DE2046499C3 - Verfahren zur Herstellung von Galliumarsenidphosphid-Halbleiterni a ten al - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von Galliumarsenidphosphid-Halbleiterni a ten al

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DE2046499C3
DE2046499C3 DE19702046499 DE2046499A DE2046499C3 DE 2046499 C3 DE2046499 C3 DE 2046499C3 DE 19702046499 DE19702046499 DE 19702046499 DE 2046499 A DE2046499 A DE 2046499A DE 2046499 C3 DE2046499 C3 DE 2046499C3
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DE
Germany
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arsenic
gallium
temperature
phosphorus
gallium arsenide
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DE19702046499
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DE2046499A1 (de
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Isamu Akasaki
Ichiro Asao
Tohru Hara
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B9/00Single-crystal growth from melt solutions using molten solvents
    • C30B9/04Single-crystal growth from melt solutions using molten solvents by cooling of the solution
    • C30B9/06Single-crystal growth from melt solutions using molten solvents by cooling of the solution using as solvent a component of the crystal composition
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
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Description

Hienu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (1)

  1. auf etwa 28
    P„,M„„ip™=h:
    rfahren z
    lerial
    Verfahren zur Herstellung von Halbleitern«- abnahmen (va" flehender. Mischkristall beträgt lerial aus Galliurnarsenidphosphid durch Lösen 5 Phospnors in- Durchschnitt, wenngleich er in von Galliumarsenid und Galliumphosphid in daliei'.61^Ln T efen indem Kristall variieren kann, einem metallischen Lösungsmittel bei einer Tem- verschiedenui ^ Arsens, der in dem Misch-
    peratur T. und anschließendes Abkühlen auf eine Somit ist aern thaltcn ist, größer ist als der
    Temperatur T2, dadurch gekennzeich- knsta.. ιjus Oa/ ^* *,^nen Phosphors, auße- wenn net, daß man die Menge entweder der Arsen- io Anteil desι aarin c ^ ^ phosphors unter
    oder der Phosphorkomponente auf einen Wert die Lo5|'c.wpti von etwa 20% liegen. Die Anteile begrenzt, der kleiner ist als die Menge, die der dem niedrigenJ^ ^ ft £m GaAs^P1-Löslichkeit bei der Temperatur T1 entspricht, und des Arsens unl rn ί knnen durch AuswaM
    größer ist als die Menge, die der Löslichke.t be. Kristall enth al £nn >ttd ^ lösenden Anteile von der Temperatur T2 entspricht. .5 jLr m dem ^ ^B Ga|1;umphosphjd, der Tempera
    tur" auf welche das Galliumarsenid und das Gall.um- u u-A^rh-ü-rt werden die Temperaturdifteienz
    phosphid erhiUt Jf™S'slichkeiten der beiden Be-
    Ät heraSgesem werden, die Geschwindigkeit
    JO Ä g
    Die Erfindung bezieht sich auf die Herstellung von in der die Temperatur ^^^^k^a»
    Halbleitermaterial aus Galliumarsenidphosph.d durch werden. TroUdem st-s s s, ^
    Lösen von Galliumarsenid und Galliumphosphid in GaAs1 *P* herzustel 1^"' Jie e" 8
    einem metallischen Lösungsmitte! bei einer Tempera- Phosphor als^ Arsen_ ^ Galliumarsenid und
    turr, und anschließendes Abkühlen auf eine Tem- *5 rq A£^0Jhi^ Mischkristalle umzukristallisieren,
    rT S ff l di A
    rq£^0Jhi^ Mischkristalle um,
    Eristbekannt, daß, wenn Galliumarsenid und Sen pfospforkom.onente größer ist als die Arsen-Galliumphosphid in Gegenwart eines metallischen ko"JP°"ente m!irl Hadurch erreichen, daß man Gallium-Lösungsmittels, wie Gallium oder Zinn, auf eine Oas.^ZZtt wich«? Arsen in einer Menge bestimmte Temper in einem geschlossenen Be- 30 arsen.d verwendet welches Ar ^ ^
    halter erhitzt werden, das Galliumarsenid und das enthalt, d'e ^^'"fall -chen Lösungsmittel löslich ist.
    Galliumphosphid in dem metalli* hen Lösungsm.ttel Arsen m dem ηletallisctieii j-osjmg
    in Mengen gelöst werden, die durch die jeweiligen Will man be.sp.dswe,«^M^hJ™^^2a.nR'^
    Löslichkeiten bestimmt werden, üie LÖshchkeits- enthaltend (α-β,) /.Λ^n aurc"
    kurven von Arsen (As) und Phosphor (P), welche in 35 Temperatur von Vuf'*Je™^ kiemer als a, und
    Gallium (Ga) als metallisches Lösungsmittel gelöst Wert α so bestimmt werden, daß er kleiner «,
    werden sollen, sind in der Zeichnung dargestellt. größer als β, ist, narnlich' "i < β < ««· MischkristaU
    Wie aus der Zeichnung ersichtlich, werden Arsen In diesem Fall enthalt der en stehende Miscnkri ta
    und Phosphor in dem Gallium als Lösungsmittel in GaAs.-Λ (a-^Ύο A^ ""^Ucn die Phos-Mengen gelöst, entsprechend </„ bzw. b^0, bei Er- 40 phor. In entsprechender WeiseJ«wn »uch die Hhos hitzung auf eine Temperatur T1. Wenn nun die Tem phormenge, die in deG^7PhÄV w«S peratur von T1 auf T2 herabgesetzt wird, dann fallen ist, auf emen bestimmten Wert ft begrenzt weraen die Löslichkeiten von Arsen und Phosphor auf «2% der kiemer ist als b, unc1 großer als ö,, ™fu«£ bzw. 62°/0. Daraus folgt, daß das Arsen und der <&-*,)·/„ Phosphor in dem GaAs1-«Pe-Knstaii ent Phosphor in Mengen von (fl,-a2)7o bzw. (A1-W/o 45 halten sind. . „rh^itpii die die Arsen-
    a,Jl,iumarsenidphosphid GaAs1^P1(O < , < 1) J^^±^^^ ^^^
    Wein Galliumarsenid und Galliumphosphid in teilen quer durch die ψ«^^
    Gegenwart von Gallium als Lösungsmittel auf eine soll die Temperatur innerhalb eines
    Temperatur von 10500C in einem verschlossenen 50 Bereiches herabgesetzt werden, in dem dl
    i G k l i sentlichen l.neat^genom
    Temperatur von 10500C in einem verschlossenen 50 Bereiches herabgesetzt werden, in dem dl ^'IC™Jt!J Behäher (der eine Atmosphäre von inerten Gasen kurven als im wesentlichen l.neat,^genommen werden oder von Wasserstoffgas enthalten oder evakuiert können. Ein solcher Temperaturbereich,kannbe.sp.dssein kann) erhitzt werden, lösen sich das Ga'lium- weise in der Größenordnung von 20 C egeru Wenn arsenid und das Galliumphosphid in dem Gallium- es dagegen erwünscht f>°™\^™$Wjl„m Lösungsmittel in Mengen entsprechend etwa 34 und 55 halten, in deneh die Anteile der ^-ü"«™?»« 27 o/„ (als Molanteil) an Arsen bzw. Phosphor. Wenn komponenten in verschiedener Tiefe var leren kann die Temperatur auf etwa 10000C herabgesetzt wird, die Temperatur über emen weite« Bereich von beifallen die Löslichkeiten des Arsens und des Phosphors spielsweise etwa 200 C herabgesetzt werden.
DE19702046499 1969-09-20 1970-09-21 Verfahren zur Herstellung von Galliumarsenidphosphid-Halbleiterni a ten al Expired DE2046499C3 (de)

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