DE2032590C2 - Verfahren zur schrittweise wiederholten Bestrahlung eines für eine Bestrahlung durch Elektronen empfindlichen Materials auf einem Halbleiterplättchen, in dem Halbleiterbauelemente hergestellt werden sollen, mit einem Elektronenstrahl - Google Patents
Verfahren zur schrittweise wiederholten Bestrahlung eines für eine Bestrahlung durch Elektronen empfindlichen Materials auf einem Halbleiterplättchen, in dem Halbleiterbauelemente hergestellt werden sollen, mit einem ElektronenstrahlInfo
- Publication number
- DE2032590C2 DE2032590C2 DE19702032590 DE2032590A DE2032590C2 DE 2032590 C2 DE2032590 C2 DE 2032590C2 DE 19702032590 DE19702032590 DE 19702032590 DE 2032590 A DE2032590 A DE 2032590A DE 2032590 C2 DE2032590 C2 DE 2032590C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- electron beam
- irradiation
- alignment
- signals
- semiconductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/304—Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
- H01J37/3045—Object or beam position registration
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB3355569A GB1291575A (en) | 1969-07-03 | 1969-07-03 | Methods and apparatus for the production of semiconductor devices by electron-beam patterning and devices produced thereby |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2032590A1 DE2032590A1 (de) | 1971-01-21 |
DE2032590C2 true DE2032590C2 (de) | 1983-09-01 |
Family
ID=10354462
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19702032590 Expired DE2032590C2 (de) | 1969-07-03 | 1970-07-01 | Verfahren zur schrittweise wiederholten Bestrahlung eines für eine Bestrahlung durch Elektronen empfindlichen Materials auf einem Halbleiterplättchen, in dem Halbleiterbauelemente hergestellt werden sollen, mit einem Elektronenstrahl |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS553812B1 (xx) |
DE (1) | DE2032590C2 (xx) |
FR (1) | FR2060026B1 (xx) |
GB (1) | GB1291575A (xx) |
NL (1) | NL7009364A (xx) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW208757B (xx) * | 1992-01-09 | 1993-07-01 | Samsung Electronics Co Ltd | |
DE10011202A1 (de) * | 2000-03-08 | 2001-09-13 | Leica Microsys Lithography Ltd | Verfahren zur Ausrichtung eines Elektronenstrahls auf eine Zielposition an einer Substratoberfläche |
-
1969
- 1969-07-03 GB GB3355569A patent/GB1291575A/en not_active Expired
-
1970
- 1970-06-25 NL NL7009364A patent/NL7009364A/xx unknown
- 1970-07-01 JP JP5767570A patent/JPS553812B1/ja active Pending
- 1970-07-01 DE DE19702032590 patent/DE2032590C2/de not_active Expired
- 1970-07-01 FR FR7024346A patent/FR2060026B1/fr not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1291575A (en) | 1972-10-04 |
FR2060026A1 (xx) | 1971-06-11 |
DE2032590A1 (de) | 1971-01-21 |
NL7009364A (xx) | 1971-01-05 |
JPS553812B1 (xx) | 1980-01-26 |
FR2060026B1 (xx) | 1976-03-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0191440B1 (de) | Lithografiegerät zur Erzeugung von Mikrostrukturen | |
EP0191439B1 (de) | Aperturblende mit zeilenförmiger Mehrlochstruktur und Austastelektroden zur Erzeugung einer Mehrzahl von individuell austastbaren Korpuskularstrahlsonden für ein Lithografiegerät | |
EP0467076B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Mikrostrukturen auf einem lichtempfindlich beschichteten Substrat durch fokussierte Laserstrahlung | |
DE2659247A1 (de) | Elektronenstrahlenbuendel benutzendes, lithografisches system | |
US3875416A (en) | Methods and apparatus for the production of semiconductor devices by electron-beam patterning and devices produced thereby | |
DE2222665A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Ausrichten von Elektronenprojektionssystemen | |
DE1764939A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung integrierter Schaltkreise mit Hilfe eines Elektronenstrahls | |
DE2056620A1 (de) | Vorrichtung zur Belichtung von Halb leiterelementen | |
DE2516390A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum herstellen mikrominiaturisierter bauelemente | |
DE2811553A1 (de) | Vielfachelektronenstrahlenbuendel- expositionssystem | |
DE2332091A1 (de) | Fokussierbare und ausrichtbare elektronenstrahlprojektionsvorrichtung | |
DE2234803A1 (de) | Elektronische vorrichtung zur herstellung von masken fuer mikrokreise | |
DE3825892C2 (de) | Verfahren zum Zeichnen eines Musters auf eine Leiterplatte in einer Elektronenstrahl-Direktzeichenvorrichtung | |
DE2620262A1 (de) | Rechner-gesteuertes elektronenstrahllithographie-verfahren | |
DE2647855A1 (de) | Verfahren zum projizieren eines buendels aus geladenen partikeln | |
DE2260229B2 (xx) | ||
DE2149344A1 (de) | Verfahren und Anordnung zur Beaufschlagung genau angeordneter Gebiete eines Elementes mit einem Elektronenstrahl bestimmter Gestalt | |
DE10020714A1 (de) | Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung | |
EP0028585A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Korpuskularbestrahlung | |
DE3510961C2 (xx) | ||
DE2146941A1 (de) | Strahlenformungs- und Abbildungssystem | |
DE19716240A1 (de) | Fotoplott-Verfahren und Anordnung zur Aufzeichnung eines computergespeicherten Rasterbildes auf einen ebenen lichtempfindlichen Aufzeichnungsträger | |
DE2805602C2 (xx) | ||
DE19522362A1 (de) | Elektronenstrahl-Schreibvorrichtung und -Verfahren | |
DE19638109A1 (de) | Elektronenstrahl-Lithographie-System |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition |