DE2041872C3 - Verfahren zum Abgleich vorzugsweise in Dünnschichttechnik hergestellter Widerstandsnetzwerke - Google Patents
Verfahren zum Abgleich vorzugsweise in Dünnschichttechnik hergestellter WiderstandsnetzwerkeInfo
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 7
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 1
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000002427 irreversible Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000006011 modification reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001131 transforming Effects 0.000 description 1
Description
30
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Abgleich vorzugsweise in Dünnschichttechnik hergestellter
Widerstandsnetzwerke durch programmierte Abtragung von Teilen der Widerstandsschicht.
Ein derartiges Verfahren ist aus der DT-AS 12 92 418
bekannt
Bei bekannten Verfahren zum programmierten Abgleich von in Dünnschichttechnik hergestellten
Widerstandsnetzwerken werden beispielsweise mittels eines Elektronenstrahls Teile der homogenen Widerstandsschicht
herausgetrennt, bis eine an zwei Kontaktpunkten anliegende Meßvorrichtung das Erreichen des
programmierten Widerstandswertes signalisiert und den Elektronenstrahl abschaltet. Dieses Verfahren ist
geeignet, Präzisionswiderstandsnetzwerke mit sehr hoher Genauigkeit abzugleichen. Es können jedoch nur
solche Widerstandsnetzwerke aus diskreten Widerständen abgeglichen werden, die durch einen Graphen mit
baumartigem Charakter repräsentiert werden oder solche, deren sämtliche Widerstände in eine einzige,
entsprechend kontaktierte Widerstandsfläche integriert sind. Die letztgenannte Ausführung ermöglicht nur
einen Abgleich der Dämpfungs- und Wellenleiter-Parameter, nicht aber der einzelnen Widerstände an sich; sie
ist also auf Dämpfungsvierpole beschränkt Widerstandsnetzwerke, die eine Widerstandsmasche aus drei
oder mehr diskreten Widerständen aufweisen, können nach diesen Verfahren nicht abgeglichen werden. Ein
Notbehelf besteht darin, die Widerstandsmasche aufzutrennen, was jedoch zu einer Erhöhung der Anzahl der
Anschlußkontakte führt und daher nicht in jedem Fall durchführbar ist. Die Ursache für diese Beschränkung ist
folgende: Bei einer Masche von η (η δ; 3) Einzelwiderständen
ivi.. .ivn liegt anfangs parallel zu dem beispielsweise
zuerst abgeglichenen Einzelwiderstand wi die Reihenschaltung der η - 1 unabgeglichenen Einzel
widerstände m...wn. die ihrem Werte nach nicht
bekannt sind. Es läßt sich somit auch kein berechenbarer Wert programmieren, auf den der Abgleich von m zu
erfolgen hätte.
Weiter ist es bekannt, jeweils nur einen Widerstand eines Widerstandsnetzwerkes iterativ oder pulsierend
abzugleichen. Dadurch schränkt man Ungerauigkeiten
ein, die aus irreversiblen Änderungen der entscheidenden Schichteigenschaften bei der Hitzeeinwirkung des
Abgleichverfahrens entstehen. Man könnte damit also sehr genaue Werte des resultierenden Widerstandes
einer Masche erreichen, aber keine vermaschten Netzwerke, deren sämtliche Widerstände geringste
Abweichungen vom Sollwert aufweisea
Schließlich ist es bekannt, unvermaschte T-Schaltungen
von Widerständen in unsymmetrischer topologischer Anordnung der Widerstandsschicht abzugleichea
Zu solchen T-Schaltungen lassen sich zwar nach den bekannten Vierpol-Transformationsformeln entsprechende
ji-Schaltungen berechnen, aber für bestimmte
Fälle, wie kleinen Serienwiderstand des Netzwerkes oder Aufteilung großer Dämpfungswerte in sogenannte
Kettenleiter läßt es sich nicht vermeiden, ausdrücklich vermaschte π -Schaltungen abzugleichen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Abgleich vorzugsweise in Dünnschichttechnik
hergestellter Widerstandsnetzwerke durch programmierte Abtragung von Teilen der Widerstandsschicht
ohne Auftrennung von Maschen der Widerstandsnetzwerke anzugeben.
Diese Aufgabe wird gelöst indem die vermaschten, in symmetrischer bzw. asymmetrischer π-Schaltung vor
liegenden Einzelwiderstände iterativ, mehrfach nachein ander nach Art der zyklischen Vertauschung auf durch
ein Programm vorgegebene, von Iterationsschritt zu Iterationsschritt zunehmende Werte des resultierenden
Widerstandes zwischen den Maschenanschlußpunkten abgeglichen werden.
Dabei ist es zweckmäßig, wenn Einzelwiderstände in symmetrischer Anordnung gleichzeitig abgeglichen
werden.
Schließlich ist es zweckmäßig, wenn vor dem ersten Abgleichschritt eine Messung der Werte des resultierenden
Widerstandes zwischen den Maschenanschlußpunkten durchgeführt wird und danach eine Entscheidung
zwischen mehreren Programmen oder mehreren Anfangspunkten eines Programms erfolgt
Das erfindungsgemäße Verfahren erlaubt es, Netzwerke mit Widerstandsmaschen in beliebiger Genauigkeit
abzugleichen.
Die Erfindung wird nachstehend an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert. Die Zeichnung zeigt eine
Dreieckschaltung, deren Abgleich nach dem erfindungsgemäßen Verfahren im einzelnen beschrieben wird,
sowie die dazu notwendigen Definitionen.
Auf einem Substrat soll eine Dreieckschaltung der drei Einzelwiderstände wa, ws und m abgeglichen
werden. Im Endzustand sollen dann an den drei Maschenanschlußpunkten 1, 2 und 3 die Widerstandswerte
W12 =
W4 W5 + W„
ι
W4 + W„
«31 =
— Γ
>v4
erreicht sein. Die entsprechenden Wirlerstandswerte im
unbearbeiteten Zustand seien ίο, uo und vo. Der Abgleich
erfolgt nun nach dem folgenden Schema:
Abgleich von w\2 | auf ίι |
W23 | Ul |
ws\ | Vl |
W\2 | b |
TV23 | ID |
Wi\ | V2 |
W12 | ti |
W23 | Ui |
Wl\ | Vi |
wobei die Werte t:, w und v/ folgenden Bedingungen
genügen:
ίο min < η < ö <
... < ti < ... uo min < m < ui
< ... < ui < ... vo min < vi < vi
< ... < vi < ...
und tomin, uo min und vo min die bei der Gesamtheit der zu
bearbeitenden Substrate zu erwartenden Minimalwerte von to, uo und vo sind.
Damit unter diesen Bedingungen keine Programmschritte umsonst abgefahren werden, wenn im Einzelfall
ίο, uo und vo größer als ii, ui und vi eines bestimmten
Programms sind, ist es zweckmäßig, jene Werte vor dem ersten Abgleichschritt zu messen und manuell oder
automatisch entweder ein anderes Programm auszuwählen, dessen ft, in und η größer sind oder aber andere
Anfangspunkte ti, w und v·, die dieser Bedingung
genügen, im gleichen Programm auszuwählen.
Die erste wirkliche Bearbeitung erfolgt naturgemäß erst dann, wenn erstmalig ύ
> to bzv. w > uo usw. ist. Die Werte von ti, w und v>
werden zweckmäßigerweise so gestaffelt, daß, nachdem die Bearbeitung erstmalig
eingesetzt hat, durch jeden weiteren Iterationsschritt eine weitere Bearbeitung erfolgt, daß also gilt:
f, > H12l„, USW.
Modifizierungen des erfindungsgemäßen Verfahrens sind dadurch möglich, daß nicht jeder Einzelwiderstand
in jedem Iterationszyklus bearbeitet werden muß. Desgleichen können durch Ausnutzung geometrischer
Gegebenheiten, wie symmetrische Anordnung, Iterationsschritte eingespart werden.
Nach diesem Verfahren können Dämpfungsglieder in symmetrischer bzw. asymmetrischer jr-Schaltung auf
Dünnschichtschaltkreisen mit beliebiger, nur durch das Abgleichgerät begrenzter Genauigkeit hergestellt werden.
Weitere Anwendungsfälle sind Dünnschichthybridschaltkreise, wie Flip-Flops, welche Widerstandsmaschen
enthalten.
Denkbar, wenn auch nicht so vorteilhaft, ist auch die Anwendung dieses Verfahrens auf Widerstandsnetzwerke
in Dickschichttechnik oder aus zusammengebauten diskreten Schichtwiderständen.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (3)
1. Verfahren zum Abgleich vorzugsweise in Dünnschichttechnik hergestellter Widerstandsnetzwerke
durch programmierte Abtragung von Teilen der Widerstandsschicht, dadurch gekennzeichnet,
daß die vermaschten, in symmetrischer bzw. asymmetrischer jr-Schaltung vorliegenden
Einzelwiderstände (w; ws; m) iterativ, mehrfach
nacheinander nach Art der zyklischen Vertauschung auf durch ein Programm vorgegebene, von Iterationsschritt
zu Iterationsschritt zunehmende Werte des resultierenden Widerstandes zwischen den
Maschenanschlußpunkten (1; 2; 3} abgeglichen werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß Einzelwiderstände (ws; Wb) in symmetrischer
Anordnung gleichzeitig abgeglichen werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß vor dem ersten Abgleichschritt
eine Messung der Werte des resultierenden Widerstandes zwischen den Maschenanschlußpunkten (1;
2; 3) durchgeführt wird und danach eine Entscheidung zwischen mehreren Programmen oder mehreren
Anfangspunkten eines Programms erfolgt.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD14276269 | 1969-09-26 | ||
DD14276269 | 1969-09-26 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2041872A1 DE2041872A1 (de) | 1971-04-08 |
DE2041872B2 DE2041872B2 (de) | 1976-03-11 |
DE2041872C3 true DE2041872C3 (de) | 1976-10-28 |
Family
ID=
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