der experimentellen Ergebnisse zeigt folgendes: 1. Je höher die Oximkonzentration der schwefelsauren Phase ist, um so höher steigt die Viskosität der Niederschläge der schwefelsauren Oximlösungen und um so mehr muß die Temperatur der wäntieabführenden Flüssigkeit steigen, um die Niederschläge zu ver-
- 10 109840/1729
ORjQtNAL INSPECTED
- IO -
flüssigen.
2. Für geringe Oximkonzentrationen in eier schwefelsauren Phase kann die Photooximierung ohne Verschmutzung in Anwesenheit einer geringen Menge an schwefelsaurer Phase durchgeführt werden, indem eine wärmeabführende Flüssigkeit bei relativ niedrigen Temperaturen verwendet wird.
Ss ist nichtsdestoweniger interessant, die Oximkonzentration in der schwefelsauren Phase zu erhöhen, um die rücks tendier en, schwefelsauren Abflüße unter den Bedingungen einer erhöhten Wandtenperatur zu erniedrigen.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung. Beispiel 1
In einen zylindrischen Reaktor mit einem Fassungsvermögen von 500 Litern stellt man koaxial eine Hochdruckquecksilberlampe mit einer Leistung von 20 kW. Die Lampe mit einem Durchmesser von 90 mm ist umgeben von einem doppelten Mantel mit einem Innendurchmesser von etwa 140 mm und einem Außendurchmesser von etwa 150 mm, in dessen Innerem von unten nach oben eine wärmeabfiihrende Flüssigkeit, beispielsweise Wasser, zirkuliert.
Man führt kontinuierlich eine 20 gew.-%ige Lösung von Cyclododecan in Tetrachlorkohlenstoff ein und anschließend gleichzeitig Chlorwasserstoffsäure und eine 75 %ige Lösung von Nitrosylschwefelsciure in 85 %iger Schwefelsäure. Eine Kontrolle der Zusammen-
J 098 40/17 29 ^
Setzung des ^eaktionsmilieus reguliert die Zugabe der jeweiligen Reaktanten, damit folgende Bedingungen eingehalten werden:
1. 15 nev7.-% schwefelsaure Phase, die 25 Gew.-% Oxim und 75 Gew. v" wpssriae Schwefelsaure enthält;
2. °>5 CeT'7.-S organische Phase, die aus einer 20 %igen Cyclodoclecanlösun<-r in Tetrachlorkohlenstoff besteht.
Tie organische Phase wird mit Chlorwasserstoff gesättigt und onth"lt eine ausreichende Fitrosylchloridmenge, um völlig die Lichtstrahlen zu absorbieren, und zwar ungefähr 3 g/Liter.
Die Temperatur des Reaktionsmilieus wird auf einer Temperatur unterhalb von oder höchstens bei 15°c gehalten,dank der Rührung die Pumpe und durch das äußerliche Imkreiseführen durch
T*rrn?eaustauscher. Die aus der Pumpe ausströmende ''enge beträgt 5-15 r.v^/gtd. m
Bei einem Kreislauf in dem doppelten Mantel von 1450 Litern/Std. tritt Wasser bei 4 C ein und bei 15°C aus und ergibt eine minimale TVancTter.peratur von 4°C bei den Temperaturgefalle dieser Wand. r<an erhrlt eine konstante Produktion von 39Og Oxim pro kTrh verbrauchte Lichtenergie, ohne Auftreten von Niederschlag über die ganze Betriebsdauer von 300 Stunden hinweg. Wenn man die ?Tenge an schwefelsaurer Phase auf 10 % bei dieser Temperatur senkt, wird die Reaktion nach 14 Stunden Betriebsdauer unter-
, brochen. Die Bildung von gefärbten Niederschlägen, die eine
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gute übertragung der Lichtenergie im Reaktionsmilieu verhindert, unterbricht tatsächlich die Reaktion.
Beispiel 2
Man geht wie in Beispiel 1 vor, aber variiert die Gewichtsmenge an schwefelsaurer Phase derart, daß man folgende Bedingungen vorfindet;
1. 5 Gew.-% schwefelsaure Phase, die 25 % Oxim und 75 % wässrige Schwefelsäure enthält;
2. 95 Gew.-% organische Phase, die aus einer 20 %igen Cyclododecanlösung in Tetrachlorkohlenstoff besteht.
Man läßt in den Mantel 1450 Liter/Std. Wasser bei 7°C eintreten und bei 17°C austreten. Während der 7 ersten Stunden beträgt die Ausbeute 36Og Oxim pro kWh. Anschließend fällt sie von Stunde zu Stunde, um 195 kWh zu erreichen, und zwar in dem Maße, wie die Niederschläge zunehmen.
Die Untersuchung der Niederschläge einer Stärke von 0,3 cm zeigt, daß sie im wesentlichen aus einer 46 %igen Oximlösung in Schwefelsäure bestehen, verunreinigt durch ^ferunreinigungen, deren Viskosität bei 15°C 22,798 Poise beträgt.
■Beispiel 3
Man geht wie in Beispiel 2 vor.
Nach 15 Stunden Betriebsdauer stellt man fest, daß die Bildung
; :" 10 9 8 4 0/1729 qwowM.
der teerigen Niederschläge die Produktivität auf 190 g/kWh sinken Ip Rt.
-^an erhöht dann die Temperatur des Wassers am Eintritt des Mantels von 7°C auf 55°Cf indem man die Temperatur des Reaktionsmilieus ganz auf 15°C hält. Die Ausbeute steigt fortschreitend und f Stunden nach den Wiedererhitzen der Wand des Mantels erreicht sie 390 g/kWh. Zu diesem Zeitpunkt sind die Niederschläge vollständig verschwunden und man stellt fest, daß die Änderung d der viskosität c^er abbauharen Niederschläge in Abhängigkeit von der Temperatur äußerst empfindlich ist, wie man aus Tabelle III unten und den Kurven der Fig. 2 ersehen kann. In Pig. 2 ist die '-'nderung der Viskosität der OximlÖsungen bei verschiedenen Konzentrationen in wässriger Schwefelsäure in Abhängigkeit von der Temperatur dargestellt. Die Viskositäten sind auf der Ordinate im logarithmischen Maßstab, die Temperaturwerte auf der Abszisse im Maßstab l/T aufgetragen. Die Viskosität des klebenden viskosen Überzuges bei 40°C beträgt nicht mehr als 3,5 Poise und bei 600C { etwa 1 Poise.
- 14 -
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Tabelle III
Viskositäten in Poise von Oximlösungen in
wässriger Schwefelsäure
Oximkonzentrationen,
in % /"Temperaturen
1O°C 20°C 30°C 40°C 5O°C 60°C 7O°C
BO0C
15 1 ,07 0,69 0 ,45 0 ,3O 0, 204 O ,146 O ,105 unter
halb
20 1 ,8 1,1 0 ,67 0 ,42 0, 28 O O ,132 von
0,1
25 2 ,75 1,64 0 ,98 0 ,62 0, 39 O ,26 O ,177 0,126
30 4 ,83 2,73 1 ,57 0 ,94 O, 58 O ,37? O ,23 0,152
35 7 ,8 4,2 2 ,3 1 ,3 O1 77 O ,472 O ,29 0,19
40 13 ,7 6,9 3 ,52 1 ,9 1, O5 O ,625 O ,37 0,225
45,75 33 ,5 15,2 7 ,1 3 ,5 1/ 8 O ,96 O ,53 «^,31
Beispiel 4
Man geht wie in Beispiel 2 vor, jedoch vrird von Beginn des Versuches an der Mantel mit Wasser, dessen Eintrittstemperatur fO°C beträgt, wiedererhitzt. Während der Dauer des Versuches, nämlich 200 Stunden, liegt die Ausbeute konstant bei 4OO q/kWh, ohne daß Niederschläge auf dem Mantel auftreten.
,1098 40/1729
- 15 INSPECTED
-is-
Beispiel 5
"an arbeitet wie in Beispiel 2 und vom Beginn des Versuches an wird der Mantel mit Fasser wiedererhitzt, dessen Eintrittstemperatur 95°C beträgt.
Die Dauer des Versuches beträgt 300 Stunden mit einer konstanten Ausbeute von 4OO g/kWh, ohne daß auf dem Mantel Niederschläge auftreten.
Feispiel 6
"!an geht wie in Beispiel 1 vor mit einer Konzentration von 35 Ce1*.-% Oxim in der schwefelsauren Phase und einer Menge von 15 Cew.~% an schwefelsaurer Phase. Die Minimaltemperatur der Wand muß höher sein als für eine Konzentration von 25 Gew.-% ο*ir.. Um das zu erreichen, muß man die Hinimaleintrittstempera tur der wärmeabführenden Flüssigkeit auf 15°C erhöhen.
Beispiel 7
rian geht wie in Beispiel 1 vor, jedoch mit einer Gewichtsmenge an schwefelsaurer Phase von 10 % und mit einer Oximkonzentration von 35 Gew.-% in schwefelsaurer Phase. Um die gleiche Produktivität zu erhalten, muß mein die Temperatur der Wand auf eine minimale Eintrittstemperatur der wärmeabführenden Flüssigkeit bringen, die mindestens 35°C betragen muß.
Alle diese Beispiele zeigen, daß in Abhängigkeit von der Menge * an passender schwefelsaurer Phase und von einer zweckmäßigen *
- 16 -
,109840/1729 ©signal iWected
Wandtemperatur, bestimmt durch einen Oximgehalt, der in der schwefelsauren Phase vorliegt, man jede Verschmutzung der Fand .der Emittierungsvorrichtung verhindern kann und die Reaktion ununterbrochen fortführen kann.
Die Beispiele beschreiben nur einen zylindrischen Reaktor mit einer Lampe, aber die Erfindung kann auf Reaktoren mit mehreren Lampen beliebiger Dimensionen ausgedehnt werden und die geometrische Form ist veränderbar.
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Claims (1)

  1. Patentansprüche
    1. Verfahren zur Erhöhung der Ausbeute photochemischer Reaktionen, die mit in das Reaktionsmilieu eingetauchten oder nicht in das Reaktionsmilieu eingetauchten emittierenden Strahlenquellen initiert werden, dadurch gekennzeichnet, daß die Wand, die die Lichtenergie in Berührung mit dem Reaktionsmilieu überträgt,auf eine derartige Temperatur gebracht wird, daß unter den Reaktionsbedingungen der viskose und abbaubare überzug, der dazu ' M neigt, sich auf der Wand niederzuschlagen, genügend flüssig wird, um nicht an der Wand zu kleben.
    2. Verfahren nach Anspruch 1 zur Erhöhung der Ausbeute photochemischer Reaktionen, besonders bei der kontinuierlichen Photooximierung von Cycloalkanen, dadurch gekennzeichnet, daß es besteht im Aussetzen von Hitrosylchlorid, das in schwefelsaurer Phase in situ hergestellt wird, und eines flüssigen oder eines in einem organischen Lösungsmittel gelösten Cycloalkans einer ä emittierenden Strahlenquelle, dadurch gekennzeichnet, daß die ninijnale Temperatur der Wand, die die Lichtenergie in Berührung mit dem Reaktionsmilieu überträgt, in Abhängigkeit von folgenden Faktoren bestimmt wird: der Oximkonzentration in der schwefelsauren Phase und der Gewichtsmenge der schwefelsauren Phase im Reaktionsmilieu.
    3. Verfahren zur Photooximierung von Cycloalkanen nach Anspruch
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    - 18 -ORIGINAL. INIPECTED
    - 13 -
    1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die minimale Temperatur der Wand, die die Lichtenergie in Berührung mit dem ^eaktionsmilleu überträgt, ira umgekehrten Verhältnis zu den Gewichtsprozenten der schwefelsauren Phase im Reaktionsmilieu schwankt.
    4. Verfahren zur Photooximierung von Cycloalkanen nach Anspruch 1 - 3, dadurch gekennzeichnet, daß die minimale Temperatur der Wand, die die Lichtenergie überträgt, mit der Zunahre der Oxirakonzentration in der schwefelsauren Phase zunehmen i^uß und umgekehrt mit der Abnahme der Oxirakonzentration in der schwefelsauren Phase abnehmen imiß.
    5. Verfahren zum Verflüssigen von abbaubaren Niederschlägen, die im Laufe einer photochemisehen Reaktion nach den Ansprüchen 1 und 2 gebildet worden sind, dadurch gekennzeichnet, daß die Berührungswand, auf der sich die Niederschläge bilden,- aurch
    ^ jedes geeignete, dieser Wand einverleibte Mittel, wie durch
    Zirkulieren einer wärmeabführenden Flüssigkeit, wiedererhitzt wird.
    5. Anwendung des Verfahrens nach Anspruch 1-5 bei der Photooximierung von Cyclododecan, dadurch gekennzeichnet, daß die Oximkonzentration in der schwefelsauren Phase vorzugsweise zv;i~ sehen 15 und 35 % schwankt.
    109840/1729
    7. Anwendung des Verfahrens nach Anspruch 1-6 bei der Photooxinierung von Cyclododecan, dadurch gekennzeichnet, daß für eine bestürmte Oxxmkonzentration in schwefelsaurer Phase die '· ininale Temperatur der Wand, die die Lichtenergie überträgt, von 4 - 7O°C für Gewichtsmengen an schwefelsaurer Phase von jeweils 15 - 4 % in Verhältnis zum P.eaktionsrailieu schwankt.
    109840/1729
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