DE202009016739U1 - Stützung für planares Wärmeleitrohr - Google Patents

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Abstract

Stützung für planares Wärmeleitrohr, umfassend
einen Hauptkörper (3), und
einen Mantel (4), der mindestens eine offene Seite (41) und eine erste Umfangsseite (42) aufweist, die mit der offenen Seite (41) verbunden ist, wobei die erste Umfangsseite (42) mit einer Kapillarstruktur (421) versehen ist, und wobei die erste Umfangsseite (42) und die offene Seite (41) einen Hohlraum (43) bilden, in dem der Hauptkörper (3) aufgenommen ist.

Description

  • Technisches Gebiet
  • Die Erfindung betrifft eine Stützung für planares Wärmeleitrohr, die einen Hauptkörper und einen Mantel umfaßt, wobei der Mantel an einer ersten Umfangsseite eine Kapillarstruktur aufweist, durch die die Kreislaufgeschwindigkeit des Arbeitsmediums erhöht wird, so dass eine bessere Wärmeausbreitung und Kühlwirkung erreicht wird.
  • Stand der Technik
  • Mit der Entwicklung der elektronischen Technik sind die elektronischen Produkte immer kompakter. Die Betriebswärme der elektronischen Bauelemente steigt auch mit der Erhöhung der Arbeitsgeschwindigkeit der elektronischen Bauelemente. Wenn die Wärme nicht gleichmäßig verteilt ist, kann auf der Oberfläche der elektronischen Bauelemente Heißpunkte auftreten, so dass die Temperatur an diesen Stellen zu hoch ist. Dadurch kann die Zuverlässigkeit und die Lebensdauer der elektronischen Bauelemente beeinflußt werden. Um die Wärme der elektronischen Produkte mit einer kleineren Baugröße, wie Notebook, abzuführen, wird das planare Wärmeleitrohr entwickelt.
  • 1 zeigt ein herkömmliches planares Wärmeleitrohr, das eine erste Kupferplatte 10 und eine zweite Kupferplatte 11 umfaßt, die miteinander verbunden sind und eine Kammer 12 bilden, in der ein Arbeitsmedium (wie Wasser oder eine Flüssigkeit) gefüllt ist. Die erste und zweite Kupferplatte 10, 11 weisen an der einander zugewandten Seite jeweils eine Kapillarstur 13 auf, die die Kammer 12 umschließt und die Innenwand der Kammer 12 bildet. Die Kapillarstruktur besitzt folgende Funktionen: 1. Reduzierung der Wärmezufuhr der Wand; 2. Vergrößerung der Verdampfungsfläche; 3. Hemmung des Wachstums der Dampfmembran. Durch die Schwerkraft des Arbeitsmediums und die Kapillarwirkung wird das Arbeitsmedium auf der Kapillarstruktur 13 (der ersten und zweiten Kupferplatte 10 und 11) verteilt.
  • Die erste Kupferplatte 10 liegt an der der Kammer 12 abgewandten Seite auf einer Wärmequelle (wie Zentraleinheit) auf (die erste Kupferplatte 10 bildet eine Verdampfungsseite oder Wärmeaufnahmeseite), um die Wärme der Wärmequelle auf die zweite Kupferplatte 11 (Kondensationsseite) zu transportieren. Wenn die erste Kupferplatte 10 die Wärme der Wärmequelle absorbiert, wird das Arbeitsmedium der Kapillarstruktur 13 verdampft. Der Dampf fließt schnell zu der Kaltzone (die zweite Kupferplatte), gibt dort die Wärme ab und wird in Flüssigkeit zurückgewandelt. Durch die Kapillarstruktur 13 der zweiten Kupferplatte 11 fließt das flüssige Arbeitsmedium zu der ersten Kupferplatte 10 zurück. Dadurch ist ein Kreislauf des Arbeitsmediums gebildet. Wenn die Kapillarstruktur 13 der ersten Kupferplatte 10 nicht für die Phasenänderung des Arbeitsmediums geeignet ist, kann die folgenden Erscheinungen auftreten: 1. Durch die Erhöhung der Wärmezufuhr wird die Geschwindigkeit der Phasenänderung des Arbeitsmediums auch erhöht, wodurch der Rückfluß des Arbeitsmediums durch den Durchflußwiderstand der Kapillarstruktur beeinträchtigt wird, so dass das Arbeitsmedium nicht rechtzeitig zu der Verdampfungsseite zurückfließen kann, wo somit eine Abbrennung des Arbeitsmediums auftreten kann; 2. wenn der Luftdruck außerhalb der Flüssigkeit größer ist als der Luftdruck innerhalb der Flüssigkeit können in der Kapillarstruktur Blasen gebildet sein, wodurch der Rückfluß des Arbeitsmediums beeinträchtigt wird, so dass das Arbeitsmedium nicht rechtzeitig zu der Verdampfungsseite zurückfließen kann, wo somit eine Abbrennung des Arbeitsmediums auftreten kann.
  • 2 zeigt einen Vapor Chamber-Kühler aus TW 443714 , der eine Oberplatte 20, eine Kammer 2 und eine Unterplatte 22 umfaßt. Die Oberplatte 20 bildet eine Vielzahl von Vorsprüngen 21. Die Unterplatte 22 ist mit einer Kapillarstruktur 23 versehen, die mit den Vorsprüngen 21 der Oberplatte 20 in Kontakt steht, wodurch eine Stützung gebildet ist. Durch die Kapillarstruktur 23 kann das kondensierte Arbeitsmedium zurückfließen. Da die Vorsprünge 21 keine Kapillarstruktur besitzen und nur die Stützfunktion haben, ist die Kreislaufgeschwindigkeit des Arbeitsmediums und die Wärmeausbreitung begrenzt.
  • Daher weisen die herkömmlichen Lösungen folgende Nachteile auf:
    • 1. schlechte Kühlwirkung,
    • 2. schlechte Wärmeausbreitung,
    • 3. niedrige Kreislaufgeschwindigkeit des Arbeitsmediums.
  • Aus diesem Grund hat der Erfinder in Anbetracht der Nachteile herkömmlicher Lösungen, basierend auf langjähriger Erfahrung in diesem Bereich, nach langem Studium, zahlreichen Versuchen und unentwegten Verbesserungen die vorliegende Erfindung entwickelt.
  • Aufgabe der Erfindung
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Stützung für planares Wärmeleitrohr zu schaffen, die einen Hauptkörper und einen Mantel umfaßt, wobei der Mantel an einer ersten Umfangsseite eine Kapillarstruktur aufweist, durch die die Kreislaufgeschwindigkeit des Arbeitsmediums erhöht wird, so dass eine bessere Wärmeausbreitung und Kühlwirkung erreicht wird.
  • Diese Aufgabe wird durch die erfindungsgemäße Stützung für planares Wärmeleitrohr gelöst, die einen Hauptkörper und einen Mantel umfaßt, wobei der Mantel mindestens eine offene Seite und eine erste Umfangsseite aufweist, die mit der offenen Seite verbunden ist, wobei die erste Umfangsseite mit einer Kapillarstruktur versehen ist, und wobei die erste Umfangsseite und die offene Seite einen Hohlraum bilden, in dem der Hauptkörper aufgenommen ist.
  • Das erfindungsgemäße planare Wärmeleitrohr umfaßt einen Deckel, mindestens einen Hauptkörper und mindestens einen Mantel, wobei der Deckel eine erste Planplatte und eine zweite Planplatte enthält, die eine Kammer bilden, in der die Hauptkörper und ein Arbeitsmedium aufgenommen sind; der Hauptkörper eine Stirnseite, eine Unterseite und eine zweite Umfangsseite aufweist, wobei die Stirnseite und die Unterseite mit der ersten und zweiten Planplatte in Kontakt stehen; und der Mantel eine erste Umfangsseite aufweist, an der eine Kapillarstruktur vorgesehen ist, wobei die Mäntel aufeinanderliegend über den Hauptkörper geschoben werden können.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • 1 eine Schnittdarstellung des herkömmlichen planaren Wärmeleitrohrs,
  • 2 eine Schnittdarstellung des herkömmlichen Vapor Chamber-Kühlers,
  • 3 eine perspektivische Darstellung des Mantels eines bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung,
  • 4 eine Explosionsdarstellung eines bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung,
  • 5 eine Schnittdarstellung eines bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung,
  • 6 eine perspektivische Darstellung des Mantels eines weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung,
  • 7 eine Explosionsdarstellung des weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung,
  • 8 eine Schnittdarstellung des weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung.
  • Wege zur Ausführung der Erfindung
  • Im folgenden wird die Erfindung anhand eines bevorzugten Ausführungsbeispiels näher beschrieben.
  • 3, 4 und 5 zeigen ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel der Erfindung, das einen Hauptkörper 3 und einen Mantel 4 umfaßt. Der Mantel 4 weist mindestens eine offene Seite 41 und eine erste Umfangsseite 42 auf, die mit der offenen Seite 41 verbunden ist. Die erste Umfangsseite 42 ist mit einer Kapillarstruktur 421 versehen, die durch ein poröses Gebilde aus Metallfedern, Metallnetz, oder gesintertem Metallpulver gebildet ist. Die Kapillarstruktur 421 hat eine Führungswirkung und bildet mehrere Kanäle, durch die das Fluid schnell von der Kaltzone zu der Heißzone zurückfließen kann, wodurch die Fließgeschwindigkeit des Fluids erhöht wird, so dass eine Abbrennung des Fluids in der Heißzone vermieden wird. Die Kapillarstruktur 421 kann auch direkt durch die Rillen oder Löcher an der ersten Umfangsseite 42 gebildet sein.
  • Die erste Umfangsseite 42 und die offene Seite 41 bilden einen Hohlraum 43, in dem der Hauptkörper 3 aufgenommen ist. Der Hohlraum 43 ist mit der offenen Seite 41 verbunden.
  • Der Mantel 4 ist ein Hohlkörper (nachfolgend wird auch mit 4 bezeichnet). Der Hohlkörper 4 ist zylinderförmig, rechteckig oder quadratisch ausgebildet. Im vorliegenden Ausführungsbeispiel ist der Hohlkörper 4 zylinderförmig. Darauf ist die Erfindung jedoch nicht beschränkt. In der Praxis kann der Hohlkörper sich an die Form des Hauptkörpers 3 anpassen. Der Hohlkörper weist eine erste Stirnseite 411 und eine zweite Stirnseite 412 auf. Die erste und zweite Stirnseite 412 bilden jeweils eine offene Seite 41.
  • Wie aus den 3, 4 und 5 ersichtlich ist, ist der Hauptkörper 3 aus Material mit hohem Wärmeleitkoeffizient, wie Kupfer, Silber, Aluminium oder deren Legierung, hergestellt und weist eine bessere Wärmeleitfähigkeit auf, wodurch die Wärme im Hochtemperaturbereich (Heißzone) zu dem Niedertemperaturbereich (Kaltzone) transportiert werden kann, so dass eine gute Kühlwirkung erreicht wird. Der Hauptkörper 3 weist eine Stirnseite 31, eine Unterseite 32 und eine zweite Umfangsseite 33 auf. Die Stirnseite 31 und die Unterseite 32 fluchten mit der ersten Stirnseite 411 und der zweiten Stirnseite 412 des Hohlkörpers und die zweite Umfangsseite 33 liegt an der Innenwand der ersten Umfangsseite 42 an, wenn der Hauptkörper 3 im Hohlkörper aufgenommen ist.
  • Der Hauptkörper 3 steht mit einem Deckel 5 in Kontakt. Der Deckel 5 ist aus Material mit hohem Wärmeleitkoeffizient, wie Kupfer, Silber, Aluminium oder deren Legierung, hergestellt. Der Deckel 5 enthält eine erste Planplatte 51 und eine zweite Planplatte 52. Die erste Planplatte 51 steht an der der zweiten Planplatte 52 abgewandten Seite mit einer Wärmequelle (nicht dargestellt), wie Zentraleinheit, in Kontakt. Die erste Planplatte 51 bildet die Wärmeaufnahmeseite (Verdampfungsseite) und die zweite Planplatte 52 bildet die Wärmeabgabeseite (Kondensationszone).
  • Zwischen der ersten und zweiten Planplatte 51, 52 ist eine Kammer 53 gebildet, in der die Hauptkörper 3 mit den Hohlkörpern und ein Arbeitsmedium aufgenommen sind. Im vorliegenden Ausführungsbeispiel ist das Arbeitsmedium durch Wasser gebildet. Darauf ist die Erfindung nicht beschränkt. Das Arbeitsmedium kann auch durch Reinwasser, anorganische Verbindungen, Alkohole, Ketone, flüssiges Metall, Kühlmedium, organische Verbindungen oder deren Gemische gebildet sein. Die Hauptkörper 3 in der Kammer 53 dienen zur Stützung der ersten und zweiten Planplatte 51, 52. Durch die Hohlkörper um die Hauptkörper 3 wird die Kontaktfläche (oder Stützfläche) mit der ersten und zweiten Planplatte 51, 52 vergrößert, wodurch die Festigkeit erhöht wird und die Montage erleichtert wird, so dass die Herstellungskosten reduziert werden.
  • An den Innenwänden der Kammer 53 ist eine Kapillarstruktur 531 vorgesehen, die an der der Kammer 53 zugewandten Seite der ersten und zweiten Planplatte 51, 52 (an den Innenwänden der Kammer 53) angebracht ist. Das Arbeitsmedium ist auf der Kapillarstruktur 531 der ersten und zweiten Planplatte 51, 52 verteilt.
  • Die Wärme der Wärmequelle wird von dem Arbeitmedium in der Kapillarstruktur 531 der ersten Planplatte 51 (Verdampfungsseite) absorbiert, wodurch das flüssige Arbeitsmedium 55 in ein gasiges Arbeitsmedium 56 umgewandelt wird. Das gasige Arbeitsmedium 56 fließt in der Kammer 53 schnell zu der zweiten Planplatte 52 (Kondensationszone). Gleichzeitig wird die Wärme der ersten Planplatte 51 durch die Hauptkörper 3 auf die zweite Planplatte 52 geleitet. Das gasige Arbeitsmedium 56 gibt an der Stelle der zweiten Planplatte 52 die Wärme ab und wandelt sich in das flüssige Arbeitsmedium 55 zurück, das durch die Kapillarstruktur 531 der zweiten Planplatte 52 zu der ersten Planplatte 51 zurückfließt. Der Rückfluß des flüssigen Arbeitsmediums 55 wird von der Kapillarstruktur 421 an der ersten Umfangsseite 42 unterstützt, wodurch die Kreislaufgeschwindigkeit des Arbeitsmediums erhöht wird, so dass die Wärme kontinuierlich abtransportiert wird. Daher wird die Kühlwirkung verbessert.
  • Die Mäntel 4 können aufeinanderliegend über den Hauptkörper 3 geschoben werden, bis sie die Höhe des Hauptkörpers 3 erreichen, damit die Mäntel 4 auch mit der ersten und zweiten Planplatte 51, 52 in Kontakt stehen. In einem weiteren Ausführungsbeispiel ist um den Hauptkörper 3 drei Mäntel 4 gelegt. Darauf ist die Erfindung nicht beschränkt. Die Anzahl der Mäntel um den Hauptkörper kann auch 4, 5, 6 usw. betragen. D. h. Die Anzahl der Mäntel 3 ist von der Höhe des Hauptkörpers 3 abhängig.
  • Daher weist die Erfindung folgende Vorteile auf:
    • 1. bessere Kühlwirkung,
    • 2. bessere Wärmeausbreitung,
    • 3. höhere Kreislaufgeschwindigkeit des Arbeitsmediums
    • 4. höhere Festigkeit und größere Stützfläche (Kontaktfläche).
  • Die vorstehende Beschreibung stellt nur die bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung dar und soll nicht als Definition der Grenzen und des Bereiches der Erfindung dienen. Alle gleichwertige Änderungen und Modifikationen gehören zum Schutzbereich dieser Erfindung.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • - TW 443714 [0005]

Claims (6)

  1. Stützung für planares Wärmeleitrohr, umfassend einen Hauptkörper (3), und einen Mantel (4), der mindestens eine offene Seite (41) und eine erste Umfangsseite (42) aufweist, die mit der offenen Seite (41) verbunden ist, wobei die erste Umfangsseite (42) mit einer Kapillarstruktur (421) versehen ist, und wobei die erste Umfangsseite (42) und die offene Seite (41) einen Hohlraum (43) bilden, in dem der Hauptkörper (3) aufgenommen ist.
  2. Stützung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Kapillarstruktur (421) durch ein poröses Gebilde aus Metallfedern, Metallnetz oder gesintertem Metallpulver gebildet ist.
  3. Stützung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Kapillarstruktur (421) direkt durch die Rillen oder Löcher an der ersten Umfangsseite (42) gebildet ist.
  4. Stützung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Mantel (4) zylinderförmig, rechteckig oder quadratisch ausgebildet ist.
  5. Stützung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Hauptkörper (3) aus Material mit hohem Wärmeleitkoeffizient hergestellt ist.
  6. Stützung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Hauptkörper (3) mit einem Deckel (5) in Kontakt steht, der eine erste Planplatte (51) und eine zweite Planplatte (52) enthält, die eine Kammer (53) bilden, in der die Hauptkörper (3) und ein Arbeitsmedium aufgenommen sind.
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