DE2054709A1 - Vorrichtung mit einer Elektronenstrahl rohre und Elektronenstrahlrohre zur Anwen dung in einer derartigen Vorrichtung - Google Patents
Vorrichtung mit einer Elektronenstrahl rohre und Elektronenstrahlrohre zur Anwen dung in einer derartigen VorrichtungInfo
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- H01J29/56—Arrangements for controlling cross-section of ray or beam; Arrangements for correcting aberration of beam, e.g. due to lenses
Description
PHN 4382
IHN- 4-382
5«Nov.1970
5«Nov.1970
"Vorrichtung mit einer Elektronenstrahlröhre und Elektronenstrahlröhre
zur Anwendung in einer derartigen Vorrichtung".
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung mit einer Elektronenstrahlröhre, die ein drehsymmetrisches
Elektronenstrahlerzeugungssystem enthält,
in dem nacheinander eine Kathode mit einer flachen sich nahezu senkrecht zu der Achse des Elektronenstrahlerzeugungssystems
erstreckenden elektronenemittierenden Oberfläche, ein scheibenförmiges Steuergitter mit einer
mittleren Steuergitteröffnung und ein scheibenförmiges Anodengitter mit einer mittleren kreiszylindrischen
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PHN 4382
Anodengitteröffnung angeordnet sind, wobei das Steuergitter
auf einem in bezug auf die Kathode negativen Potential, die Anode auf einem höheren in bezug auf die
Kathode positiven Potential und der Raum auf der vom Steuergitter abgekehrten Seite des Anodengitters nahezu
feldfrei gehalten wird.
Die Erfindung bezieht sich weiterhin auf eine Elektronenstrahlröhre zur Anwendung in einer derartigen
Vorrichtung.
Bei den bekannten Vorrichtungen der erwähnten Art, wie z.B. Vorrichtungen mit Fernsehkameraröhren,
Fernsehwiedergaberöhren oder Oszillographröhren, und Elektronenmikroskopen, ergeben sich Schwierigkeiten
infolge von Linsenfehlern, wie z.B, das Auftreten eines
ungünstig grossen Auftrefflecks und einer ungünstig grossen Stromträgheit in einer Fernsehaufnahmeröhre.
Der Elektronenstrahl erhält bereits im Elektronenstrahlerzeugungssystem
eine Struktur, die erheblich von der idealen Struktur abweicht, weil die durch die
Kathode, das Steuergitter und das Anodengitter gebildete Linse im Erzeugungssystem soviel sphärische
Aberrationen herbeiführt, dass sogar Elektronen, die mit der gleichen Anfangsgeschwindigkeit die emittierende
Oberfläche der Kathode verlassen, die Achse des Erzeugungssystems an verhältnismäsaig weit voneinander
entfernten Punkten schneiden.
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pjlN 4382
Bereit· bekannte Massnahmen zur Beschränkung
der sphärischen Aberrationen im Elektronenstrahlerzeugungssystem, wie z.B. —■ vereinzelt oder kombiniert das
Verformen des Anodengitters zur Beseitigung seiner Linsenfehler, die Anbringung zusätzlicher Elektroden
zwischen der Kathode und dem Anodengitter und die Anbringung einer sphärischen emittierenden Oberfläche,
z.B. mit einem Krümmungsradius, der sich als Funktion
des radialen Abstandes von der Achse ändert, so dass die Krümmung mit zunehmendem radialem Abstand von der
Achse abnimmt, sind weniger zweckmässig und/oder weniger einfach verwirklichbar als wünschenswert wäre.
Die Erfindung bezweckt, eine Vorrichtung der im ersten Absatz erwähnten Art zu schaffen, mit der die
erwähnten Nachteile behoben werden.
Nach der Erfindung enthält in einer Vorrichtung der im ersten Absatz erwähnten Art die Kathode
einen ersten leitenden Kreiszylinder, aus dessen Basis ein zweiter leitender Kreiszylinder hervorragt, dessen
Basis die emittierende Oberfläche bildet, während die Steuergitteröffnung auf der Seite des Anodengitters
einen kreiszylindrischen Teil und auf der Seite der Kathode einen sich in Richtung auf den kreiszylindrischen
Teil verjüngenden kegeligen Teil aufweist, wobei die Wand dieses kegeligen Teiles nahezu einen Winkel '
von '»5° mit der Achse des Elektronenstrahlerzeugurigs-
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systems einschliesst, und wobei der Durchmesser'des erwähnten
ersten leitenden Kreiszylinders und der Durch-
I ■ messer des erwähnten kreiszylindrischen Teiles nahezu
sechsmal grosser, der Durchmesser der Anodengitteröffnung
nahezu viermal grosser, die Länge des erwähnten
i zweiten leitenden Zylinders nahezu zweimal grosser,
der Abstand zwischen der emittierenden Oberfläche und dem erwähnten kreiszylindrischen Teil und die axiale
Länge des erwähnten kreiezylindrischen Teiles nahezu
gleich gross, die axiale Länge des erwähnten kegeligen Teiles mindestens nahezu gleich gross und dar Abstand
zwischen dem Steuergitter und dem Anodengitter nahezu anderthalbmal grosser als der Durchmesser der emittierenden
Oberfläche sind, während das Anodenpotential nahezu gleich dem hf 5-fachen des Steuergitterpotentials
ist.
In dieser Vorrichtung mit der erwähnten Konfiguration und den erwähnten Potentialen der Elektroden
des Elektronenstrahlerzeugungssystems, welche Konfiguration
und welche Potentiale nach mehereren Berechnungen dadurch gefunden sind, dass, ausgehend von
einer bekannten Konfiguration mit optimalen Potentialwerten, die Konfiguration und die Potentiale immer
wieder zur Herabsetzung der sphärischen Aberrationen abgeändert werden, sind im Elektronenstrahlerzeugungssystem
nahezu keine sphärischen Aberrationen mehr vor-
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handen.
Bei einer hohen Anodenspannung, z.B. bei einer Spannung des Anodengitters in bezug auf die Kathode
von 300 V, wird ein namentlich bei einem Elektronenmikroskop gewünschter besonders kleiner Strahlknoten
(cross-over) erhalten, weil der Einfluss der Streuung infolge thermischer Geschwindigkeiten der Elektronen
bei diesem hohen Potential gering ist.
Bei niedrigeren Anodenspannungen, z.B. bei einer Spannung des Anodengitters in bezug auf die
Kathode von 10 V, gelangen die die Kathode verlassenden Elektronen mit der gleichen Energie, aber unter
verschiedenen Winkeln zu der Achse des Elektronenstrahlerzeugungssystems,
besonders scharf definiert an die Stelle des Strahlknotens (cross-over).
Mit Hilfe einer an der Stelle des Strahlknotens (cross-over) angeordneten Blende mit einer
verhältnismässlg grossen Blendenöffnung, die z.B. Radialabmessungen in der Grössenordnung des Durchmessers
der emittierenden Oberfläche aufweist, kann dann eine besonders günstige Auswahl von Elektronen
mit geringer Quergeschwindigkeit erhalten werden, während die Elektronen nun ausserdem auf angemessene
Weise nach Axialgeschwindigkeiten ausgewählt werden können, was namentlich bei einer Fernsehaufnahraeröhre
zum Erhalten eines besonders kleinen Auftrefflecks
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und einer besonders geringen Strahistromträgheit sehr
günstig sein kann. Die Erfindung bezieht sich daher insbesondere auf eine Vorrichtung der obenbeschriebene
Art, bei der an der Stelle des Strahlknotens (cirossover) eine Blende vorgesehen ist.
Die Erfindung bezieht aLch weiterhin auf eine
Elektronenstrahlröhre zur Anwendung in einer Vorrichtung der obenbeschriebenen Art. Die Elektronenstrahlröhre
enthält ein drehsymmetrisches Elektronenstrahlerzeugungssystem,
in dem sich nacheinander eine Kathode mit einer flachen sich nahezu senkrecht asu der Achse
des Elektronenstrahlerzeugungssystems erstreckenden
elektronenemittierenden Oberfläche, ein scheibenförmiges
Steuergitter mit einer mittleren Steuergitteröffnung und ein scheibenförmiges Anodengitter mit einer
mittleren kreiszylindrischen Anodengitteröffnung befinden,
und ist dadurch gekennzeichnet, dass die Kathode einen ersten leitenden Kreiszylinder enthält, aus dessen
Basis ein zweiter leitender Kreiszylinder hervorragt, dessen Basis die emittierenden Oberfläche bildet,
während die Steuergitteröffnung auf der Seite des
Anodengitters einen kreiszylindrischen Teil und auf der Seite der Kathode einen sich in Richtung auf den
kreiszylindrischen Teil verjüngenden kegeligen Teil aufweist, wobei die Wand dieses kegeligen Teiles nahezu
einen Winkel von k5° mit der Achse des Elektronenstrahler-
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zeugungssysteins einschliesst, und wobei der Durchmesser
des erwähnten ersten leitenden Kreiszylinders und der Durchmesser des erwähnten kreiszylindrischen Teiles
nahezu sechsmal grosser, der Durchmesser der Anodengitteröffnung nahezu viermal grosser, die Länge des
erwähnten zweiten leitenden Zylinders nahezu zweimal grosser, der Abstand zwischen der emittierenden Oberfläche
und dem erwähnten kreiszylindrischen Teil und die Axiallänge des erwähnten kreiszylindrischen Teiles
nahezu gleich gross, die Axiallänge des erwähnten kegeligen Teiles mindestens nahezu gleich gross und
der Abstand zwischen dem Steuergitter und dem Anodengitter nahezu anderthalbmal grosser als der Durchmesser
der emittierenden Oberfläche sind.
Einige Ausführungsformen der Erfindung sind in
den Zeichnungen dargestellt und werden im folgenden näher beschrieben. Es zeigen:
Fig. 1 die Elektrodenkonfiguration eines Elektronenstrahlerzeugungssystems in einer Elektronenstrahlröhre
einer bekannten Vorrichtung in einem Schnitt durch die Achse des Elektronenstrahlerzeugungssystems;
Fig. 2 das Potentialfeld und Elektronenbahnen
für Elektronen, die ohne Anfangsgeschwindigkeit die elektronenemittierende Oberfläche verlassen, in
der bekannten Vorrichtung nach Fig. 1 in der Hälfte
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des gezeigten Schnittes;
Fig. 3 die Elektrodenkonfiguration des Elektronenstrahlerzeugungseystems
in der Elektronenstrahlröhre in einer Vorrichtung nach der Erfindung in einem
Schnitt durch die Achse des Elektronenstrahlerzeugungssystems;
Fig. k das Potentialfeld und Elektronenbahnen
für Elektronen, die ohne Anfangsgeschwindigkeit die elektronenemittierende Oberfläche verlassen, in
der Vorrichtung nach Fig. 3 in der Hälfte des in dieser Figur gezeigten Schnittes;
Figuren 5 und 6 die gleiche Elektrodenkonfiguration
und das gleiche Potentialfeld wie Fig. k mit Elektronenbahnen für Elektronen, die mit einer Anfangsgeschwindigkeit ±n der Zeichnungsebene die emittierende
Oberfläche verlassen, unter verschiedenen Winkeln zu der Achse des Elektronenstrahlerzeugungssystems.
In der bekannten Konfiguration eines Elektronenstrahlerzeugungesystems
nach Fig. 1 weist eine Kathode 1 eine emittierende Oberfläche 2 auf, die sich senkrecht zu der Achse 3 des Elektronenstrahlerzeugungssystems
erstreckt. Der emittierenden Oberfläche 2 gegenüber befindet sich das scheibenförmige Steuergitter
k, vor dem das scheibenförmige Anodengitter 5 liegt,
las mit dem leitenden Anodenzylinder 6 ein Ganzes bildet, der dafür sorgt, dass der Raum auf der von dem Steuer-
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gitter abgekehrten Seite feldfrei gehalten wird. Das Steuergitter weist eine kreiszylindrische Oeffnung 7
und das Anodengitter weist eine kreiszylindrische Oeffnung 8 auf. Die in der Figur mit grossen Buchstaben
bezeichneten Abmessungen haben die nachstehenden Werte! A (Durchmesser der Steuergitteröffnung 7) = 600 /um
B (Durchmesser der Anodengitteröffnung 8) = 400 /um C (Abstand zwischen der emittierenden Oberfläche
2 und der Steuergitteröffnung 7) =100 /um
D (Axiallänge der Steuergitteröffnung) = 100 /um
E (Abstand zwischen der Steuergitteröffnung
7 und der Anodengitteröffnung 8) =150 /um F (Axiallänge der Anodengitteröffnung 8) = 200 /um,
In diesem bekannten Elektronenstrahlerzeugungssystem
werden die Spannungen z.B. derart gewählt, dass die negative Steuergitterspannung V„, d.h. die Spannung
des Steuergitters in bezug auf die Kathode, nahezu drei Zehntel der positiven Anodenspannung V., d.h. die Spannung
des Anodengitters in bezug auf die Kathode, beträgt. Bei Aenderung des Verhältnisses der Elektrodenspannungen
ändert sich die Linsenstärke beträchtlich, aber es gibt kein Spannungsverhältnis, bei dem die
sphärischen Aberrationen wesentlich unbedeutender als bei diesem Spannungsverhältnis sind.
In Fig. 2 ist das elektrostatische Feld im FJlektronenetrahlerzeugungssystem nach Fig. 1 für die
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PHN Jf38 2
folgenden Elektrodenspannungen angegeben:
vG „ -3 ν
V. = 10 V.
A
A
Das Potentialfeld wird durch die Aequipotentiallinien
angegeben, wobei die Potentialwerte in V eingeklammert dargestellt sind. Bei der Berechnung
wird angenommen, dass 9 die abschliessende Aequipotentialebene
ist und dass längs 10 und 11 die Potentiale linear zunehmen. Zur Veranschaulichung der sphärischen
Aberrationen zeigt die Figur Elektronenbahnen, die sich von der emittierenden Oberfläche 2 zu der Ebene 9 erstrecken.
Dies sind Bahnen für Elektronen, die mit einer Anfangsgeschwindigkeit O die emittierenden Oberfläche verlassen. Wie in der Figur dargestellt ist,
schneiden diese Bahnen die Achse des Elektronenstrahlerzeugungssystems
an weit voneinander entfernten Punkten.
Es sei bemerkt, dass in dieser Figur , wie in den Figuren k, 5 und 6, die Elektronenbahnen, nachdem
sie die Achse gekreuzt haben, in bezug auf die Achse eine spiegel symmetrische Lage einnehmen.
In der Konfiguration eines drehsymmetrisehen
Elektronenetrahlerzeugungssystems einer erfindungagemässen
Vorrichtung nach Fig„ 3 besteht der Kathodenkörper aus einem leitenden Kreiezylinder 12, aus dessen
Basis 13 ein zweiter leitender Kreiezylinder lU
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PHN 438.?
hervorragt, dessen Basis die emittierende Oberfläche 15 bildet. Das Steuergitter 16 besitzt eine Steuergitteröffnung,
die einen kreiszylindrisehen Teil 17 und
einen sich verjüngenden kegeligen Teil 18 aufweisto
Die Wand 19 des kegeligen Teiles 18 schliesst einen Winkel von 45° mit der Achse 20 des Elektronenstrahlerzeugungssystems
ein. Das scheibenförmige Anodengitter 21 bildet ein Ganzes mit dem Anodenzylinder 22 und weist
eine kreiszylindrische Oeffnung 23 auf.
Die Abmessungen haben folgende Werte:
G (Durchmesser der emittierenden Oberfläche 15) = 100 /um
H (Durchmesser des Zylinders 12) = 6G = 600 /um J (Durchmesser des kreiszylindrischen
Teiles 17
der Oeffnung im Steuergitter)
J (Durchmesser der Anoden-
der Oeffnung im Steuergitter)
J (Durchmesser der Anoden-
gitteröffnung 23)
K (Länge des Zylinders 14)
L (Abstand zwischen der emittierenden Oberfläche 15 und
dem kreiszylindrischen Teil
17 der Oeffnung im Steuergitter 16) = G = 100 ,um M (Axiallänge des kreiszylin-
K (Länge des Zylinders 14)
L (Abstand zwischen der emittierenden Oberfläche 15 und
dem kreiszylindrischen Teil
17 der Oeffnung im Steuergitter 16) = G = 100 ,um M (Axiallänge des kreiszylin-
drischen Teiles 17 der Oeffnung
im Steuergitter 16) = G =100 /um
1 0 9 1J ?. 3 / 1 6 5 3
= 6g | = 600 /um |
= 4g | = 400 /um |
= 2G | = 200 /um |
PHN 4382
N (Abstand zwischen dem
Steuergitter 16 und dem
Anodengitter 21) = (3/2) G = 150 /um
0 (Axiallänge der Anodengitter-
öffnung 23) = 200 /um
Beim Betrieb wird ein Anodenpotential V. angelegt, das nahezu gleich dem 4,5-fachen der negativen
Steuergitterspannung Vp ist, z.B. ein Anodenpotential
V= 10 V und ein Steuergitterpotential VG = -2,2 V,
wobei das in den Figuren 4, 5 und 6 dargestellte Ergebnis
erzielt wird.
Wie Fig. 2 im bekannten Elektronenstrahlerzeugungssystem
nach Fig. 1, zeigt Fig. 4 im Elektronenstrahlerzeugungssystem
nach Fig. 3 das Potentialfeld und Elektronenbahnen für Elektronen, die mit einer Anfangsgeschwindigkeit
0 die emittierende Oberfläche verlassen. Wie in Fig. 4 dargestellt ist, sind die
Spannungen V = -2,2 V und V = -10 V. 24 bezeichnet
eine abschliessende Aequipotentialebene und es wird angenommen, dass längs 25 und 26 Spannungen linear zunehmen.
Die dargestellten Elektronenbahnen schneiden in diesem Falle die Achse 20 des Elektronenstrahlerzeugungssystems
nahezu an dem gleichen Punkt.
Figuren 5 und 6 zeigen das gleiche Bild wie Fig. 4, während in diesen Figuren Elektronenbahnen
für Elektronen dargestellt sind, die mit einer Anfangs-
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PHN 4382
geschwindigkeit entsprechend 0,2 eV die emittierende
Oberfläche unter verschiedenen Winkeln Oi zu der Achse
des Elektronenstrahlerzeugungssystems verlassen. In Fig. 5 handelt es sich um Bahnen für Elektronen, die
eine Anfangsgeschwindigkeit mit einer in der Figur nach oben gerichteten Komponente haben. In Fig. 6 handelt
es sich um Bahnen für Elektronen, die eine Anfangsgeschwindigkeit
mit einer in der Figur nach unten gerichteten Komponente aufweisen. In den Figuren sind
Bahnen für <* = 6o°, (X = 45°, ,/ = 30°, p<
= 15° und O^ = 0° dargestellt. Für einen gleichen Wert οζ schneiden
die Elektronenbahnen die Ebene Zh nahezu in einem gleichen Punkt. Die Figuren zeigen einzelne Auftreffstellen
für verschiedene, Werte von O^ , wodurch eine besonders günstige Auswahl mit Hilfe einer Blende erssielbar
ist.
1 0 9 3 2 M 1 6 5 3
Claims (2)
- PHN 4382Patentansprüche;1/. Vorrichtung mit einer Elektronenstrahlröhre, welche Elektronenstrahlröhre ein drehsymmetrischee Elektronenstrahlerzeugungesystem enthält» in dem sich nacheinander eine Kathode mit einer {.flachen sich nahezu senkrecht zu der Achse des Elektronenstrahlerzeugungssystem erstreckenden elektronenemittierenden Oberfläche, ein scheibenförmiges Steuergitter mit einer mittleren Steuergitteröffnung und ein scheibenförmiges Anodengitter mit einer mittleren kreiszylindrischen Anodengitteröffnung befinden, wobei das Steuergitter auf einem in bezug auf die Kathode negativen Potential, die Anode auf einem höheren in bezug auf die Kathode positiven Potential und der Raum auf der von dem Steuergitter abgekehrten Seite des Anodengitters nahezu feldfrei gehalten wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Kathode einen ersten leitenden Kreiszylinder enthält, aus dessen Basis ein zweiter leitender Kreiszylinder hervorragt, dessen Basis die emittierende Oberfläche bildet, während die Steuergitteröffnung auf der Seite des Anodengitters einen kreiszylindrischen Teil und auf der Seite der Kathode einen sich in Richtung auf den kreiszylindrischen Teil verjüngenden kegeligen Teil aufweist, wobei die Wand dieses kegeligen Teiles nahezu einen Winkel von k5° mit der Achse des Elektronenstrahlerzeugungssystem einschliesst und wo-1 09823/ 1653PHNbei der Durchmesser dos erwähnten ersten leitenden Kreiszylinders und der Durchmesser des erwähnten kreiszylindrischen Teiles nahezu sechsmal grosser, der Durchmesser der Anodengitteröffnung nahezu viermal grosser, die Länge des erwähnten zweiten leitenden Zylinders nahezu zweimal grosser, der Abstand zwischen der emittierenden Oberfläche und dem erwähnten kreiszylindrischen Teil und die Axiallänge des erwähnten kreiszylindrischen Teiles nahezu gleich gross, die Axiallänge des erwähnten kegeligen Teiles mindestens nahezu gleich gross und der Abstand zwischen dem Steuergitter und dem Anodengitter nahezu anderthalbmal grosser als der Durchmesser der emittierenden Oberfläche sind, während das Anodenpotential nahezu gleich dem 4,5-fachen des Steuergitterpotentials ist.
- 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass nahezu an der Stelle des Strahlknotens (cross-over) des in der Elektronenstrahlröhre erzeugten Elektronenstrahls eine Blende angebracht ist.3· Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Blende eine Oeffnung besitzt, deren Radialabmessungen in der GrossenOrdnung des Durchmessers der emittierenden Oberfläche liegen. k. Elektronenstrahlröhre zur Anwendung in einer Vorrichtung nach Anspruch 1, 2 oder 3» die ein1 0 9 8 2 "3 / ι 6 5 3PHN 4382drehsymmetrisches Elektronenstrahlerzeugungssys!tem enthält, in dem sich nacheinander eine Kathode jralt ei-i ner flachen sich nahezu senkrecht zu der Achse desElektronenstrahlerzeugungssystems erstreckender} elektronenemittierenden Oberfläche, ein scheibenförtoiiges Steuergitter mit einer mittleren Steuergitteröffnung und ein scheibenförmiges Anodengitter mit einer mittleren kreiszylindrischen Anodengitteröffnung befinden, dadurch gekennzeichnet, dass die Kathode einen ersten leitenden Kreiszylinder enthält, aus dessen Basis ein zweiter leitender Kreiszylinder hervorragt, dessen Basis die emittierenden Oberfläche bildet, während die Steuergitteröffnung auf der Seite des Anodengitters einen kreiszylindriechen Teil und auf der Seite der Kathode einen sich in Richtung auf den kreiszylindrischen Teil verjüngenden kegeligen Teil aufweist, wobei die Wand dieses kegeligen Teiles nahezu einen Winkel von 45° mit der Achse des Elektronenstrahlerzeugungssystems einschliesst, und wobei der Durchmesser des erwähnten ersten leitenden Kreiszylinderο und der Durchmesser des erwähnten kreiszylindriachen Teiles nahezu sechsmal grosser, der Durchmesser der Anodengitteröffnung nahezu viermal grosser, die Länge des erwähnten zweiten leitenden Zylinders nahezu zweimal grosser, der Abstand zwischen der emittierenden Oberfläche und dem erwähnten kreiszylindriachen Teil und10 9 8 2 3/1653 C0PYι
PHN ^382die Axiallänge des erwähnten kreiszylindrischen Teiles nahezu gleichgross, die Axiallänge des erwähnten kegeligen Teiles mindestens nahezu gleich gross und der
Abstand zwischen dem Steuergitter und dem Anodengitter nahezu anderthalbmal grosser als der Durchmesser der
emittierenden Oberfläche sind.109823/1653 COPY
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