DE2050289B2 - Steuerbarer Halbleitergleichrichter - Google Patents

Steuerbarer Halbleitergleichrichter

Info

Publication number
DE2050289B2
DE2050289B2 DE2050289A DE2050289A DE2050289B2 DE 2050289 B2 DE2050289 B2 DE 2050289B2 DE 2050289 A DE2050289 A DE 2050289A DE 2050289 A DE2050289 A DE 2050289A DE 2050289 B2 DE2050289 B2 DE 2050289B2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
main
electrode
area
auxiliary
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE2050289A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2050289A1 (de
Inventor
Michio Yokohama Otsuka (Japan)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP8869569A external-priority patent/JPS5028797B1/ja
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Publication of DE2050289A1 publication Critical patent/DE2050289A1/de
Publication of DE2050289B2 publication Critical patent/DE2050289B2/de
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/70Bipolar devices
    • H01L29/74Thyristor-type devices, e.g. having four-zone regenerative action
    • H01L29/744Gate-turn-off devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/482Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of lead-in layers inseparably applied to the semiconductor body
    • H01L23/4824Pads with extended contours, e.g. grid structure, branch structure, finger structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/02Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/06Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
    • H01L29/08Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions with semiconductor regions connected to an electrode carrying current to be rectified, amplified or switched and such electrode being part of a semiconductor device which comprises three or more electrodes
    • H01L29/0804Emitter regions of bipolar transistors
    • H01L29/0813Non-interconnected multi-emitter structures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/02Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/06Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
    • H01L29/10Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions with semiconductor regions connected to an electrode not carrying current to be rectified, amplified or switched and such electrode being part of a semiconductor device which comprises three or more electrodes
    • H01L29/1012Base regions of thyristors
    • H01L29/102Cathode base regions of thyristors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/40Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/41Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
    • H01L29/417Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions carrying the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/41708Emitter or collector electrodes for bipolar transistors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/40Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/41Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
    • H01L29/417Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions carrying the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/41716Cathode or anode electrodes for thyristors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Description

Die Erfindung betrifft einen steuerbaren Halbleitergleichrichter aus vier übereinander angeordneten Halbleiterschichten abwechselnd entgegengesetzten Leitungstyps, wobei Teile der zweiten, inneren Schicht durch die erste, äußere Schicht hindurchführen und an -to der Oberfläche des Gleichrichters freiliegen, wobei die der ersten, äußeren Schicht gegenüberliegende äußere Schicht eine erste Hauptelektrode aufweist, die erste Schicht aus einem Haupt- und einem Hilfsbereich besteht, die sich direkt aneinander anschließen, auf der ■» > dem Hilfsbereich abgewandten Seite des Hauptbereiches eine Elektrode der zweiten Schicht mit einem freiliegenden Teil der zweiten Schicht in Kontakt steht, eine zweite Hauptelektrode am Hauptbereich der ersten Schicht angeordnet und gegenüber dem freilie- w genden Teil der zweiten Schicht und der Elektrode der zweiten Schicht isoliert ist, der Hilfsbereich der ersten Schicht mit einer Hilfselektrode versehen ist, die mit der Elektrode der zweiten Schicht elektrisch verbunden ist, und wobei eine Hauptsteuerelektrode neben dem ■»■> Hilfsbereich der ersten Schicht auf der dem Hauptbereich abgewandten Seite in Kontakt mit der zweiten Schicht vorgesehen ist.
Ein derartiger steuerbarer Halbleitergleichrichter is! aus der DEOS 19 06 816 bekannt. m>
Aus der US-PS 34 76 989 ist ein weiterer steuerbarer Halbleitergleichrichter bekannt, der aus vier übereinander angeordneten Halbleitcrschichtcn abwechselnd entgegengesetzten I.eitungstyps aufgebaut ist, von denen eine aus einem Haupt- und einem Hilfsbereich hl besteht, (.»er I lauptbcreich steht mit einer Hauptelektrode in Kontakt, während der Hilfsbereich einen Slromwcg über einen Teil der benachbarten Schicht entgegengesetzten Leitungstyps zum Hauptbereicn liefern kann, um den Halbleitergleichrichter dadurch zu zünden, daß ein Durchbruch zwischen dem Hilfsbereich und der Hauptelektrode erzeugt wird.
Die der Erfindung zugrundeliegende Aufgabe besteht demgegenüber darin, bei dem bekannten Halbleitergleichrichter der eingangs genannten Art die Stromanstiegsgeschwindigkeit, d.h. das Verhältnis di/dt in Durchlaßrichtung zu erhöhen, so daß nach dem Zünden des Hilfsbereiches auch der Hauptbereich innerhalb kurzer Zeit durchgeschaltet wird.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die erste Schicht im Grenzbereich zwischen Haupt- und Hilfsbereich zwischen den Elektroden dieser Bereiche dünner als an den übrigen Bereichen der ersten Schicht ausgebildet ist
Wenn bei dem erfindungsgemäßen Halbleitergleichrichter an der Hauptsteuerelektrode ein positiver Impuls liegt, so fließt ein Strom über die Hauptsteuerelektrode, die zweite Schicht und die erste Schicht zur zweiten Hauptelektrode am Hauptbereich der ersten Schicht, so daß der Hüfsbereich durchschallet Dann fließt ein Strom durch die erste Hauptelektrode, die der ersten äußeren Schicht gegenüberliegende äußere Schicht, die dritte innere Schicht, die zweite innere Schicht und den Hilfs- und Hauptbereich der ersten Schicht zur zweiten Hauptelektrode, während ein weiterer Strom durch die erste Hauptelektrode, die der ersten Schicht gegenüberliegende äußere Schicht, die dritte innere Schicht, die zweite innere Schicht und die erste Schicht zur Hilfselektrode des Hilfsbereiches der ersten Schicht und durch die Elektrode der zweiten Schicht, durch die zweite Schicht und die erste Schicht neben dieser Elektrode zur zweiten Hauptelektrode fließt
Da gemäß der Erfindung die erste Schicht im Grenzbereich zwischen Haupt- und Hilfsbereich zwischen den Elektroden dieser Bereiche dünner als an den übrigen Bereichen der ersten Schicht ausgebildet ist, hat die erste Schicht in diesem Grenzbereich einen größeren Widerstand. Im Vergleich zu dem oben genannten ersten Strom durch die erste Schicht zur zweiten Hauptelektrode tritt daher eine Zunahme desjenigen Stromes auf, der durch die Hilfselektrode und die Elektrode der zweiten Schicht fließt. Der Strom, der durch die Elektrode der zweiten Schicht und durch die zweite und die erste Schicht zur zweiten Hauptelektrode fließt, wird dadurch verstärkt und fließt im wesentlichen von der Gesamtfläche des Hauptbereiches der ersten Schicht zur zweiten Hauptelektrode, was zur Folge hat, daß der Hauptbereich unmittelbar gezündet wird.
Dadurch wird die Zeitdauer, die nach dem Zünden des Hilfsbereiches zum Zünden des Hauptbereiches erforderlich ist, wesentlich herabgesetzt, was eine Erhöhung des d/7di-Verhältnisses bedeutet.
Im folgenden wird anhand der Zeichnung ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel der Erfindung näher erläutert:
Fi g. 1 zeigt eine Draufsicht auf das Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Halbleitergleichrichters;
Fig. 2 zeigt eine Querschnittsansicht des in Fig. I dargestellten Gleichrichters längs der Linie M-Il.
Wie es in F i g. I und 2 dargestellt ist, ist das Ausführungsbcispicl des erfindungsgemäßen HaIblcitcrgleichrichtcrs aus einem Halbleitersubstrat 1 mit vier Schichten /V1, P1, N2 und /'2 aufgebaut, wobei die erste Schicht aus einem Haupt- und einem Hilfsbereich
b und a besteht, die sich direkt aneinander anschließen und durch die strichpunktierte Linie ti in Fig,2
voneinander getrennt sind. Elektroden 5 sind auf den
ι, freiliegenden Teilen der Schicht P\ im Hauptbereich b
ausgebildet, während eine den Elektroden 5 gemeinsa-
* me Hilfselektrode 6 mit der Schicht Wi im Hilfsberejch a
< in Kontakt steht Pie Elektroden5 sind in der in Fig, 1
', dargestellten Weise in Farm von Streifen in einer
! gemeinsamen Ebene ausgebildet. Die Stärke der Schicht
Wi ist im Grenzbereich zwischen dem Haupit- und dem Hüfsbereich b und a geringer als an den übrigen Bereichen. Im Hauptbereich b sind die freiliegenden
Bereiche der zweiten Schicht Ρχ und die Elektroden 5 durch Isolierschichten 8 abgedeckt, während eine
Hauptelektrode 7 in ohmschen Kontakt mit der ersten Schicht N\ im Hauptbereich b steht und somit die freiliegenden Bereiche und die Elektroden 5 überdeckt ' Eine Hanptsteuerelektrode 10 ist in Kontakt mit der
Schicht P\ auf der Seite des Hilfsbereiches a vorgesehen. Eine auch als Wärmeausgleichsplatte dienende Hauptelektrode 3 aus Wolfram oder Molybdän ist an die Unterseite der der ersten Schicht gegenüberliegenden äußeren Schicht Pt über eine dünne Schicht 2 aus Aluminium oder einem ähnlichen Material legiert. Es kann vorteilhaft sein, die Stärke der ersten äußeren Schicht N\ herabzusetzen, so daß ihre Bereiche, die unter der Hauptelektrode 7 liegen, einen geringen Widerstandswert von einigen Ohm bis einigen kOhm haben.
Im Betrieb wird an die Hauptelektrode 3 und die Hauptelektrode 7 in Durchlaßrichtung eine Spannung angelegt, so daß die Elektrode 3 positiv und die Elektrode 7 negativ wird. An die Hauptsteuerelektrode 10 und die Hauptelektrode 7 wird eine Steuerspannungsquelle angeschlossen, durch die die Hauptsteuerelektrode Ϊ0 gegenüber der Hauptelektrode 7 positiv vorgespannt wird. Von der Hauptsteuerelektrode 10 fließt daher ein Strom durch die Bereiche P\ und Ni, die durch die strichpunktierte Linie U unterteilt sind, zur Hauptelektrode 7. Daher werden zunächst in die einander gegenüberliegenden Bereiche der vier Schichten N], P\, Nj, Pj auf der Seite des Hilfsbereiches a Ladungsträger injiziert, so daß diese Bereiche gezündet werden. Ein Teil des Zündstromes fließt direkt durch den in der Nähe der gezündeten Bereiche liegenden Bereich der Schicht ΛΛ zur Hauptelektrode 7, während der Rest des Zündstromes durch die streifenförmigen Elektroden 5 zur Hauptelektrode 7, und zwar über den Bereich P\ und N\ oder den Hauptbereich b fließt, so daß der gesamte, dem Hauptbereich b gegenüberliegende Bereich in Durchlaßrichtung vorgespannt wird. Somit werden unmittelbar nach der Zündung der vier Schichten auf der Seite des Hilfsbereiches a die vier Schichten auf der Seite des Hauptbr;. dches b gezündet. Wird der Widerstand der Schicht /V, zwischen der Hilfselektrode 6 und der Hauptelektrode 7 in geeigneter Weise gewählt, so kann die Zeitdauer zwischen den Zündungen des Hilfsbereiches a und des Hauptbereiches h stark verringert werden. Dadurch wird die Anstiegsgeschwindigkeit des Anodenstroms, d. h. das d;/di-Verhältnis des Halbleitergleichrichters auch bei geringem Steuerstrom erhöht. Liegt der Widerstand der Schicht Λ/ι zwischen der Elektrode 5 und der Hauptelektrode 7 bei einigen Ohm bis einigen hundert kOhm, so ergibt sich ein d//d'-Verhältnis zwischen 800 und 1000 Α/μ5.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (1)

  1. Patentanspruch;
    Steuerbarer Halbleitergleichrichter aus vier übereinander angeordneten Halbleiterschichten abwechselnd entgegengesetzten Leitungstyps, wobei Teile der zweiten, inneren Schicht durch die erste, äußere Schicht hindurchführen und an der Oberfläche des Gleichrichters frejliegen, wobei die der ersten, äußeren Schicht gegenüberliegende äußere Schicht eine erste Hauptelektrode aufweist, dje erste Schicht aus einem Haupt- und einem Hilfsbereich besteht, die sich direkt aneinander anschließen, auf der dem Hilfsbereich abgewandten Seite des Hauptbereiches eine Elektrode der zweiten Schicht mit einem freiliegenden Teil der zweiten Schicht in Kontakt steht, eine zweite Hauptelektrode am Hauptbereich der ersten Schicht angeordnet und gegenüber dem freiliegenden Teil der zweiten Schicht und der Elektrode der zweiten Schicht isoliert ist, der Hilfsbereite der ersten Schicht mit einer Hilfselektrode versehen ist, die mit der Elektrode der zweiten Schicht elektrisch verbunden ist, und wobei eine Hauptsteuerelektrode neben dem Hilfsbereich der ersten Schicht auf der dem Hauptbereich abgewandten Seite in Kontakt mit der zweiten Schicht vorgesehen ist, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (N1) im Grenzbereich zwischen Haupt- (b) und Hilfsbereich (a) zwischen den Elektroden (6, 7) dieser Bereiche dünner als an den w übrigen Bereichen der ersten Schicht ausgebildet ist.
DE2050289A 1969-10-13 1970-10-13 Steuerbarer Halbleitergleichrichter Ceased DE2050289B2 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8115669 1969-10-13
JP8869569A JPS5028797B1 (de) 1969-11-07 1969-11-07
JP9336469 1969-11-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2050289A1 DE2050289A1 (de) 1971-04-22
DE2050289B2 true DE2050289B2 (de) 1980-07-17

Family

ID=27303506

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2050289A Ceased DE2050289B2 (de) 1969-10-13 1970-10-13 Steuerbarer Halbleitergleichrichter

Country Status (3)

Country Link
US (1) US3619738A (de)
DE (1) DE2050289B2 (de)
GB (1) GB1298330A (de)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3964090A (en) * 1971-12-24 1976-06-15 Semikron Gesellschaft Fur Gleichrichterbau Und Elektronid M.B.H. Semiconductor controlled rectifier
DE2164644C3 (de) * 1971-12-24 1979-09-27 Semikron Gesellschaft Fuer Gleichrichterbau Und Elektronik Mbh, 8500 Nuernberg Steuerbarer Halbleitergleichrichter
DE2233786C3 (de) * 1972-01-24 1982-03-11 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Thyristor mit erhöhter Ein- und Durchschaltgeschwindigkeit
US4079409A (en) * 1973-11-27 1978-03-14 Licentia Patent-Verwaltungs G.M.B.H. Thyristor with pressure contacting
US4096623A (en) * 1974-07-01 1978-06-27 Siemens Aktiengesellschaft Thyristor and method of producing the same
DE2457106A1 (de) * 1974-12-03 1976-06-10 Siemens Ag Thyristor
US4091409A (en) * 1976-12-27 1978-05-23 Rca Corporation Semiconductor device having symmetrical current distribution
GB1558840A (en) * 1977-02-07 1980-01-09 Rca Corp Gate controlled semiconductor device
US4581626A (en) * 1977-10-25 1986-04-08 General Electric Company Thyristor cathode and transistor emitter structures with insulator islands
US4356503A (en) * 1978-06-14 1982-10-26 General Electric Company Latching transistor
NL190389C (nl) * 1978-06-14 1994-02-01 Gen Electric Poort-uitschakelbare thyristor.
US4236171A (en) * 1978-07-17 1980-11-25 International Rectifier Corporation High power transistor having emitter pattern with symmetric lead connection pads
DE3005458A1 (de) * 1980-01-16 1981-07-23 BBC AG Brown, Boveri & Cie., Baden, Aargau Thyristor zum verlustarmen schalten kurzer impulse
US4622572A (en) * 1980-05-23 1986-11-11 General Electric Company High voltage semiconductor device having an improved DV/DT capability and plasma spreading
JPS56131955A (en) * 1980-09-01 1981-10-15 Hitachi Ltd Semiconductor device
FR2516704B1 (fr) * 1981-11-13 1985-09-06 Thomson Csf Thyristor a faible courant de gachette immunise par rapport aux declenchements
GB2145559A (en) * 1983-08-26 1985-03-27 Philips Electronic Associated Interdigitated semiconductor device
DE3446789A1 (de) * 1984-12-21 1986-07-03 SEMIKRON Gesellschaft für Gleichrichterbau u. Elektronik mbH, 8500 Nürnberg Verfahren zum herstellen von halbleiterbauelementen
EP0186140B1 (de) * 1984-12-27 1989-09-27 Siemens Aktiengesellschaft Halbleiter-Leistungsschalter
US4812890A (en) * 1985-11-19 1989-03-14 Thompson-Csf Components Corporation Bipolar microwave integratable transistor
US5229313A (en) * 1989-09-29 1993-07-20 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Method of making a semiconductor device having multilayer structure
US5111267A (en) * 1989-09-29 1992-05-05 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device having a multilayer electrode structure and method for fabricating the same
GB9125260D0 (en) * 1991-11-27 1992-01-29 Texas Instruments Ltd A pnpn semiconductor device
DE112011102082B4 (de) * 2010-06-21 2022-05-05 Abb Power Grids Switzerland Ag Phasensteuerungsthyristor mit verbessertem Muster von lokalen Emitterkurzschlusspunkten
CN116057711A (zh) 2020-09-03 2023-05-02 日立能源瑞士股份公司 功率半导体器件

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1514562B2 (de) * 1965-09-07 1972-12-07 Semikron Gesellschaft fur Gleich richterbau und Elektronik mbH, 8500 Nurn berg Anordnung zur herstellung eines halbleiter-bauelementes
US3475235A (en) * 1966-10-05 1969-10-28 Westinghouse Electric Corp Process for fabricating a semiconductor device
US3480802A (en) * 1966-11-16 1969-11-25 Westinghouse Electric Corp High power semiconductor control element and associated circuitry
US3476992A (en) * 1967-12-26 1969-11-04 Westinghouse Electric Corp Geometry of shorted-cathode-emitter for low and high power thyristor

Also Published As

Publication number Publication date
DE2050289A1 (de) 1971-04-22
US3619738A (en) 1971-11-09
GB1298330A (en) 1972-11-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2050289B2 (de) Steuerbarer Halbleitergleichrichter
DE1639019B2 (de) Steuerbarer halbleitergleichrichter
DE3018468C2 (de)
DE1589455A1 (de) Steuerbare Halbleiteranordnung
DE3228566C2 (de) Dünnschicht-Elektrolumineszenz-Element
DE2021160C2 (de) Thyristortriode
DE2944069A1 (de) Halbleiteranordnung
EP0283588A2 (de) Steuerbares Leistungs-Halbleiterbauelement
DE3118365C2 (de)
DE1212221B (de) Halbleiterbauelement mit einem scheibenfoermigen Halbleiterkoerper und zwei sperrfreien Basiselektroden
DE2659909C2 (de) Halbleiterschaltereinrichtung
DE1614858C3 (de) Halbleiteranordnung
EP0222280A2 (de) Thyristor mit steuerbaren Emitter-Basis-Kurzschlüssen
DE1514228C3 (de) Feldeffekttransistor
EP0156022B1 (de) Durch Feldeffekt steuerbares Halbleiterbauelement
DE2323971C2 (de) Bauelement mit Lumineszenzdiode
DE2436408C3 (de) Thyristor
DE2237086C3 (de) Steuerbares Halbleitergleichrichterbauelement
DE2923693A1 (de) Schalttransistor
DE1035807B (de) Feststoff-Bildverstaerker
DE2164644C3 (de) Steuerbarer Halbleitergleichrichter
DE1097568B (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung mit einem gleichmaessig gesinterten Koerper aus Erdalkalititanaten
DE1764756A1 (de) Duennschicht-Feldeffekt-Halbleiterbauelement
DE2243988C3 (de) Hableiteranordnung mit mindestens einem MIS-Kondensator
DE2320412A1 (de) Vierschichttriode

Legal Events

Date Code Title Description
8235 Patent refused