DE2027301A1 - Verfahren und Vorrichtung zur Bildung eines Überzugs an Gegenständen - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zur Bildung eines Überzugs an GegenständenInfo
- Publication number
- DE2027301A1 DE2027301A1 DE19702027301 DE2027301A DE2027301A1 DE 2027301 A1 DE2027301 A1 DE 2027301A1 DE 19702027301 DE19702027301 DE 19702027301 DE 2027301 A DE2027301 A DE 2027301A DE 2027301 A1 DE2027301 A1 DE 2027301A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- cleaning
- electrode
- objects
- holder
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 51
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 46
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 43
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 37
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 28
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 18
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 15
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 14
- 238000011109 contamination Methods 0.000 claims description 10
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 6
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 4
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000002689 soil Substances 0.000 claims description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 10
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 5
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 3
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 101100387135 Caenorhabditis elegans dex-1 gene Proteins 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000017606 Vaccinium vitis idaea Nutrition 0.000 description 1
- 244000077923 Vaccinium vitis idaea Species 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 210000004072 lung Anatomy 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000013517 stratification Methods 0.000 description 1
- 238000010407 vacuum cleaning Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/36—Gas-filled discharge tubes for cleaning surfaces while plating with ions of materials introduced into the discharge, e.g. introduced by evaporation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
Patentanwälte Dipl.-Ing. F. Weickmann, 20273
Dipl.-Ing. H. Weickmann, Dipl.-Phys. Dr. K. Fincke
Dipl.-Ing. F. A.Weickmann, Dipl.-Chem. B. Huber
8 MÜNCHEN 86, DEN 5 .Hunt''-
POSTFACH 860 820
Eversharp Inc.f
Webster Road, Milford, Connecticut/V.St,v.A.
Verfahren und Vorrichtung zur Bildung eines Überzugs an Gegenständen
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Heinigen wenigstens
eines Teils eines Gegenstands und zur Bildung eines dünnen» gleichrnässigen Überzugs an diesem Teil, wobei der
Gegenstand ±m wesentlichen frei von einer atmosphärischen
Verunreinigung gehalten wird. Sie betrifft weiterhin eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Vei'f ahrens.
Vom Standpunkt der Haltbarkeit und der Wirtschaftlichkeit
ist es erwünscht, extrem dünne, sehr reine und gleichmäeeige
Metall-, Legierungs- od.dgl. harte Überzug© an den
geschärften Kanten von Schneidinstrumentön, z.B. Rasier-
0QiSSO/1002 BAD ORIGINAL
klingen zu erhalten. Verfahren und Vorrichtungen, um wirtschaftlich und wiederholbar solch dünne Überzüge
an den schneidenden Flächen, z.B. den Messerschneiden zu bilden, sind bekannt. Die in bekannter Weise hergestellten
Überzüge der Schneidinstrumente beßitzen
ο
eine Dicke von 50 bis 800 A und vorzugsweise von 100
eine Dicke von 50 bis 800 A und vorzugsweise von 100
ο
bis 200 A. Eine solche Dicke ist ausreichend, um die Schneidkante gegen eine vorzeitige Abnutzung und Korrosion zu schützen, jedoch ausreichend dünn genug, um ein schnelles Abstumpfen der Kante des Instruments zu verhindern. Ein grundlegender Vorteil der vorgeschlagenen Zerstäubungsverfahren besteht darin, dass das Schneidinstrument bis zu einem gewünschten Schärfungsgrad geschliffen und abgezogen werden kann und danach mit einem Überzug aus einem harten Metall oder einer Legierung überzogen werden kann, ohne dass es abstumpft. Es ist nicht nötig, eine Kante an einem harten Überzugsmaterial zu bilden oder eine einem Instrument zuvor verliehene ^ante zu schärfen, nachdem sie gehärtet wurde. Derart überzogen© Kantenflächen können auch leicht mit schmierenden Überzugsmaterialien, z„B» Kunststoffmaterialien, Silikonschmiermitteln od,dgl» in bekannter Weise überzogen werden. Die auf diese Weise-hergestellten Gegenstände besitzen eine unübertroffen© Qualität b©i einer angemessenen- Wirtschaftlichkeit und einer aussergewöhnlichen Haltbarkeit.
bis 200 A. Eine solche Dicke ist ausreichend, um die Schneidkante gegen eine vorzeitige Abnutzung und Korrosion zu schützen, jedoch ausreichend dünn genug, um ein schnelles Abstumpfen der Kante des Instruments zu verhindern. Ein grundlegender Vorteil der vorgeschlagenen Zerstäubungsverfahren besteht darin, dass das Schneidinstrument bis zu einem gewünschten Schärfungsgrad geschliffen und abgezogen werden kann und danach mit einem Überzug aus einem harten Metall oder einer Legierung überzogen werden kann, ohne dass es abstumpft. Es ist nicht nötig, eine Kante an einem harten Überzugsmaterial zu bilden oder eine einem Instrument zuvor verliehene ^ante zu schärfen, nachdem sie gehärtet wurde. Derart überzogen© Kantenflächen können auch leicht mit schmierenden Überzugsmaterialien, z„B» Kunststoffmaterialien, Silikonschmiermitteln od,dgl» in bekannter Weise überzogen werden. Die auf diese Weise-hergestellten Gegenstände besitzen eine unübertroffen© Qualität b©i einer angemessenen- Wirtschaftlichkeit und einer aussergewöhnlichen Haltbarkeit.
Für die Herstellung von Massenprodukten besteht jedoch die Notwendigkeit, die bisherigen Verfahren und Vorrichtungen
derart zu verbessern» dasa höhere Produktionsgesohwlndigkeiten,
eine besser© Qualitätskontrolle
009860/1602 · . BAD original
und eine einfachere-und sichere Materialbehandlung möglich
wird. Auch besteht die Notwendigkeit für Vorrichtungen, die im Hinblick auf eine Vereinfachung der Vorbehandlung
der zu überziehenden Gegenstände verbessert sind und die eine grössere Vielseitigkeit und Zuverlässigkeit im Betrieb ergeben. Auch ist es nötig, vereinfachte
Vorrichtungen zu schaffen, die die Durchführung eines Verfahrens aus mehreren Schritten in einer
einzigen, einheitlichen Vorrichtung ermöglichen.
Man erreicht dies gemäss der Erfindung dadurch, dass ™
der Gegenstand in einem evakuierten Bereich angeordnet wird, der/eine Prallelektrode mit einem Überzugsmaterial
darauf aufweist, dass ein hohes elektrisches Potential an die Prallelektrode und an den Gegenstand gelegt wird,
und dass kleine Mengen eines inerten Gases in den Bereich geleitet werden, um die Oberfläche des Teils des
Gegenstandes dadurch zu reinigen, dass Atome von der Oberfläche entfernt werden und dass der Teil des Gegenstands
dadurch überzogen wird, dass die Oberflächenatome des Überzugsmaterials von der Prallelektrode zerstäubt
und auf diesem Teil des Gegenstands abgelagert werden, wobei während der Reinigung und Ablagerung kein Λ
Verlust an Vakuum in dem evakuierten Bereich auftritt.
Zur Durchführung dieses Verfahrens kann eine Vorrichtung verwendet werden, die sich auszeichnet durch eine
Einrichtung zur Bildung eines evakuierten Bereichs, eine Einrichtung zur Zuführung kontrollierter Mengen
eines inerten Gases in den evakuierten Bereich, eine in dem evakuierten Bereich angeordnete Einrichtung
zum Halten wenigstens eines zu überziehenden Gegenstands, eine Ummantelung für den Halter und die von
009-8 60/160-2-
ihm gehaltenen Gegenstände, eine Einrichtung zur Bildung eines unterschiedlichen elektrischen Potentials an der
Ummantelung und dem Halter und den ihm zugeordneten Gegenständen, einen Schirm,der einen Teil der Ummantelung
bildet und zwischen wenigstens zwei Stellungen verschiebbar ist, nämlich einer offenen zur Bildung
einer Verbindung zwischen dem Aussenraum der Ummantelung
und dem Halter und den zugeordneten Gegenständen,
wenn der Halter in der Ummantelung so angeordnet ist, dass er mit einer Öffnung der Ummantelung übereinstimmt,
und einer geschlossenen Stellung, um die Gegenstände in
der Ummantelung gegen durch die Öffnung eindringendes Material zu schützen, eine Prallelektrode, die aus serhalb
der Ummantelung gegenüber dem in der geschlossenen
Stellung befindlichen Schirm angeordnet ist, und eine Einrichtung, um der Prallelektrode eine HP-1/vechselspannung
zur Bildung eines elektrischen Potentials an der Prallelektrode zuzuführen«
Es besteht die Möglichkeit, die Reinigung eines Gegenstand durch aufeinanderfolgende oder gleichzeitig erfolgende
Vorgänge in einer einzigen evakuierten Kammer durchzuführen, ohne dass das zur Erzielung- der Bedingungen,
unter denen eine Zerstäubung stattfindet,
nötige Vakuum unterbrochen wird.
Während der Säuberung der Prallelektrode, die als
des tJberzugsmaterials dient, wird der Gegenstand von
einer Verunreinigung durch das Material, von dem die Prallelektrode gesäubert wird, geschützt, und danach
wird der Gegenstand dadurch überzogen, dass er dem von
009850/1602 bad origsnal
der Prallelektrode zerstäubten Überzugsmaterial ausgesetzt wird.
Der Gegenstand kann auch dadurch gereinigt werden, dass er vor der Bildung des Überzugs durch Zerstäubung einer
Glimmentladung in einer Hochvakuumkainmer ausgesetzt
wird.
Es kann auch die sogenannte Umkehrzerstäubung angewandt
werden, um den zu überziehenden Gegenstand vor der Bildung des Überzugs zu reinigen. %
Bei einer Säuberung eines Gegenstands durch Glimmentladung
oder Umkehrzerstäubung kann eine Zerstäubungsätzung durchgeführt werden, auf die die Bildung des
Überzugs des Gegensbandsmit einem zerstäubten Überzugsmaterial erfolgt. Alle diese Vorgänge können in der
gleichen Vorrichtung durchgeführt werden.
Ein Gegenstand kann in einem hohen Vakuum gereinigt und
überzogen werden, ohne dass es erforderlich ist, zwi schen den einzelnen Verfahrensschritten das Vakuum zu
unterbrechen. -M
Ein Gegenstand kann in einer Hochvakuumatmosphäre gereinigt
und in dex1 gleichen Atmosphäre überzogen werden, wobei er gegen atmosphärische od.dgl. Verunreinigungen
zwischen der Reinigung und der Bildung des Überzugs geschützt ist.
Es ist möglich, uiohrei'e Gegenstände in einer gewünschten
iolge oder gleichzeitig in dem Hochvakuum zu reinigen
und zu überziehen·
009850/1002
Die Vorrichtung zum Reinigen und zur Bildung eines Überzugs besitzt eine Vakuumkammer» eine Einrichtung» um
mehrere zu überziehende Gegenstände zu halten und sie aufeinanderfolgend an einer Station zur Bildung des
Überzugs vorbei zuführ en, sowie eine Einrichtung-, um ein
elektrisches HF-Feld'entweder abwechselnd oder gleichzeitig zwischen die Prallelektrode und Erde und die zu
überziehenden Gegenstände und Erde zur Reinigung und zur Bildung des Überzugs des Gegenstandes in der gewünschten
Weise zu erze^igen.
Die Einrichtung zum Halten und Bewegen der zu überziehenden Gegenstände in der Vakuumkammer besitzt eine Einrichtung,
um die Kanten während der Reinigung nahezu parallel zu einer umgebenden Fläche zu halten» sowie eine Einrichtung,
um einen oder mehrere Gegenstandshalter während eines relativ kleinen Teils des Bewegungszyklus der
G-egenstandshalter in einem gewünschten Mass um ihre
eigene Achse zu drehen und sie xvährend eines relativ grossen Teils ihres Drehzyklus drehfest zu halten.
Die Vorrichtung besitzt vorzugsweise eine einzige Einrichtung,
um die zu überziehenden Gegenstände dem von der
Prallelektrode zerstäubten Überzaigsmaterial in einer Stellung
der Einrichtung auszusetzen und sie gegen eine Verunreinigung
des von der Prallelektrode zerstäubten Materials
während deren Reinigung in einer weiteren Stellung der Einrichtung zu schützen» die auch dazu dient» um die
Reinigung dar Prallelektrod© au unterstützen.» bevor das
Prallalektrodenmaterial auf die zu überziehenden Gegenstände
zerstäubt wird«
HF-Energie kann der Prallelektrode und einem zu überziehenden
Gegenstand zugeführt werden, wobei die Prallelektrode und der Gegenstand unterschiedliche elektrische Potentiale
annehmen können, so dass zwischen beiden ein erheblicher Potentialunterschied besteht, wobei wenigstens in einen
evakuierten Bereich zwischen den Gegenständen und der
Prallelektrode kleine Mengen eines inerten Gases eingerührt werden, dessen Atome durch die sich in der Kammer
bewegenden Elektronen ionisiert werden und auf den Gegenstand und die Prallelektrode in unterschiedlichen Mengen
treffen. Jede Kollision eines ionisierten Atoms mit dem ä
Gegenstand oder der Prallelektrode bewirkt die Zerstäubung eines oder mehrerer Oberflächenatome, wobei gleichzeitig
eine geringere Menge die Oberfläche des Gegenstands reinigt
und eine grössere Menge des Überzugsmaterials zu dem Gegenstand
zerstäubt wird. .
Im folgenden wird die Erfindung anhand von in den Figuren 1 bis 9 dargestellten Ausführungsbeispielen erläutert.
Es zeigt:
Fig. 1 einen Vertikalschnitt durch einen Teil der Vakuumkammer
der Vorrichtung gemäss der Erfindung, aus dem einige wichtige Teile der Vorrichtung her- %
vorgehen,
Fig. 2 eine Aufsicht der Vorrichtung der Fig. 1, die
teils geschnitten ist und bei der teils bestimmte Elemente weggebrochen sind,
Fig. 3 ein schematiachea Schaltbild der elektrischen
Einrichtung der Vorrichtung,
009850/1602
Fig. h ein schernatisches Schaltbild der Energiequelle,
der Wechselstromquelle und des Impedaiizanpassungsnetzwerks
der Vorrichtung,
Fig. 5 eine schematisehe Darstellung, aus der die Arbeitsweise
eines Teils der elektrischen Einrichtung der Vorrichtung bei einer Betriebsart zur
Reinigung einer Rasierklinge hervorgeht,
Fig. 6 eine schemel ti sehe Darstellimg, aus der die Arbeitsweise
der elektrischen Einrichtung in einer anderen iietriebseirt zur lieinj ßung der Kudierklingen
mittels eines weiteren Verfahrens hervorgeht ,
Fig. ? eine Aufsicht einer weiteren Ausführungsform der
Vorrichtung gemäss der Erfindung, die teilweise
horizontal geschnitten ist und bei der bestimmte Teile weggebrochen sind,
Fig. Ii einen Vertikalschnitt, aus dem die Arbeitstvei se
eines Teils der Vorrichtung hervorgeht, um Gruppen von zu überziehenden Gegenständen im
Betrieb in einer gewünschten Stellung auszurichten und sie um eine bestimmte Achse zu drehen
und die Ausrichtung an einer bestimmten Stelle der Vorrichtung umzukehren", und
Fig. 9 eine Teilansicht der Schutzeinrichtung für die
Gegenstände, aus der die Arbeitsweise und eine
weitere Stellung der Vorrichtung in gestrichelten
Linien hervorgeht.
009850/1602 bad
Bei dem ersten, im folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiel findet die Reinigung aller zu überziehender
Gegenstände statt, bevor die Gegenstände oder die Gruppen von Gegenständen überzogen werden.
Gegenstände statt, bevor die Gegenstände oder die Gruppen von Gegenständen überzogen werden.
Die iiguren 1 und 2 zeigen eine Vorrichtung 10 zum kombinierten
Reinigen und überziehen von Gegenständen, die schema tisch gezeigt 1st und die eine Grundplatte 12 besitzt,
eine Einrichtung zur .Bildtang eines Vakuumbereichs in Form eines äusseren, vakuumdichten Gehäuses 14, in ä
dem eine Einrichtung 16 zur Aufnahme und zum Behandeln
von zu überziehenden Gegenständen angeordnet ist, die
ein ringförmiges Untergestell 18, einen Isolierring 20, einen unteren Kugellagerlaufring 22, mehrere Kugellager 2'I, einen oberen Kugellagerlaufring 26 und einen angetriebenen Ring 28 aufweist, der mehrere Gegenstandshalter 30 in Form von Bajonettvorrichtungen zum Halten
mehrerer Gegenstände 32 aufweist. Der angetriebene Ring 28 besitzt einen äusseren Zahnkranz 34, der mit den
Zähnen 'j6 eines Ritzels 38 kämmt, das von einer Stummelwelle 40 angetrieben wird. Jeder Halter 30 besitzt vertikal angeordnete Stäbe 42, die in einer ringförmigen Halterung 44 aufgenommen sind, die eine untere Verlangerung 46 besitzt, die drehbar in Kugellagern 48 gelagert ist und die weiterhin ein unteres Zahnrad 50 besitzt,
das fest daran angeordnet ist. Äussere Zähne 52 sind an dem Zahnrad zur Aufnahme einer Kette 54 vorgesehen. Die Kette 54 besitzt Teile, die an den Zähnen 56 an dem
Ausaenumiang eines mittleren, starren Kettenzahnrads 58 angreifen, das an einer Nabe 6O befestigt ist, das gegen einen elektrischen Kontakt durch einen Isolator 62 geschützt ist. Die Lager 48 greifen an der Aus senflache
von zu überziehenden Gegenständen angeordnet ist, die
ein ringförmiges Untergestell 18, einen Isolierring 20, einen unteren Kugellagerlaufring 22, mehrere Kugellager 2'I, einen oberen Kugellagerlaufring 26 und einen angetriebenen Ring 28 aufweist, der mehrere Gegenstandshalter 30 in Form von Bajonettvorrichtungen zum Halten
mehrerer Gegenstände 32 aufweist. Der angetriebene Ring 28 besitzt einen äusseren Zahnkranz 34, der mit den
Zähnen 'j6 eines Ritzels 38 kämmt, das von einer Stummelwelle 40 angetrieben wird. Jeder Halter 30 besitzt vertikal angeordnete Stäbe 42, die in einer ringförmigen Halterung 44 aufgenommen sind, die eine untere Verlangerung 46 besitzt, die drehbar in Kugellagern 48 gelagert ist und die weiterhin ein unteres Zahnrad 50 besitzt,
das fest daran angeordnet ist. Äussere Zähne 52 sind an dem Zahnrad zur Aufnahme einer Kette 54 vorgesehen. Die Kette 54 besitzt Teile, die an den Zähnen 56 an dem
Ausaenumiang eines mittleren, starren Kettenzahnrads 58 angreifen, das an einer Nabe 6O befestigt ist, das gegen einen elektrischen Kontakt durch einen Isolator 62 geschützt ist. Die Lager 48 greifen an der Aus senflache
000050ΛΙΒ.02 B*° 0^
mehrerer Hülsen 6k,an, die in dem angetriebenen Ring
angeordnet sind; im Betrieb bewirkt eine Drehung des Rings 28 um die Achse des Kettenzahnrads 58 eine epizyklische
Drehung der Zahnräder 50 und damit eine Drehung eines jeden Halters 30 um seine eigene Achse.
Somit bewirkt eine Drehung des Rings 28 um seine Achse eine Drehung des Halters 30 um seine eigene Achse, so
dass ein bestimmter Teil, z.B. die Kante 66 einer Klinge oder eines anderen Gegenstandes 32, die an dem
Halter 30 gehalten wird, abwechselnd pro volle Umdrehung
des Rings 28 parallel zu einer bestimmten Stelle ausgerichtet wird. Dies bedeutet, dass der Aussenurafang
der Zahnräder 50, 58 so gewählt werden kann, dass sich der Halter 30 um eine halbe Umdrehung pro volle
Umdrehung des Rings 28 dreht.
Bei der in Fig. 1 und 2 gezeigten Ausführungsform ist
ein Motor 68 vorgesehen, der eine Welle 70 besitzt, die ein Antriebskegelrad 72 aufweist, das mit einem
angetriebenen Kegelrad 7^ in Eingriff steht, das starr
an der Stummelwelle k0 befestigt ist. Damit werden der
Ring 28 und die ihm zugeordneten Teile in der oben erläuterten Weise gedreht.
Wie in den Figuren 1 und 2 gezeigt ist, ist eine Einrichtung vorgesehen, um die an den Haltern 30 oder
anderen Gegenstandshaltern befestigten Gegenstände 32 gegen eine unerwünschte Verunreinigung zu schützen
und die Reinigung dieser Gegenstände zu unterstützen. Diese Einrichtung besteht aus einer Ummantelung 76,
die an der Innenseite einen zylindrischen Kanal 78 be-
009850/1602
grenzt. Die Ummantelung 76 besitzt eine aussere Wand
80, eine innere Wand 82, eine obere Wand 84 und eine
isolierende Tragplatte 86, die an dem Deckelteil 88 des Gehäuses 14 befestigt ist. Die Unterkante 90 der
Ummantelung 76 befindet sich dicht an der Oberseite
des Rings 28, so dass die Gegenstände 32, die auf den Stäben 42 der Halter 43 befestigt sind, während der
Drehung des Rings 28 mit Ausnahme an der Unterseite völlig umschlossen sind.
Aus Fig. 2 ist eine Öffnung 92 ersichtlich, die in
einem Teil der äusseren Wand 80 der Ummantelung 76
vorgesehen ist und die von gegenüberliegenden Stirnseiten
94, 96 der Wand 80 begrenzt wird. In der Öffnung
92 ist ein beweglicher Schirm 98 zum Schutz der
Gegenstände 32 gegen eine Verunreinigung angeordnet,
die durch die Öffnung 92 erfolgen könnte. Der Schirm 98 ist entfernbar bündig in der Öffnung 92 aufgenommen,
d.h., dass die Kanten 100, 102 des Schirms 98
an den Stirnseiten 94, 96 anliegen. Stifte 1θ4, ΙΟ6
halten den Schirm 98 und legen dessen Bewegungsbahn in einer im einzelnen später beschriebenen Weise fest.
Wie in Fig. 2 durch gestrichelte Linien gezeigt ist, J
kann der Schirm 98 von der geschlossenen Stellung in
eine offene Stellung gebracht werden, in der er dicht an der Aussenseite der Wand 80 anliegt, so dass die
Gegenstände 32 für alle Partikel frei sind, die von einer Pralleinrichtung IO8, die in einem Gehäuseteil
110 des Gehäuses 14 aufgenommen ist, zerstäubt werden,
Fig. 1 zeigt, dass jede Wand 80, 82 eine Aussenseite 112, 114 und eine Innenseite II6, 118 und dazwischen
Heizelemente 120, 122 besitzt, deren Aufbau und
009850/1602
Arbeitsweise später näher erläutert werden. Die Pralleinrichtung 108 besitzt eine Dunkelraumabschirmun^ 124,
eine Prallelektrode 126 und eine Rückplatte 128·, die im folgenden näher beschrieben werden. Eine koaxiale Zuführeinrichtung
130» die später näher erläutert wird,
verläuft durch einen Rückwandteil 132 des Gehäuseteils
1 10.
Fig. 9 zeigt d3n Aufbau des Schirms 98 und der zugehörigen
Arbeitsteile. Ein Tragarm 134 ist an der Rückseite 136 des Schirms 98 befestigt und besitzt einen Antriebszahnsektor
138 und zwei Längsschlitze i4o, die jeweils
einen Führungszapfen 142 und einen Schwenkzapfen 144
aufnehmen. Zähne 146 sind an dem Sektor 138 angeordnet,
so dass eine Drehung der Welle 148 und des zugehörigen
Antriebszahnrads 130 den Arm 134 um eine bestimmte Entfernung
gerade nach vorne bewegt, wie durch die gestrichelten Linien angegeben ist, bis eine weitere
Drehung des Zahnrads I50 eine Schwenkbewegung des
Schirms 98 in die voll geöffnete Stellung bewirkt, die in Fig. 9 in gestrichelten Linien angegeben ist.
Eine Umkehr der Drehrichtung der Welle i4b und des
zugehörigen Zahnrads 150 bewirkt, dass der Schirm 98
in seine ursprünglich ausgefahrene Stellung geschwenkt und dann in eine Stellung zurückgezogen wird, in der
die von den Wänden 94, 96 der äusseren Wand 80 begrenzte
Öffnung geschlossen wird, üeeignete, nicht
gezeigte Isolatoren sind vorgesehen, um sicherzustellen,
dass der Schirm 98 und sein zugehöriger Mechanismus das
gleiche elektrische Potential wie die übrigen Teile der
Ummantelung 76 besitzen.
0 09850/1002 bad original
-■13-
In Fig. 3 sind weitere Einzelheiten der Zuführeinrichtung 130, der Pralleinrichtung 108 und bestimmte elektrische
Bauteile gezeigt. Die Rückplatte 128 besitzt ein kontinuierliches Rohr 152, dessen nahes Ende mit
dem inneren Kanal eines äusseren Kühlrohrs I56 in Verbindung
steht, in dem koaxial ein inneres Kühlrohr angeordnet ist, dessen inneres I60 mit dem entfernten
Ende des Rohrs 152 in Verbindung steht. Wasser oder
ein anderes ähnliches Kühlmittel strömt in Richtung der Pfeile, d.h. in die Rückplatte 128 der Pralleinrichtung
1OÖ durch das äussere Rohr I56 und dann durch
das Rohr 152 in der Rückplatte 128 und durch die Ausgangs
off nung 162 des inneren Rohrs 158. Eine Leitung 164 ist an der Aussenseite des äusseren Rohrs I56 befestigt
und dient als Anschluss an einen schematisch gezeigten HF-Generator 166. Ein keramischer Isolator
168 und eine Dichtung 1?0 bilden eine elektrische Isolation und eine Vakuumisolation. Die Prallplatte
126 ist elektrisch und auch wärmeübertragend an der
Rückplatte 128 angeordnet und besteht typischerweise aus reinem Chrom oder einem anderen Metall oder einer
anderen Legierung, die auf dem Gegenstand abgelagert werden soll. Die HUckplatte 128 besteht vorzugsweise
aus Kupfer oder einem ähnlich elektrisch und thermisch leitenden Material. Die Dunkelraumabschirmung \lih umgibt
diese haute!Io in der gezeigten Weise.
Fig. 'j zeigt auch schematisch eine Gleichspanriungsquelle
172, die an einem Anschluss λ'/k an eine» beweglichen Kon
takt 176 eines Schalters I78 unaohliessbar ist, so dass
in einer Stellung des Schalters I78 eine Verbindung zwischen der Glelchspannung&quelle 172, deren einer An-
00 98 50/1802
Schluss durch die Leitung 180 geerdet ist, und dem zu
überziehenden Gegenstand 32 hergestellt werden kann.
Eine HF-Quelle 182, die eine geerdete Leitung 184 an einem Anschluss besitzt, besitzt einen gegenüberliegenden
Anschluss 186, der an eine Leitung 188 angeschlossen ist, so dass auch zwischen der Quelle 182 und den
Gegenständen 32 eine Verbindung hergestellt werden kann. Ein weiterer Anschluss 190 ist mittels der Leitung
192 geerdet, so dass die Gegenstände 32 dadurch,
dass der Schalter I78 in eine geeignete Stellung gebracht
wird, geerdet werden kann. Eine Leitung 194 ist
vorgesehen, um den Schirm 98 gegebenenfalls durch den
Schalter I96 zu erden. Aus der folgenden Beschreibung
ergibt sich, dass bei einigen Ausführungsformen der
HP-Generator I66 und die HF-Quelle 182 eine Einheit und bei anderen Ausführungsformen verschiedene Einheiten
bilden können. Unabhängig davon zeigt Fig. 3» dass eine HF-Verbindung zwischen dem Generator I66 .
und der Prallelektrode 126 und der Rückplatte 128 hergestellt werden kann, dass der Schirm 98 geerdet oder
nicht geerdet werden kann, und dass die Gegenstände geerdet, an eine Gleichspannungsquelle oder eine HF-Quelle
angeschlossen werden können oder frei bleiben. Die genauen Anschlüsse und die Folge, in der sie durchgeführt
werden, werden in Verbindung mit der Beschreibung der Arbeitsweise der Vorrichtung erläutert.
Fig. 4 zeigt schematisch eine eine Prallelektrode 200 aufweisende Vakuumkammer 198, die über ein in der Anschlussleitung
206 angeordnetes Ableitventil 204 an eine Inertgasquelle 202 und elektrisch mit dem Abstimmbaren
HF-Generator und Verstärker 208 und dem
009850/1602
abstimmbaren PI-Anpassnetzwerk 210 durch die koaxiale Zuführeinrichtung 130 verbunden ist.
Der abstimmbare Generator und Verstärker 208 kann mittels
einer Leitung 212 an einen HP-Oszillator angeschlossen
werden. Eine Röhre 214 ist vorgesehen, um das HP-Signal
auf die gewünschte Grosse zu verstärken, und eine Induktivität
216 und zwei geerdete, einstellbare Kapazitäten 218, 220 sind an einen der beiden Anschlüsse der Induktivität
216 angeschlossen, um einen Resonanzkreis zu *
bilden, der typischerweise eine Resonanzfrequenz von
13,56 MHz besitzt. Das PI-Anpassnetzwerk 210 besitzt
eine geeignete Festwertkapazität 222 und eine einstellbare
Kapazität 224, die parallelgeschaltet sind, und weiterhin eine Induktivität 226 und eine zweite einstellbare
Kapazität 228 zwischen der Induktivität und der Prallelektrode 200. Das Anpassnetzwerk 210
passt die Impedanz des Ausgangskreises, der die Verstärkerröhre 214 und die zugehörige Schaltung umfasst,
an die Impedanz der Prallelektrode 200 an. Dies bedeutet,
dass die Prallelektrode 200, die gegen Erde isoliert ist, zusammen mit ihrer Induktivität 226 und der einstellbaren
Kapazität 228 für Gleichstrom einen offenen Ij
Stromkreis darstellt, jedoch bei einer bestimmten Frequenz eine definierte Wechselstromimpedanz besitzt, die
in der gezeigten oder einer anderen Weise an die Impedanz des das Signal liefernden Ausgangskreises angepasst
ist. Typischerweise besitzt der Ausgangskreis eine 50 Ohm-Impedanz und die Pralleinrichtung sollte
so abgestimmt sein, dass sie die gleiche Impedanz besitzt. Die Kapazität 228 dient auch dazu, den Ausgangskreis
an die Prallelektrode 2OO kapazitiv anzukoppeln,
0.0 9 8 6-0/16.02
so dass eine Gleichvor&pannung an der Prallelektrode
{ausgebaut werden kann.
Fig. 3 zeigt die Verbindung zwischen der Gleichspannungsquelle
172 und den Gegenständen 32. Die Klinge
ist durch einen Hoclivalcuurnspalt 230 von einem geerdeten
Element 232 getrennt, das parallel zu den Kanten
66 der Klinge bzw. der Gegenstände j2 angeordnet ist.
Dadurch kann, wie im folgenden näher erläutert wird, unter geeigneten Bedingungen eine Glimmentladung in
dem Spalt 230 zwischen dem geerdeten Element und der
Klinge 32 bei Vorhandensein einer kleinen Menge eines
inerten Gases erzeugt werden, das in den Spalt 230
eines sehr hohen GrundVakuums (niedriger Druck) geleitet
und durch einen Stromfluss hoher Enex^gie ionisiert wird.
Fig. 6 zeigt eine HF-Quelle 182, die an einen Gegenstand
32 angeschlossen ist, und das geerdete Element 232, das von den Gegenständen 32 entfernt ist; die
Kanten 66 der Gegenstände 32 und des Elements 232
verlaufen im wesentlichen parallel. Wie im folgenden
näher erläutert wird, kann unter diesen Jjedingungeu
eine umgekehrte Zerstäubung bzw. eine Zerstäubungsätzung stattfinden, wenn ein inertes Gas in einer
kleinen Menge in den bpalt 23O zwischen dem Gegenstand
32 und dem Element 232 eines hohen Grumlvakuums
gel cito! und ionisiert wird.
Doi dor folgenden Beschreibung der Arbeitsweise dor
in den K.tguren 1 und 2 gezeigten Ausführungsformen
009850/1602 ßAD original
sind die zu überziehenden Gegenstände iiasierklingen,
Das Verfahren kann wie folgt durchgeführt werden:
Be Lspie L 1
Das vakuumdichte Gehäuse Ik mit dem Deckelteil 88 wird
von der Grundplatte 12 gehoben und mehrere Rasierklingen 32 werden in einem Stapel parallel zueinander
mit ihren zentralen Öffnungen fluchtend auf den Stäben k2 der Halter 30 eingeordnet. Jeder Halter 'JO wird mit
einem ο tape 1 von Ki Lagen beladen, wobei, jeder Stapel
bis au mehreren tausend Klingen enthält, Wenn alle
Halter voll beladen und mit ihren Halterungen kk in die
Gebrauchsstellung gebracht sind, wird das Gehäuse auf
die Grundplatte aufgesetzt',.- so dass die Klingen von der
Ummantelung ?6 in der in FLg· 1 gezeigten Weise umgeben
h ind .
Danach wird eine nicht gezeigte Vorvakuumpumpe in dem
Gehäuse 10 betätigt und danach wix'd das Vakuum auf einen Wert von nahezu 1 χ IO mm OuecksLLbersäuLe
(TorrJ erhöht. Der Schirm [l'ii wird Ln die geschlossene
stellung gebracht, ho dass zwei, kontinuierliche, nach
innen weisende Seiten 116, 118 auf d Le Klingen weisen,
»vlo in Fig. 5 gezeigt ist, kann die Ummantelung Jb geerdet
werden, f>o dass das Element 2^2 in i''ig. 5 in die-•ser
J-JiJ tr i. obis« tv. 1 lung ein« oder beide Seiten 116, I IH
der Ummantelung bildet. l',iri Potential von etwa 500 bis
'JOOO, vorzugsweise von 1000 V G It! icli spannung wird
z. JJ. von Ιόν Glfi i chüpanmmgfiquelIe \r/2 an die Klingen
gelegt. Nun wird Argon oder οiη ähnliche« Inertes.Gas
durch dab '/ontil. 2ük von einer Quelle .'iüii (i'ig. 4) ab-
0 ODn β η /1 δ ο 2
_2 gelassen, bis der Druck einen Wert von etwa 1 χ 10
_3
bis 1 χ 10 Torr erreicht. Unter diesen Bedingungen wird ein Strom von etwa 300 mA erzeugt und die sich ergebende Glimmentladung bewirkt eine Ionisation der Argonatome und einen Aufprall dieser auf die Klingenkanten bis zu einem Grad, der ausreicht, um 0-berflächenverunreinigungen, zum Teil organisches Material und absorbierte Gase zu beseitigen. Eine Vorverdampfung solcher flüchtiger Verunreinigungen und eine Beseitigung des absorbierten Materials kann durch Betätigung der Heizelemente 120, 122 unterstützt werden, um die Klingen 32 auf eine Temperatur zu erhitzen, die ausreichend unter ihrem Glühpunkt, jedoch hoch genug liegen, um die Entfernung dieser Verunreinigungen zu unterstützen. Die Klingeiikanten können typischerweise eine Temperatur von etwa 150 bis 200 C erreichen,
bis 1 χ 10 Torr erreicht. Unter diesen Bedingungen wird ein Strom von etwa 300 mA erzeugt und die sich ergebende Glimmentladung bewirkt eine Ionisation der Argonatome und einen Aufprall dieser auf die Klingenkanten bis zu einem Grad, der ausreicht, um 0-berflächenverunreinigungen, zum Teil organisches Material und absorbierte Gase zu beseitigen. Eine Vorverdampfung solcher flüchtiger Verunreinigungen und eine Beseitigung des absorbierten Materials kann durch Betätigung der Heizelemente 120, 122 unterstützt werden, um die Klingen 32 auf eine Temperatur zu erhitzen, die ausreichend unter ihrem Glühpunkt, jedoch hoch genug liegen, um die Entfernung dieser Verunreinigungen zu unterstützen. Die Klingeiikanten können typischerweise eine Temperatur von etwa 150 bis 200 C erreichen,
Nachdem die Glimmentladung pro eine oder zwei volle Umdrehungen des Rings 28 erfolgt ist, was typischerweise
drei bis sechs Minuten oder mehr dauert, wird die Gleichspannungsquelle von den Klingen 32 abgeschaltet,
der Erdanschluss an die Ummantelung 76 wird
entfernt, so dass sie gegen Erde isoliert ist, und
der Ring 28 und die zugehörigen Teile einschliesslich
der Klingen 3~ werden dann geerdet. Das Vakuum wird dann wieder auf einen Wert von etwa 1 χ 10 Torr" als
(rrunddruck erniedrigt, III|l-Energie von 13» 5t» MHz wird
dor Prallelektrode 126 zugeführt und Argon wird durch
daa Ventil 20k zugeleitet, bis ein Druck von etwa 6 9 x 10 Torr erreicht ist, während der Schirm 9o in
der geschlossenen Stellung bleibt. Die Elektrode 126
009860/1602 bad original
wird bei dieser Betriebsart die Kathode und die Argonatome
oder die Atome eines anderen inerten Gases, die in dem HF-Feld ionisiert werden, werden zu der Prallelektrode
126 durch die Gleichvorspannung an dieser gezogen, was zu einem Zerstäuben der Oberflächenatome
der Prallelektrode 126 führt. Der grösste Teil dieser
zerstäubten Atome des Uberzugsmaterials fallen auf die
Aussensei te des Schirms yb, der zwischen den Klingen
32 und der Prallelelctrode ■ 1 26 angeordnet ist. Nach
einer oder mehreren Minuten Betrieb in dieser Art
wird die Oberfläche der Prallelektrode 126, die nor- ^
malerweise eine bestimmte Menge von Verunreinigungen
besitzt, z.B. Oxide, adsorbierte Gase oder dgl«, völlig sauber, rein und frei von jeder Verunreinigung,
Danach wird der Schirm 9B in die in gestrichelten Linien in Fig. 2 und 9 gezeigte Stellung gebracht
und der Ring 2 H dreht sich weiterhin und jede klänge läuit an der Prallelektrode 126 vorbei, wobei die
Kanten 66 im wesentlichen parallel dazu und auf die Prallelelctrode 126 gerichtet sind. Nachdem jeder
Halter an der Prallelektrode 12b zweimal vorbei gelaufen ist, xiurden beide Kanten der Klingen 32 für
die erforderliche Zeit zum Überziehen der Prallelek- Λ
trode 126 ausgesetzt und der Beschichtungsvorgang ist
vollendet.
Die Vorrichtung und das soeben beschriebene Verfahren
ergeben daher eine Gl immentladungsi^einigung unter
Vakuumbedingungen, um die Oberfläche der zu überziehenden Gegenstände zu reinigen, wonach die Gegenstände
während der Vakuumreiiii gung der Prallelektrode
009850/1602
geschützt werden, wonach schliesslich die sauberen Klingen mit dem Material, das von der gereinigten
Prallelektrode abgegeben wird, überzogen werden. Alle diese Veri'ahrensschri tte werden in der gleichen Vorrichtung
durchgerührt, wobei nur die elektrischen Zustände und der Vakuumpegel geändert werden und deis
Ventil für die Zuführung des inerten Gases gesteuert wird, ohne dass die Gestände dadurch, dass sie der
Atmosphäre ausgesetzt werden, verunreinigt werden, wenn das Vakuum während irgendeines Operationszyklus
unterbrochen wird. Es wurde festgestellt, dass die mittels dieses Verfahrens und dieser Vorrichtung· gereinigten
und überzogenen Klingen einen ausserordentlich gleichinässi gen .Überzug· und Widerstandsfähigkeit
aufweisen.
Die gleiche Vorrichtung bzw. eine verschiedene, jedoch in ähnlicher Weise aufgebaute Vorrichtung kann bei
einer nur gering verschiedenen Betriebsart verwendet werden, wie im folgenden erläutert wird.
.Beispiel 2 '
Das Verfahren wurde wie vorher erläutert durchgeführt
und unterschied sich nur in den folgenden Punkten, A'ach
der Einbringung der Gegenstände in die Vorrichtung und
der Bildung des beschriebenen Vakuum.·- werden die Gegenstände j2 an eine- JIF-Quel Ie, z.U. die? Quelle 182 cHiigi;-H
oh los s cm, deren einer Anschluss gemordet ist und deren
anderer Anschluss 'Ui6 elektrisch mit dem Hai tor 30 und
den auf j lim befind J ic heu Gegensinne! en i.J verbunden ist.
009860/11*07 «>
Der Schirm 98 bleibt in der geschlossenen Stellung und
die Ummantelung ?ö kann geerdet werden. Argon oder ein
ähnliches inertes Gas wird durch das Ventil Zük zuge-
— 3 führe, um einen Druck von etwa. 1 bis Jx 10 Torr zu
erzeugen, bei einer Energieeins teilung der HP-<:uelle,
die ausreicht, um einen Stromfluss von etwa cj0 niA zu
bexvirkea, erreichen die KLLngen eine G Le iclivor spannung
von bis zu 3000 V und wenn die ionisierten Argonatome die- Klingenkanten bombardieren, werden jede Oxidschicht
darauf und Jc Lein : iuen-en des Überfläehenmetails se Lbs t
durch dieses ilombardejiiorrt ent Lernt, und es wird sicher- ^
gestellt, dass die K Lingenoberflache, die zu überziehen
ist, vülLiii frei von auch atmosphärischen Verunreinigungen
ist.
.Nach -einigen Minuten ist der Re i. niguiigs Vorgang vollendet, der als eine urngekehrte Zerstäubung charakterisiert
werden kann, d.h., dass der beabsichtig te Gegenstand
als Ziel- bzw. Pralle Lenient verwendet wird. Danach wird die HF-Quelle an die Pral !.elektrode 126 angeschlossen, die Klingen bzw, Gegenstände [YZ werden
elektrj sch geerdet und die Oberfläche der Pral!elektrode
Mih wird in der anhand des lie is pie Ih I erläuterten . Λ
Weise gereinigt. Danacli wirddor Schirm VH in die offene
Steliurig gebracht und die Klingen, die auf Erdpotential
liegen, werden ebenfalls in der anhand des Jleispiels I
eriäuterten Weise überzogen, /inch die mittels dieses
Verfahrens und dioaer Vorrichtung geroinigten und
iihfjr/Ojjeiißti Klingen zeichnen sich durch eins aua.sergewöhnliche
GIe i chniiua i gke 11 und Widers Landafähigkeit
aus.
0Ό IUI 50/
-22- 20273
Die Klingen wurden gereinigt und in der Art des Beispiels 2 überzogen. Die Ausnahme bestand darin, dass
der Reinigungsvorgang.in diesem Fall als Zerstäubungsätzvorgang
statt als umgekehrte Zerstäubung charakterisiert werden kann. Dieser Vorgang wurde dadurch erreicht,
dass auf die Klingen eine HF-Leistung von etwa H)OO W bei 13,56 MHz einwirkte , die eine Gleichvorspannung
von etwa 4000 bis 5000 V erreichten. Die Reinigung wurde bei einem Argondruck von etwa 6 bis
9 x 10 Torr während einer Periode von einigen Minuten durchgeführt. Bei dieser Art wurde weniger Argon
oder ein anderes inertes Gas als bei den vorhergehenden Beispielen verwendet und der Abstand zwischen den
Klingen und dem geerdeten Anschluss ist vorzugsweise etwas grosser als bei den Bedingungen des Beispiels 2,
Dieser Vorgang kann zweckmässigerweise in einer Vorrichtung durchgerührt werden, bei der die Wände 116,
1 18 der Ummantelung J6 von den Kanten 66 der Klingen
32 weiter entfernt sind, als dies bei der Anwendung dor Glimmentladungsreinigurig der Fall wäre. Die Reinigung
der Prallelektroden und die Beschichtung der
Klingen wird in der gleichen Weise wie bei den Beispielen
1 und 2 durchgeführt. Ausgezeichnete Ergebnis
s wurden erhalten.
00Ö850/1802
Eine Vorrichtung, die im wesentlichen der oben beschriebenen
gleich war, wurde verwendet, um das folgende Verfahren gemäss der Erfindung durchzuführen,
bei dem die Klingen oder andere Gegenstände 32 gereinigt und gleichzeitig überzogen wurden. Bei
diesem Verfahren wurden die Innenseiten 116, 118 der
äusseren und inneren ¥ände 80, 82 der Ummantelung mit einem Material mit im wesentlichen der Dicke des '
Überzugs der Gegenstände versehen, d.h. mit einem relativ dicken Überzug reinen Chroms. Die Klingen
wurden in der Art der obigen Beispiele eingebracht und der Schirm xircirde in die geschlossene Stellung
gebracht. Eine HF-Quelle 23^ besitzt einen geerdeten
Anschluss 236 und einen weiteren Anschluss 238, der
z.B. durch einen Schalter 24o an die Innenseite 116,
118 der Ummantelung Jb und an die Rückseite 1:jj6 des
Schirms 98 angeschlossen ist. Eine HF-Quelle, z.B.
die Quelle 182, ist an den Ring 28 und somit an den
Halter 30 und die von ihm getrageneu Gegenstände
angeschlossen. Die HF-Quelle kann eine einzige Einheit bilden, die eine an der Ummantelung 76 befestigte (J
Leitung und eine an den Gegenständen 32 befestigte Leitung besitzt oder es können zwei einzelne HF-Quellen
verwendet werden, eine für die Ummantelung und eine für die Gegenstände.
Nachdem die Anschlüsse vae oben erfolgt sind, wird ■das Innere der Vorrichtung 10 auf einen Grunddruck
00 9850/180 2
-2k-
von etwa 1 χ 10 Torr evakuiert und die Wände 110,
118 der Ummantelung 7^ werden mit einer 13» 56 MlIz-HF-Energie
versorgt, wobei die Ummantelung durch den Isolator 86 gegen Erde elektrisch isoliert ist.
Eine Leistung von etwa 5000 to wird aufgebracht und
eine Spannung von etwa 5000 V Gleichspannung- kann erzeugt werden, wenn Argon durch das Ventil 20·'+
zugeführt wird, bis der Druck etwa, 0 bis <) λ H)
erreicht. Den Klingen bzw. (legenständen [2, die zu
überzLehen sind, wird ebenfalls eine HF-Energie
der gleichen Frequenz zugeführt und der Isolator 20 stellt sicher, dass der Ring 28 und die zugehörigen
Teile 10 der Vorrichtung gegen Erde isoliert sind. Eine Leistung von etwa 800 bis 1000 W .wird den
Klingen zugeführt, die eint; GIeichvorspannung von
etwa 2000 V entwickeln. In diesem Kreis bilden die Gegenstände 32 bzw. die Klingen eine Elektrode einer
HF-Quelle und die Erde bildet die andere Elektrode. In dem anderen HF-Kreis bildet die Ummantelung 70
eine Elektrode und die Erde ist die andere Elektrode. Unter den obigen Bedingungen treffen die ionisierten
Atome des inerten Gases sowohl auf die eine ■Gleichvorspannung
aufweisenden Gegenstände 32 und die Prallelektrode, die in diesem Fall die Innenseiten
116, 118 der Ummantelung 7" umfasst. Da jedoch an
der Prallelektrodo eine gxössere Vorspannung π Is an
den Gegenständen erzeugt wird, tritt an der Prallelektrode eine gröt.sc'1'e Zerstäubung als an den Gegenständen
auf, nämlich z.H. in einem relativen Verhältnis
von €?twa 2i1 bis etwa 10:1 und vorzugsweise.
z\i:lachen 2t 1 und i:1. AuC diese Weise wird die Ober-
BAD ORIGINAL
009850/160
r\
fläche der Gegenstände durch eine umgekehrte Zerstiiubung
bzw. einen Zerstäubungsätzvorgang gereinigt, während das Pralle !elktrodenmaterial auf den Gegenstand
mit einer grösseren Reite zerstäubt wird als eine Zerstäubung von diesem aus erfolgt. Jede Verunreinigung
sowohl auf der Pral!elektrode als auch auf der Klinge wird so verteilt, statt in einer oder
zwei oberflächennahen Schichten zu verbleiben, und da höchstens eine Dicke von KJ bis 30 Atomdur cn--
messern eines Überflächenüberzugs auf der Klinge bzw, λ
anderen Gegenständen erzeugt wird, beeinträchtigen
solchej Verunreinigungen, selbst wenn sie vorhanden
sind, die Qualität bzw· die GIelchmässigkeit des
Überzugs nicht. Xn diesem Fall wird eine bestimmte zufällige Menge des ÜberzugmaterLaIs zurück auf die
PralLelektrode zerstäubt, ,jedoch ist die Gesaint wirkung
derart, dass gleichzeitig die Pralle 1 eic ti'od end icke
vermindert und ein überzug hoher Qualität auf den
Gegenständen gebiLdet wird.
Obwohl ea nicht notwendig ist, dass die beiden HF-Kreise
die gleiche Resonanzfrequenz besitzen, sollten
sie einander so nahe wie möglich liegen. Dies ist \
jedoch kein einfaches Problem, da normalerweise ein
Kristalloszillator mit einer definierten, festen i« rfj-qufjfiz zur Erzeugung so Icher IIF-SigriuLe zur Verstärkung
verwendet wird, in diesem FaIi wrden die
Vakuumbedingungen und die elektrischen HedLngungon
vom Anfang des Vorgangs an-bis zur Vo Lleruiimg der
!^schichtung gleichgehalten. Diese Art dur Vorrichtung
besitzt ebenfalls dio gLeichon V-or fuhreiiHvo r-
BAD ORIGINAL 090507 IBO2
teile wie die obigen Beispiele 1 bis 3» obwohl die Einzelheiten der Vorrichtung und des Verfahrens etwas
verschieden sind. Bei dieser Ausführungsform braucht
der Schirm 98 nicht beweglich zu sein und die Pralleinrichtung
108 und das Gehäuse können weggelassen werden, obwohl es möglich ist, die Vorrichtung in der
gezeigten Form entsprechend dem in diesem Beispiel beschriebenen Verfahren zu verwenden, wobei die Prallelektrode
und das Gehäuse keine Punktionen ausführen, für den Bebrieb jedoch nicht entfernt zu werden brauchen.
Mit den richtigen elektrischen Anschlüssen kann die hier gezeigte Vorrichtung in diesen unterschiedlichen
Betriebsarten ohne Änderung verwendet werden
oder es kann eine Vorrichtung gemäss der Erfindung •gebaut werden, die in allen Arten verwendet werden
kann, bei der jedoch eine besondere Betriebsart bei der Benutzung bevorzugt ist.
In den Figuren 7 und 8 sind Teile einer weiteren Vorrichtung
gemäss der Erfindung gezeigt, die zur Aufnahme mehrerer Gegenstandshalter geeignet sind, um
sie in einer Weise und für Zwecke, die nunmehr erläutert werden, zu behandeln.
In den Figuren 7 und 8 ist eine Einrichtung 2^2 mit
einer KiU'venbahn gezeigt, die einen kreisförmigen kontinuierlichen Kurvenkörper 2hh mit einer Aus senaeite
ilhb besitzt, dio einen vorderen Bajonet tantrlebsseapfon
ilht> und einen hinteren Bnjono t tantrtobsznpf en
250 btiait-st. Jeder Zapfen 2ht\, 2r>0 Lat im betrieb
einem Gogenatandshalter 2^2 zugeordnet. Bin zweites,
0 0 9 8 5 0/ 1 6 0 2
äusseres Kurveneleinent 254 zur Dui^chführung einer Drehung
eines jeden Halters 252 um seine Achse ist an einer
Ring- und Kurventragplatte 256 angeordnet, das auch den
Körper 244 trägt, wobei die profilierte Innenseite des Elements 25** einer komplementär geformten, nach
aussen weisenden Seite 260 an dem Körper 244 gegenüberliegt und von dieser um etwa den Durchmesser eines Zapfens
248 plus einem geringen Betriebsspiel entfernt ist. In Fig. 8 ist die Lage der Zapfen 248, 250 zwischen der
Aussenseite 26o des Kammkörpers 244 und der Innenseite 258 des äusseren Kurvenelements 254 gezeigt. Wie in
Fig. 7 weiter gezeigt ist, laufen die beiden Zapfen 248,
250 mit ihren Innenseiten gleitend an der Aussenseite
246 des Kurvenkörpers 244 entlang und halten dadurch die Halter 252 und alle darauf angeordneten Gegenstände
im wesentlichen gegenüber dem ringförmigen Körper 244 in einer festen Richtung. Das heisst, dass
die Gegenstände z.B. so getragen werden, dass eine Linie zwischen den Zapfen 248, 250 stets senkrecht zu
dem Radius eines Kreises verlaufen würde, der koaxial zu dem Kurvenkörper 244 angeordnet ist. Nimmt man an,
dass die Halter 252 sich kreisförmig auf der Bahn bewegen, die von der Aussenseite 246 des Kurvenkörpers
244 begrenzt wird, wenn die beiden Zapfen 248, 250 in
Fig. 7 im Gegenuhrzeigersinn bewegt werden, wird eine
Stelle erreicht, an der der vordere Zapfen 248 die Nase 26ΓΙ des Kurven elements 254 ergreift, wodurch der
vordere Zapfen 248 nach innen und dadurch im Gegenuhrzeigersinn
um die Achse des Halters 2-j2 um seine eigene
Achse gedreht wird, während der hintere Zapfen 250 auf einer Bewegungslänge parallel zu der Aussenseite 2h(i
des Kurvenkörpers 244 nach rechts bewegt wild. Der
009850/1602.'
BAD OHlGiNAU
Zapfen 250 läuft somit längs bzw. ausserhalb der Aussenseite
244 des Kurvenelements 254, während der der Form
des Kurvenkanals 264 folgende vordere Zapfen 248 gegenüber dem hinteren Zapfen 250 während der kontinuierlichen
Bewegung des Halters zurückbleibt, bis ihre Stellungen umgekehrt sind, wie in Fig. 7 an der Stelle gezeigt
ist, wo die Zapfen 248, 250 aus dem Kanal 264 herauskommen
und an dem Ende des Kurvenelements 254 in
Fig. 7 vorbeilaufen. Ein Halter 252 behält somit eine
Richtung bei, wobei ein Teil der daran befestigten Gegenstände zu der Mitte des Kurvenkörpers 244 während
einer Umdrehung von z.B. etwa 3OO bis 330 gerichtet
sind, wonach er durch Eingriff mit dem soeben beschriebenen Kurvenmechanismus eine halbe Drehung um seine
eigene Achse durchführt und die gegenüberliegende Seite
eines getragenen Gegenstands zur Seite bzw. zur Drehmitte richtet.
In Fig. 8 sind weitere Teile des Mechanismus einschliesslieh
einer anderen Form der Einrichtung zum Tragen und Drehen der Gegenstandshalter in der Vorrichtung und um
ihre eigenen Achsen gezeigt. Jeder Gegenstandshalter
252 besitzt eine untere Verlängerung 268, die von einem
Befestigungselement 27O an einer Grundplatte 272 gehalten
wird, die Öffmingen 274 zur Aufnahme der Zapfen 246,
25O besitzt. Ein Lager 276 legt den Halter 232 fest und
lagert ihn und seine zugehörigen Teile drehbar um seine vertikale Achse. Ein Sprengring 278 hält das Lager 270
in der Öffnung des drehbaren Rings 282. Befestigungselemente
284, 286 halten einen Ring 288 mit innenverzahnung und eine Grundplatte 29O an dem Ring 282. l>ie
Ring- und Kurventragplatte 256 trägt einen unteren Laufkranz
292 mit einer Nut 294, in der mehrere Kugellager
296 zum Tragen der Platte 2()0 aufgenommen sind. Ein
009850/16 02
weiteres Lager k(}& an der Innenseite 300 der Platte
2j5ü enthält eine Ringantriebsstummelwelle 302, an
deren einem Ende ein Ritzel 3O4 sitzt, das mit dem
Ring 2ö6 in. Eingriff stellt, und an deren anderem
Ende ein Kegelrad 'Job sitzt, das mit einem entsprechenden Antriebskegelrad 3O8 in Eingriff steht,
das von einer Antriebswelle 310 getragen wird. Ein
nicht gezeigter Motor treibt die Welle 310 durch eine
äudsere Kraftab&abewelle 312 und eine flexible Kupplung
314.. Ein Lager 316 trägt die Antriebswelle 3 IO
und das Kegelrad 300 drehbar zu der Bodenplatte 318·
und der Platte 256. Ein Isolator 320 ist zwischen der
Bodenplatte "Jib und dein unteren Teil 322 der Vorrichtung
10 zum Reinigen und Überziehen angeordnet.
Die Arbeitsweise dieser Art der Einrichtung zum Tragen
und Behandeln der Gegenstände ist ähnlich der Arbeitsweise der in den Figuren 1 und 2 und anhand des Beispiels
1 beschriebenen Form.
Die Einrichtung zum Antrieb des Rings 282 ist jedoch
etwa« verschieden und umfasst den Ring 288 und das Ritzel 3θ4 mit seinem zugehörigen Mechanismus anstelle
der Kette 5<i und der Zahnräder 50, 58, die in den Figuren
1 und 2 dargestellt sind.
Die sich ergebende Bewegung der getragenen Gegenstände
bei der in den Figuren "j und 8 gezeigten Ausführungsforrn
ist von der der z.B. in den Figuren 1 und 2 gezeigten
Aui>iührungsforin verschieden. So dienen die
Zapf on 2'td, 2.50, die an der Aussenseite 246 des Kurven
kcixpors 244 lauion, dazu, die Kanten 'JHU eines jeden
Gegenstandes 3 16 parallel zu der - Innenseite '))H einer
0098 50/160 2 BAD original
Ummantelung 320 während einer gesamten Umdrehung des
Rings 282 mit Ausnahme an der Stelle, an der die Einrichtung 242 mit der Kurvenlaufbahn einen jeden Halter
252 um seine eigene vertikale Achse dreht, zu halten.
Bei der in den Figuren 1 und 2 gezeigten Ausführungsform
werden dagegen die Halter 30 kontinuierlich um ein Grad um ihre eigenen Achse pro zwei Grad Umdrehung
des Rings 28 gedreht.
Daher sind die in den Figuren 7 und 8 gezeigten Ausführungsformen bevorzugt, wenn es erwünscht ist, eine
Kante 322 eines Gegenstands 316 parallel zu einer bestimmten
Fläche 318 zu halten, so dass der Spannungsabfall
zwischen der Kante 322 und der Fläche 318 an allen Stellen längs der Kante 322 der gleiche ist.
Daher ist bei einigen Betriebsarten die in den Figuren 7 und 8 gezeigte Art der Halterung und Handhabung
der Klingen bevorzugt.
Bei den obigen Beispielen wurde angenommen, dass die
Gegenstände 32 oder 316 Rasierklingen mit Doppelkante
sind. Wenn jedoch die Gegenstände Klingen mit einer einzigen Kante sind oder wenn nur eine Seite einer
Klinge gereinigt und Überzogen werden soll, ist eine Drehung eines jeden Halters 30 bzw. 252 um seine
eigene Achse nicht erforderlich und Teile des Mechanismus, z.B. die Kurvenaussenseite 26O und das äussere
Kurvenelement 25ft können ebenso wie die anhand der
Figuren 1 und 2 beschriebene Ketten- und Zahnradanordnung weggelassen werde». Ea muss dann auch nur
eine Fläche der Ummantelung beschichtet werden, wenn di· Glimmentladung bzw. die Zerstäubung nur an einer
Kante bzw. Fläche eines getragenen Gegenstands stattfinden soll.
009850/1602
Mehrere Klingen 316 oder ähnliche Gegenstände werden
an dem Halter 252 angeordnet und die Klingen werden mittels irgendeines der in den vorherigen Beispielen
1 bis 3 erläuterten Verfahren gereinigt und durch Zerstäuben eines Chromüberzugs von der Prallelektrode
32k überzogen, die in einer Abschirmung 326 in der
gleichen Weise angeordnet ist, die anhand der obigen Beispiele 1 bis 3 erläutert wurde. Die in den Figuren
7 und 8 gezeigte Vorrichtung kann auch in einer soeben
beschriebenen Weise betrieben werden, d.h. dass sich der Ring 232 um seine Achse dreht und mehrere
Halter 252 so ausrichtet, dass die Kanten 322 der Gegenstände 3l6, die daran angeordnet sind, während
einer Drehung des Rings 282 von 330 parallel zu der Innenseite 3I8 der Ummantelung 320 gehalten und dann
um 180 um ihre eigenen Achsen gedreht werden, wie oben erläutert wurde. Die elektrischen Anschlüsse
werden in der gleichen Weise ausgeführt, wie anhand der Beispiele 1 bis 3 erläutert wurde. Die beschriebene
Vorrichtung ergibt Rasierklingen, die einen
dünnen, jedoch kontinuierlichen und gleichmässigen A
Überzug besitzen, der eine aussergewöhnliche Widerstandsfähigkeit und Adhäsion aufweist. Die Vorrichtung
erbringt im wesentlichen die gleichen Resultate, wenn die Reinigung nach dem Glimmentladungsverfahren,
dem Zerstäubungsätzverfahren oder dem Umkehrzerstäubung
β verfahr en durchgeführt wird.
00985 0/100
Die beschriebene Vorrichtung ist auch in der Lage, ausgezeichnete
Klingen herzustellen, wenn sie abgeändert und in der anhand der Aus führungsform des Beispiels k
beschriebenen Weise betrieben wird.
Zusammenfassend ergibt sich aus den oben beschriebenen
Verfahren und Vorrichtungen, dass der Schirm 98 zwei
Funktionen erfüllt, nämlich die Klingen oder Gegenstände gegen eine Verunreinigung während der Zeit zu
schützen, während der die Prallelektrode durch Zerstäubung der ersten Schichten ihres Oberflächenmaterials
gereinigt wird, und die Prallelektrode gegen eine Verunreinigung durch Zerstäubung während der Zeit zu
schützen, in der die Klingen durch Glimmentladung, Zerstäubungsätzung oder Umkehrzerstäubung gereinigt
werden«
Die beschriebene Vorrichtung besitzt eine Transporteinrichtung für die Gegenstandshalter in Form der gezeigten
ungeteilten Ringe, die Gegenstände könnten jedoch auch durch eine andere Einrichtung an der Prallelektrode
vorbeigeführt werden, z.B. dadurch, dass die Halter z.B. an den Gliedern eines kontinuierlichen
Bandes bzw. einer Kette befestigt werden. Das hier erläuterte zerstäubte Material ist Chrom, es können
jedoch auch andere Metalle, Metallegierungen und Verbindungen, z.B. Metallkarbide od.dgl. ebenfalls auf
die Gegenstände zerstäubt werden. Wenn der Gegenstand mit zwei oder mehreren übereinanderliegenden Schichten
nach der Reinigung überzogen werden soll, können zusätzliche Prallelektroden und geeignete Anschlüsse
vorgesehen werden, um ihnen in irgendeiner gewünschten
Folge HF-Energie zuzuführen.
009850/1602 bad original
Ein übliches inertes Gas, das bei dem Zerstäubungsvor^anj
vertvendet wird, ist Argon, es können jedoch andere inerte Gase, z.B. Neon oder Krypton verwendet
werden. Eine elektrische Verbindung zwischen den
relativ" beweglichen Teilen in der Vakuumkammer kann durch die Verwendung einer Goldbürste od.dgl., wie
dies in Fig. 1 gezeigt ist, hergestellt werden.
relativ" beweglichen Teilen in der Vakuumkammer kann durch die Verwendung einer Goldbürste od.dgl., wie
dies in Fig. 1 gezeigt ist, hergestellt werden.
0098 50/160 2 BACX original
Claims (1)
- PatentansprücheC\,1. ^Verfahren zum Reinigen wenigstens eines Teils eines ^^^ Gegens tanda und zur Bildung eines dünnen, gleichmassigen Überzugs an diesem Teil, wobei der Gegenstand im wesentlichen frei von einer atmosphärischen Verunreinigung gehalten wird, dadurch gekennzeich-_ net, dass der Gegenstand in einem evakuierten Be-™ reich angeordnet wird, der eine Prallelektrode miteinem Überzugsmaterial darauf aufweist, dass ein
hohes elektrisches Potential an die Prallelektrode und an den Gegenstand gelegt wird, und dass kleine Mengen eines inerten Gases in den Bereich geleitet werden, um die Oberfläche des Teils des Gegenstands dadurch zu reinigen, dass Atome von der Oberfläche entfernt werden und dass der Teil des Gegenstands
dadurch überzogen wird, dass die Oberflächenatome
des Überzugsmaterials von der Prallelektrode zerstäubt und auf diesem Teil des Gegenstands abgelagert werden, Wobei während der Reinigung und Ab-A lagerung kein Verlust an Vakuum in dem evakuiertenBereich auftritt.2, Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigung vor der Bildung des Überzugs
stattfindet.3· Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigung und die Bildung des Überzugs
wenigstens teilweise gleichzeitig stattfLnden.00985 0/1602k. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigung vor der Bildung des Überzugs stattfindet, und dass ausserdera die Prallelektrode dadurch gereinigt wird, dass ein Teil deren Oberfläche durch Zerstäubung entfernt wird, bevor das Material für die Bildung des Überzugs des Gegenstands von ihr entfernt wird.5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigung vor der Bildung des Überzugs stattfindet, dass die Prallelektrode von Oberflächenverunreinigungen durch Zerstäuben gereinigt wird, bevor die restlichen Teile des Prallelektrodenmaterials auf den Teil des Gegenstands zerstäubt werden, und dass der Teil des Gegenstands gegen eine Ablagerung des zerstäubten Oberflächenmaterials der Elektrode dadurch geschützt wird, dass während der Reinigung ein Schutzelement zwischen der Prallelektrode und dem Teil des Gegenstands angeordnet wird.6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigung vor der Bildung des Überzugs stattfindet, dass das Potential an dem Gegenstand dadurch gebildet wird, dass eine Gleichspannung an den Gegenstand gelegt wird, und dass die Teile der Oberfläche des Gegenstands, die gereinigt werden sollen, in einer Entfernung von der Prallelektrode angeordnet werden, die ein von dem Potential des Gegenstands verschiedenes Potential aufweist, wobei die Reinigung eine Glimmentladungsreinigung ist, die in inertem Gas stattfindet«009850/16027· Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigung vor der Bildung des Überzugs stattfindet, dass das Potential an dem Gegenstand dadurch gebildet wird, dass dem Gegenstand ein HF-Wechselstrom zugeführt wird, um eine Gleichvorspannung gegenüber Erde an dem Gegenstand zu bilden, und dass die zu reinigenden Teile der Oberfläche des Gegenstands in einer Entfernung von der Prallelektrode angeordnet werden, die ein von dem Potential des Gegenstands verschiedenes Potential aufweist, wobei die Reinigung durch einen Umkehrzerstäubuntvsvorgang stattfindet, bei dem die Teile des Gegenstands ein Prallelement bilden, das von dem inerten Gas bombardiert wird.8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die von der Oberfläche der Gegenstände entfernten Atome Atome organischer Verunreinigungen und Atome von an der Oberfläche adsorbierten Gasen enthalten.y. Verfahren nach Anspruch 1,dadurch gekennzeichnet, dass die von der Oberfläche entfernten Atome feile der Oberfläche und Teile von *uf der Oberfläche gebildeten Oxidüberzügen enthalten.10. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Überzugsmaterial im wesentlichen reines Chrom ist.11. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass während der Reinigung wenigstens der Teil des009850/1602Gegens taiida erhitzt \tfird, der während der Reinigung überzogen werden soll.12. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigung vor der Bildung des Überzugs stattfindet, und dass während der Reinigung des Gegenstands die Prallelektrode von einer Verunreinigung durch das von dem Gegenstand entfernte iHaterial geschützt wird.13· Verfahren nach Anspruch 1, 'dadurch gekennzeichnet, "dass-die Reinigung vor der Bildung des Überzugs stattfindet, nass während der .Reinigung des Gegenstands die PralIelektrode gegen ei tie Verunreinigung durch von dem Gegenstand entferntes Material geschützt wixdj und dass der Teil des Gegenstands gegen eine Ablagerung des zerstäubten Ober flächen- !,i.j Lt-.r i u 1 .κ dor Prallelektrode geschützt wird, wobei bf! L ijf'i'J'iii sehn tüs vorgängen ein irjehu t/,e leinen t zwischen der Pra 1 Je lektrode und dem Teil des Gegeri-'ifciindswährend der Reinigung der Prallelektrode η ta t ti i ndet.14. Vorrichtung zur Durchführung des -Verfahrens nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch eine L i nr1 ich Eiing zur Bildung eine 3 evakiiierten ■ Mfjreioho, eine Einrichtung zur Zuführung kontrollierter Mengen eines inerten Gases in den evakuierten liero i r;h, eine in dem evakuierten Bereich angeordnete Einrichtung zum Halten wenigstens Oiiif:.) /n iiborz i ehendert Gogens tands ('J2), eine Ummantelung (/b) für den HaLter ('JO) und die von Ihm009850/1802gehaltenen Gegenstände, eine Einrichtung zur Bildung eines unterschiedlichen elektrischen Potentials an der Ummantelung (76) und dem Halter (30) und den ihm zugeordneten Gegenständen (32)t einen Schirm (98), der einen Teil der Ummantelung (76) bildet und zwischen wenigstens zwei Stellungen verschiebbar ist, nämlich einer offenen zur Bildung einer Verbindung zwischen dem Aussenraum der Ummantelung (76) und dem Halter (30) und den zugeordneten Gegenständen, wenn der Halter in der Ummantelung so angeordnet ist, dass er mit einer Öffnung der Ummantelung übereinstimmt, und einer geschlossenen Stellung, um die Gegenstände (32) in der Ummantelung gegen durch die Öffnung eindringendes Material zu schützen, eine Prallelektrode (126), die ausserhalb der Ummantelung gegenüber dem in der geschlossenen Stellung befindlichen Schirm angeordnet ist, und eine Einrichtung, um der Prallelektrode eine HP-Wechselspannung zur Bildung eines elektrischen Potentials an der Prallelektrode zuzuführen·15. Vorrichtung nach Anspruch 14, gekennzeichnet durch mehrere Halter (30), von denen jeder wenigstens einen zu überziehenden Gegenstand aufnimmt·16. Vorrichtung nach Anspruch 14, gekennzeichnet durch mehrere Halter (30)» von denen jeder wenigstens einen zu überziehenden Gegenstand aufnimmt, und durch eine Einrichtung, um die Halter .(30.) in der Ummantelung (76) an der Öffnung vorbeizuführen, - , um die Gegenstände der Prallelektrode auszusetzen, wenn dl· Abschirmung (()8) in der of f en en..Stellung.,-- >·. Let.009850/160217. Vorrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Einrichtung zur Bewegung der Halter (30) eine Einrichtung aufweist, um einen bestimmten Teil der Gegenstände (32) in einer bestimmten Beziehung zu der Ummantelung (76) anzuordnen und um diese Beziehung während wenigstens eines wesent lichen Teils des Bewegungszyklus der Einrichtung zur Bewegung der Halter (30) aufrechtzuhälten.18. Vorrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekeiinzeichnet, dass die Einrichtung zur Bewegung der Halter (30) eine Einrichtung aufweist, um einen bestimmten Teil der Gegenstände (32) in einer bestimmten Beziehung zu der Ummantelung (76) anzuordnen und um diese Beziehung während wenigstens eines wesent lichen Teils des Bewegungszyklus der Einrichtung zur Bewegung der Halter (30) aufrechtzuhälten, und dass eine Einrichtung vorhanden ist,« um die Halter (30) um ihre Achsen während eines relativ kleinen Teils des Bewegungszyklus der Einrichtung zur Bewegung der Halter zu drehen, wodurch die Gegenstände (32) in einer bestimmten Ausrichtung zu der Ummantelung (76) während eines wesentlichen Teils der Bewegung gehalten werden und so bewegt werden, dass sie eine geänderte Ausrichtung gegenüber der Ummantelung während eines anderen Teils des Bewegungszyklue annehmen.19· Vorrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass jeder Halter (30) einen in der Einrichtung «ur Bewegung der Halter lösbar befestigten Stab aufweist.009850/1602-4ο-20. Vorrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Einrichtung zur Bewegung der Halter
(30) einen nicht unterbrochenen Ring (28) aufweiöt, der von einem zugeordneten Motor (68) angetrieben
wird.21. Vorrichtung nach Anspruch 19» dadurch gekennzeichnet, dass die Stäbe (42) um ihre vertikalen Achsen drehbar befestigt sind.22. Vorrichtung nach Anspruch 191 dadurch gekennzeichnet, dass jeder Stab Betätigungselemente (248,250) aufweist, die an einer Führungsfläche angreifen,
und dass die Einrichtung zum Drehen der Halter
(252) ein Kurvenelement (254) aufweist, das die
Betätigungselemente (248,250) ergreift und dadurch eine Drehung der Stäbe um ihre vertikalen Achsen
bewirkt.0Ü98ÜÜ/160?BAD ORIGINAL
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US82990669A | 1969-06-03 | 1969-06-03 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2027301A1 true DE2027301A1 (de) | 1970-12-10 |
DE2027301B2 DE2027301B2 (de) | 1980-09-11 |
DE2027301C3 DE2027301C3 (de) | 1981-05-27 |
Family
ID=25255867
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2027301A Expired DE2027301C3 (de) | 1969-06-03 | 1970-06-03 | Vorrichtung zum Beschichten von Teilen von Gegenständen mittels Ionenplasmazerstäubung |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3723276A (de) |
JP (2) | JPS5136236B1 (de) |
CA (1) | CA949021A (de) |
DE (1) | DE2027301C3 (de) |
ES (1) | ES380347A1 (de) |
FR (1) | FR2049889A5 (de) |
GB (1) | GB1318771A (de) |
NL (1) | NL169349C (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2646173A1 (fr) * | 1989-04-03 | 1990-10-26 | Toyo Kohan Co Ltd | Procede et appareil pour revetir l'un de divers metaux avec un autre metal different |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4151059A (en) * | 1977-12-27 | 1979-04-24 | Coulter Stork U.S.A., Inc. | Method and apparatus for sputtering multiple cylinders simultaneously |
DE3404880A1 (de) * | 1984-02-11 | 1985-08-14 | Glyco-Metall-Werke Daelen & Loos Gmbh, 6200 Wiesbaden | Verfahren zum herstellen von schichtwerkstoff oder schichtwerkstuecken |
US5961798A (en) * | 1996-02-13 | 1999-10-05 | Diamond Black Technologies, Inc. | System and method for vacuum coating of articles having precise and reproducible positioning of articles |
-
1969
- 1969-06-03 US US00829906A patent/US3723276A/en not_active Expired - Lifetime
-
1970
- 1970-06-03 GB GB2673470A patent/GB1318771A/en not_active Expired
- 1970-06-03 ES ES380347A patent/ES380347A1/es not_active Expired
- 1970-06-03 NL NLAANVRAGE7008076,A patent/NL169349C/xx not_active IP Right Cessation
- 1970-06-03 CA CA084,552A patent/CA949021A/en not_active Expired
- 1970-06-03 JP JP45047543A patent/JPS5136236B1/ja active Pending
- 1970-06-03 DE DE2027301A patent/DE2027301C3/de not_active Expired
- 1970-06-03 FR FR7020447A patent/FR2049889A5/fr not_active Expired
-
1976
- 1976-06-25 JP JP7538676A patent/JPS5313591B1/ja active Pending
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
SCP and Solid State Technology, Dez. 67, S. 50-54 * |
Vakuum-Technik, 14. Jg., 1965, H. 6, S. 173-176 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2646173A1 (fr) * | 1989-04-03 | 1990-10-26 | Toyo Kohan Co Ltd | Procede et appareil pour revetir l'un de divers metaux avec un autre metal different |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3723276A (en) | 1973-03-27 |
FR2049889A5 (de) | 1971-03-26 |
NL169349C (nl) | 1982-07-01 |
JPS5136236B1 (de) | 1976-10-07 |
ES380347A1 (es) | 1973-04-16 |
DE2027301B2 (de) | 1980-09-11 |
CA949021A (en) | 1974-06-11 |
DE2027301C3 (de) | 1981-05-27 |
GB1318771A (en) | 1973-05-31 |
NL7008076A (de) | 1970-12-07 |
NL169349B (nl) | 1982-02-01 |
JPS5313591B1 (de) | 1978-05-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2653242C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Überziehen eines Isoliersubstrats durch reaktive Ionenbeschichtung mit einer Oxidschicht | |
DE4117518C2 (de) | Vorrichtung zum Sputtern mit bewegtem, insbesondere rotierendem Target | |
DE2610444C2 (de) | Verfahren und Einrichtung zur Beschichtung von Trägermaterialien, insbesondere durch Kathodenzerstäubung | |
DE3938830C2 (de) | ||
CH622828A5 (de) | ||
EP1693905B1 (de) | Verfahren zur Herstellung biaxial orientierter Dünnschichten | |
DE2307649B2 (de) | Anordnung zum Aufstäuben verschiedener Materialien auf einem Substrat | |
EP0211057B1 (de) | Sputteranlage zum reaktiven beschichten eines substrates mit hartstoffen | |
DE3815006A1 (de) | Vorrichtung zum herstellen von beschichtungen mit abgestufter zusammensetzung | |
DE4025396A1 (de) | Einrichtung fuer die herstellung eines plasmas | |
DE2215151A1 (de) | Verfahren zum herstellen von duennen schichten aus tantal | |
EP0432090B1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung und Werkstück beschichtet nach dem Verfahren | |
DE2126095B2 (de) | Vorrichtung zum Herstellen eines dünnen Überzugs auf einem Substrat | |
DE29615190U1 (de) | Anlage zur Beschichtung von Werkstücken | |
DE4126236A1 (de) | Rotierende magnetron-katode und verfahren zur anwendung | |
DE3912581A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum kaltwalzen von verbundblechen | |
DE2006075A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Er?eugen feiner Pulver eines Metalls oder einer» Legierung | |
DE1615287A1 (de) | Vorrichtung zur Aufbringung duenner Schichten auf Glas oder andere Materialien unter Vakuum | |
EP1032943A2 (de) | Verfahren zur erzeugung eines plasmas durch einstrahlung von mikrowellen | |
DE1956761A1 (de) | Vorrichtung zur Kathodenzerstaeubung | |
DE2027301A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Bildung eines Überzugs an Gegenständen | |
DE2221600A1 (de) | Vorrichtung zum beschichten von substraten durch kathodenzerstaeubung und zum reinigen durch ionenaetzen im gleichen vakuumgefaess | |
DE102013107659B4 (de) | Plasmachemische Beschichtungsvorrichtung | |
DE675731C (de) | Verfahren zur Herstellung von homogenen Schichten oder Koerpern aus Metallen auf einem Grundkoerper durch Kathodenzerstaeubung, thermische Verdampfung oder thermische Zersetzung von Metallverbindungen | |
DE2647149A1 (de) | Beschichtungseinrichtung zur herstellung beschichteter traeger |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |