DE2011193A1 - Vorrichtung für die Elektronen-Rastermikroskopie und die Elektronenstrahl-Mikroanalyse - Google Patents
Vorrichtung für die Elektronen-Rastermikroskopie und die Elektronenstrahl-MikroanalyseInfo
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- DE2011193A1 DE2011193A1 DE19702011193 DE2011193A DE2011193A1 DE 2011193 A1 DE2011193 A1 DE 2011193A1 DE 19702011193 DE19702011193 DE 19702011193 DE 2011193 A DE2011193 A DE 2011193A DE 2011193 A1 DE2011193 A1 DE 2011193A1
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Description
Vorrichtung für die Elektronen-rRaötermikroskopie und die.
Elektronenstrahl-Ilikroanalyse -
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung für die Elektronen-Rastermikroßkopie
und die Elektronenstrahl-Mikroanalyse mit Abrabterung einer Probenoberfläche durch
einen primären Elektronenstrahl und Hachweis der ausgelösten
Elektronen niedriger Energie mittels eines Sekundärelektronen-Detektors, .
Mit Hilfe eines Elektronen-Rastermikroskops Iäi3t sich
eine Analyse der äußeren Gestalt (Topographie), mit Hilfe einer Elektronenstrahl-Mikrosonde eine Elementaranalyse
der Oberfläche einer Probe durchführen. Die Ergebnisse derartiger Analysen können mittels eines Äuswertegeräts
a.ufgezeichnet oder in einem Bild dargestellt
werden. An beide Analysengeräte wird die !Forderung gestellt, noch geringfügige Strukturunterschiede auf "einer
Probenoberfläche empfindlich-nachzuweisen und kontrastreiche Bilder bei optimaler Auflösung zu liefern.
In beiden Geratetypen ist im elektronen-Optischen System
der Strahlerzeuger ein magnetisches Ablenksystem eingebaut. Dieses ermöglicht neben der Punktanalyse durch zellenförmige
Ablenkung jdes primären Elektronenstrahls über die Prob^noberflache und synchron dazu gesteuerte Auswertegeräte
(Registriergeräte (Schreiber), Ausgabegeräte (Zeichner),,Bildaufzeichnungsgeräte (Bildröhren)) die
Messung und Darstellung des Inteneitätsverlaufs von Meßßignalen entlang von Linien oder über einen Bereich der
Probenoberfläche.
VPA 9/3-63/0502 Nm/Bz
109 8397U45
— O '.—
BAD ORIGINAL
Bei der Y/echr-'aiv. iivnmc 2wirohen οΐυτιϋ h'>chov:rx::,o i.icchon
priurren j VLe Ir tm η one truhi {5 bis Ίυ i:cY) um! ο i.nor JT"I)':
tail;,':! te he η vorw ίο^ϋπα Run fcgonr-trahlsn, liokirurc^iole1: Lrorrjn,
Sekundär- und Auger-Elektronen. Bei aer Elei:tronon--u';i; l,\r-~
üJikroEJkopie -werden in erster linie die niedorurjc-r^etif-ciion
Sekundärelck tronen (maximal ο fcv/a 5ü cV) alfi I'j .'ri^nalr
verwende c; bei der ijiektronönEfcrylil-l-iikroimfjlyrc· vcrdcn
.fast alle pbyrn kali rohen VorrrArit n'e air Infonna-
tionsmögliclikeiben f.ir die Anpilyse in Ba krach ό
Venn mit Hilfe eines der beiden AnalyeengerMto die Oberflächenstruktur
einer Probe untersucht werden roll, ice
man bestrebt, nur dif; bei der l'eelirjelv.'lrkurj^ dor Probemit
dem primären .ifilek tronens trahl auftretenden niederenergetischen
Eekundärelektronen, nicht jedoch die R-JCkstreuelektronen
sur Bilddarctellung heranzuziehen. Die Begründung dafür ist darin zu sehen, daß die Punk !,auflösung
bei der Analyse der Oberfläche einer uiuseivea
Probe mit Hilfe von Boluindxrelektrünorj ue eine Gro'-'sn-Ordnung
besser ist als mit liackstrouelektronen.
Es irt bekannt, daß jLlektronon-Rairtern.lkrorkope, dia mit
dem Ziel einer elektronen -optischen Lar vtellun^ von I-.ikro
strukturen einer T-robenoberfl'iche bei extremer Vergrößerung
und Auflösung diese mit einem 'i.uß3rst feinen primären
Elektronenstrahl zellenförmig abrastern, zur Erzeugung
des Bildsignals unter anderem einen sogenannten Sekundärelektronen-Detektor verwenden. Dieser weist die
an der Probonoberfläche ausgelösten Sekundärelektronen
nach Maßgabe ihrer Anzahl durch Abgabe eines verstärkten Stromsignals nach.
Ein derartiger Sekundärelektronen-Detektor beeteht aus
einem elektronen-optischen System und einem Nach-weissystem.
Das elektronen-optische System hat die Aufgabe, möglichst viele der den Auftreffort des primären Elektronenstrahls
an der Probenoberfläche in allen Richtungen
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. - 3 - YPA 9/363/0502
■verlassenden iiGkundärelelctronen dem Detektor zusuf uhren-..
Ira J-Iuchweiscyc-teih we-rtlon die relativ langoaiceu Sekundär--■
elektronen ttunTehst einem Ivachbc^ehleuniguagssystera zugef'ihrt,
welches sie zur Erhöhung der ITachweisernpf indlici!-
kcit auf genügend hoha Energie beschleunigt (etwa.. 1- bis
15 ireV). Me .besehietmlgten" KlektroDer) treffen auf einen
Elektroner.njiiliiiplier oder einen Szintillationskristall,
denen ein ernpfindliclier Ii1OtOiTjUItIp]-IeI"1 oder ein Halbleiterdetektor nacbgerclialtet ist.
ι ■
Ein Uekundärelektronen-lJetektor ßpriclit zwangsläufig
aucb auf die ßclinellen Rlickstreueloktronen a.n, die aus
"einor größeren Umgebung dee Auitreff ort.s . dee pT.ufriren
Elektronens trshlG an der Probenotxerf l/.iclie■■ surüokgestreut ·
Vv'ercl-an. Das Signal der Riickrtreuelektronen begrenzt die
Auflösung und versetileciitert cusatr.lich den Bildkontrast",
V,Mrd die llaon.v.'eißcmp.findlicliköit eines Sekundärelektrone.n-Deteirtoi'ö
f:^r Rdcketreuelektronen Terringert, so muß damJ ';
au on. ein Γπ-pf indlicbkeitsYcriluet für die Cekundarelektronen
in Kauf genocaen werden.
Line weitere Verschlechterung der Auflösung.und des Kontras teβ im Rasterbild wird durch tertiäre Elektronen bewirkt,
die ebenfalls vom Sekundarelektrouen-Detektor erfaßt werden. Tertiäre Elektronen sind Sekundärelektronen,
die von den" Riickstreuelektronen im elektronen-optischen
System des Sekund>irelektronen-Detektors oder in der Umgebung der Probe ausgelöst werden, also beispielsweise
aus der Oberfläche des Linsenpolschuhs der die feine Bündelung des primären Elektronenstrahls' erzeugenden Elektronenlinse
oder aus den Probenkammerwänden. Bei ungünstigen Untersuchungsbedingungen kann das durch die parasitären
Elektronen, d. h. durch die Rückstreu- und die tertiären
Elektronen, erzeugte Bildsignal das Signal der Sekundärelektronen überwiegen. .· .
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BAD ORIGINAL
- 4 - VPA 9/363/O5O2
Der Erfindung liegt die "Aufgabe zugrunde, für die E,lek~
tronen-Rastermikroskopie und die Elektronenstrahl -Mikroanalyse
eine Vorrichtung zu schaffen, welche es einerseits verhindert, daß die vom Sekundärelektronen-Detektor
erfaßten parasitären Elektronen a.m Aufbau des Bildsignals beteiligt werden, welche es andererseits nur den
■vom Sekundärelektronen-Detektor erfaßten niederenergetineben
Elektronen (bie maximal einige 100 eV) oder speziell nur den Sekundärelektronen gestattet, ungeschwächt
zum Bildsignal beizutragen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß da.durch gelöst, daß zur Erzeugung kontrastreicher, hochaufgelöster Bilder
der Oberflächenstruktur einer Probe eine Modulationseinrichtung
zur periodischen Schwächung oder Unterbrechung des an der Probenoberfläche ausgelösten und in
den Sekundärelektronen-Detektor eintretenden Stroms niederenergetischer Elektronen vorgesehen und dem Sekuncl?.relektronen-Detektor
ein o,uf die Frequenz der Modulationseinrichtung abgestimmter Bildsignalgeber nachgeschaltet
ist.
Eine zweckmäßige Ausbildung der Erfindung sieht vor»
daß durch die Modulationseinrichtung an der Probenoberfläche ein elektrisches Wecheelfeld erzeugt wird.
Dieses sollte in Richtung und Stärke so gewählt sein, daß der primäre Elektronenstrahl gar nicht oder nur vernachlässigbar
beeinflußt wird.
Durch ein genügend hohes elektrisches Wechselfeld an der Probenoberfläche werden Elektronen niedriger Energie,
also Sekundärelektronen und eventuell auftretende Auger-Elektronen, abwechselnd am Austreten aus der Probe gehindert
und beim Austreten aus der Probe beschleunigt. Die hochenergetischen Rückstreuelektronen werden dagegen
durch das elektrische Wechselfeld nicht beeinflußt. Die tertiären Elektronen, deren Energie in demselben Bereich
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ßAD ORIGINAL
- 5 - .VPA 9/363/O5O2
liegt wie die Energie' der Sekundärelektronen, "bleiben
wegen ihrer Entstehung aus den Rückstreuelektronen^ von
der Modulation im wesentlichen gleichfalls unbeeinflußt.
Nach einer weiteren Ausbildung-der Erfindung, wird das
elektrische Weehselfeld a.n der proben oberfläche mit
Hilfe eines eipe elektrische "Spannung liefernden Oszillators erzeugt. Dabei ist eine erste Ausgangsklemme des
Oszillators mit der Probe und eine zweite Ausgangsklemme
mit der Eingangsöffnung des Sekundär&lektronen-Detektors
elektrisch leitend verbunden. Die zweite Ausgangsklemme ka.nn aber auch mit der Elektronenlinse oder mit einer
Probenkammerwand verbunden sein,· sie kann schließlich · a.uch an eine im Raum vor der Probenoberfläche angeordnete
Hilfselektrode angeschlossen sein* Die Hilfselektrode
ist als ringförmige Scheibe ausgebildet. Unter Umständen ist es jedoch auch vorteilhaft>
eine Hilfselektrode in Porin einer Spitze, Schneide oder eines Siebs
zu verwenden.
Eine weitere Ausbildung der Erfindung sieht vor, daß durch die Modulationseinrichtung an der Probenoberfläche
ein magnetisches ΐ/echselfeld erzeugt wird. Bei gekippter
Probe sollten die magnetischen .Feldlinien vorzugsweise parallel zur Richtung des primären Elektronenstrahls yer-.
laufen. Das magnetische Wechselfeld kann· dadurch erzeugt |
werden, daß die Ausgangsklemmen des Oszillators an eine eich im Raum zwischen Elektronenl4.nse und Probe befind-.
liehe Spule angesphlossen ist, - ßweckmäßigerweise wird .
ale Oszillator ein Sinus- oder Rechteckgenerator benutzt.
Eine Weiterbildung der Erfindung, sieht vor, daß der Bild-.
Signalgeber ein Verstärker mit einem vorgeschalteten echmalbancligen, au^ die Frequenz der Madulationseinrichtttng
abgestimmten Bandpaßfilter iet. Der Bildsignalgeber kann aber'auch ein phaeenempfindlicher Gleichrichter sein,
weitere Eingangsklemmep zur Aufnahme eines Referenz-
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signals rait den Ausgangsklemmen ües Oczillitors verbunden
sind. Der phoeenempllndlielie Gleichrichter sollte
ein Phasenstellglied besitzen.
Um die in den Sekundarelfcirtronen-Betektor gelangende«
Elektronen energe tisch zu diskriminieren oder um ans
Ausgang des Sekundä.releirtronen--De-sektors ein möglichst
hohes Ausgangssignal zu erhalten, ist eine weitere Aus
bildung der Erfindung dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich zwischen Probeuoberfläebe und EingangBöffnuBg
des Sekundärelektronen-Detaktors ein eins cellbares,
konstantes elektrisches Feld erzeugt wird. Dazu liegt
je nach Amvendungcfall die Üingangsöffming auf eines
gegenüber der Probe poFitiven oder negatlveü Potential.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Figur dargestellt und wird im folgenden n-ilier beschrieben.
Die Figur zeigt einen primlren Elektronenstrahl S, der
nach Durchtritt durch eine ElektronenliDce L rasterförmig
über eine Probe ? gelenkt wird. .rJlekironische
Ablenkeinrichtung und zugehörige Ansteuergerlfce sind
in der .Figur nicht dargestellt. Probe P und I^leirtronerxlinse
L sind von einer Probenkammerwand W uiegeben. Die
Normale zur Pr ob en oberfl:; ehe ist aue der Richtung parallel
zum primären Elektronenstrahl E um einen einstellbaren
Winkel α in Richtung auf einen an sich, bekaüüteu Sekuudärelektronen-Detektor
D geneigt.
Die erste Ausgangsklemme K1 eines Oszillators 0 ist mit
der Probe P, die zweite Ausgangskleame K2 fflit der Probeolcammerwand
W elektrisch leitend verbundeu. ProbenkaBjmerwand
¥ und Elektronenlinse L ßind an Masse (Hullpotential)
gelegt. Der Oszillator O liefert eine Wechselspannung der
!frequenz f und erzeugt ein elektrisches Weehselfeld in
einem Kondensator, dessen eine Elektrode durch die Probe
P und dessen andere Elektrode durch die Umgebung der
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BAD
Probe Py also durch die ^eobenlrammerfeaöd"¥. und die Blelr-
Der Seirundarelektrpoen-Betefcfror S5, dessen Hochspannungs-Versorgung
in der jPigu^ nialit geiseiütatj^t ist, gibt an
die. EiögaßgskleiaiBeiJ BI und 12 eines phaseceiDpfindlicb-ep
Öleichrichters CXödc-iB Amplifier) PS eine -Spaöüufig ab,
die proportional der in seine Eingaugsoffnung Έ einfal-XendeB
Anzahl τγοώ Elefetroaen istV Me EingaueskleTDme E2
liegt auf Masse. Zar Einspeisung eines Referenzsignals
sind die weiteren SingangEikleiaiiien "Li und L2 des phasen-.
eispf indliclien öleiclaricliters PG übe? ein .Potentiometer
R1 mit den A-asgangsklss!se-n El upä^^K2 des Oczillators 0
TerT3unden.I)as TOiE phaseBeEipfindlichen Grleiclirichter PCt
gelieferte Eildsignal S wird einem "belrannten Auswertegerät
ilr ζ. B. eiasm raiii der RasterDev;egung des .primären
Elektronenstraiils E syncbron augesteuerten Bildviiedergabegerätj
sugefiiiirt. ^v
Züsv.tslioii aus liecliselfeld wird^^ an de^r Proben ο oerfläche
ein eleirtrieclies ijlfeiclifeld erzeugt. Dazu ist eine Spa,n~
nungsqiierie BT (Spannung s. B. 200 V") zwischen Eingangsöffnung
Έ des Selcündäreleiitronen-Detektors Ϊ) und irolDen-Umgebung
ge schaitet. Ihr^^ Pluspol liegt an^ der^Eingangsöffnung
^, ihr Minuspol an lasse. (Für manche Zweclce
kann eine tJinpolmng sinnvoll sein-..)
lcafitj aus Crründen des I>urchgriffs der .elektric
sehen Feldlinien auf die Probe P ein weiteres, nach Richtung und Größe einsteilbares elektrisches Gleichfeld an
der Probenoberflache erzeugt werden. Dazu ist der Mittelabgriff
eines -weiteren Potentiometers R2, das mit einer
weiteren Spannungsquelle B2 verbunden ist, leitend an
die Probe P geführt. Ein Umschalter TT gestattet eine
Polasitätsumlfehr des an öer Probe P liegenden Potentials.
Ein Pol der SpaBnungsquelleBI bleibt dabei stets an Kasae
gelegt. In der i"igur liegt die Probe P gegenüber ihrer
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'""'"'■-"*' BAD ORIGINAL
- 8 - VPA 9/363/O5O2
Umgebung (W, L) auf negativem Potential (z. B. -5 V). Die
Richtung dienes elektrischen Feldes wird durch Veränderung des Winkels α und/oder durch Betätigung des Umschalters U,
die Größe des Gleichfeldes am Potentiometer R2 eingestellt.
Der hochenergetische Strahl E primärer Elektronen (Energie
z. B. 20 keV) erzeugt am Auftreffort auf der Oberfläche
der Probe P hochenergetische Rückstreuelektronen e (kinetische Energie ca. 20 keV), niederenergetische Sekundärelektronen
e^ (kinetische Energie bis 50 eV) und in geringer Zahl auch (nicht dargestellte) niederenergetische
Auger-Elektronen. In der Figur sind die Verhältnisse zu dem Zeitpunkt dargestellt, zu dem die negative Amplitude
(z. B. -10 Y) der vom Oszillator 0 gelieferten Wechselspannung an der Probe P (ihr Potential gegenüber Masse
beträgt dann insgesamt -15 V) liegt: Die an der Probenoberfläche erzeugten Rückstreuelektronen e verlassen
wegen ihrer hohen kinetischen Energie unbeeinflußt von
dem su dieser. Zeitpunkt positiven Potential (im Beispiel insgesamt +215 V) der Detektoröffnung F die Probe P auf
geradlinigen Bahnen. Ein kleiner !eil von ihnen tritt in den Detektor D ein. Die niederenergetischen Sekundärelektronen
eß dagegen werden auf gekrümmten Bahnen in Richtung auf die Detektoröffnung F gelenkt. Auch einige der
von den Rückstreuelektronen e in der Umgebung der Probe
P, z. B.'an der Elektronenlinse L oder an der Probenkammerwand
V/, erzeugten niederenergetischen tertiären Elektronen e. gelangen in die Detektoröffnung F.
Fach einer Halbperiode liegt an der Probe P die positive Amplitude (z. B. +10 V) der vom Oszillator 0 gelieferten
Wechselspannung. (Das Potential der Probe P gegenüber Masse beträgt getzt +5 Y.) Die schnellen Rückstreuelektronen
e werden durch das Potential der Detektoröffnung F (im Beispiel jetzt +195 V) nach wie vor nicht beeinflußt. Auch in diesem Fall tritt ein kleiner Teil von ihnen
in den Detektor D ein. Die tertiären Elektronen e.
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BAO ORIGiNAL
- 9 - . VPA 9/363/0502
werden wegen ihrer Erzeugung durch die Rückstreuelelctronen
e von der Potentialändeirung der Probe P wenig beeinflußt.
Von den Se-kundärelektronen e dagegen.,geht ein
großer Anteil für den ÜTaeirweis im Detektor D verloren,
da das unmittelbar an der Probenoberfläche wirksame elektrische
-PeId verringert wurde. Der größte Teil von ihnen kann den Entstehungeort erst gar nicht verlassen T da eich ;
vor der Probenoberfläche eine Raumladung ausbildet.
Es ist also ersichtlich, daß von der periodischen Variation :
des elektrischen Feldes zwischen Probe P und Umgebung .in
erster Linie die Sekundärelektronen e„ betroffen werden. Im phasenerapfindlichen Gleichrichter PG- wird nur dieje- , |
nige Komponente der Ausgangsspannung des Sekundärelek- -K
tronen-Detektors D verstärkt und gleichgerichtet, die periodisch mit der !Frequenz f des Oszillators 0 und außerdem
phasenrichtig variiert. Das Bildsignal S enthält also in erster Linie die vop den Seknndärelektronen eß gelieferte
Information über die Struktur der Probenoberflache . . . .
Die mit der Erfindung erzielten Vorteile bestehen insbesondere darin, daß bei der Bilddarstellung der Oberfläche
einer Probe optimale Auflösung und extrem differenzierter Bildkontrast erreicht werden, da am Bildaufbau
ausschließlich Elektronen niedriger Energie, vorwiegend i
Sekundärelektronen, beteiligt sind,. Weiterhin ist im Gegensatz
zu ;Mshex Üblichen Sekundärelektronen-Detektoreii
äie ΑϊΤΜβΏαφβ eines Energie analysator^ nicht erforderlich,
um die 'Ruoldetreuelek-feroneri rom Detektor fernzuhalten, was
Meher ste^e, zu eipem Empfindliobkeitsveriust führte.
Perner "braujoht die Detektoröffnung Dicfct mehr in eipe
geometrisch!© Lage gebracht zu werden, welche den Eintritt
der RücjEotrjeuelektronen unmöglich macht. Statt dessen
kann der Se.fcundärelektronen-Detektör in unmittelbarer
ί . ."-■_··■■
Hän.« auf dta. Probe gerichtet werden, sölbst wenn die. Pro- ,
senkrecht zum einfallenden primären Elek-
109839/144 6. ^ 10 - .
f BAOORlGtNAL
- 10 - VPA 9/363/O5O2
tronenstrahl liegt ( α = 0°). In dieseia Fall läSt sich
schon bei einer niedrigen Wechselspannung ein elektrisches
We jhself eid hoher Amplitude an dar Prottenoberf lache
erzielen. In der Halbperiode, in der die negative Amplitude an der Probe liegt, führt das zu einer Steigerung
der An. zahl der Sekundärelelrtronen, welche den
Detektor erreichen.
•14 Paten tan epr u ehe
1 Figur
1 Figur
~ 11 —
109839/U45
Claims (1)
- M11193Vorrichtung;-" f-.jz die BlektroBeii-rRasteriiiikroBkopie und die ElelitroKenstraiii-liivroansrlyee mit Abmsterung ■einer--ProbenODerflaclie durch einen primären Blek-strahl und liaeteeeii? der., ausgelöste)! Elektronen ger Energie isittele eiiiec; Sekunääreleictronen-' Λ Detektors,.· dadurchgetrer-Bssioteet, daß sur .-.Erzeugung. kontrast reicher, ■'.höcbau'f gelö st er Bilder der Oberfl U-cheBrtrufctur eiiaer Srobe (I5) eir;e KodtiiatioQseinriGh- ■ tuiig.sur psriodiseheii £cliT.iäch'ing:oder tJnterbrechung äQB an der Probenobex*£lSclie ■ ausgelösten und in den SelaiiidärelektroDeti—Bafeklior- (D) ein tretendeu Stroms KledereTiergetisoher Slektroiien .τρ-rge^^sehen und dem |Sekuiidarelektronen—pste!stor.(]D) ein auf die Frequenz ■(f) der .Kodulationseinrichttiiig abgestitmöter Bildsignal-F^v-t>sS*r IJ ctviixM-tit"^iJt-CA-J-' tit? w JLo u β2* ¥ori?xclitui?g üscli Äns^Eiaeli 1, öadurcli ge öaß.-öarcli. die; KodiilatiosseiOriclitimg aa der ProTjoD-oberfläche el« eiektriscaeS; ¥ecliselfeld ißt. '...- : ■; ;:/';■_: "-- ; ;3. Torrichttiüg tjacli has^riicii 2, dadureli gekerrazeictoet, "'daß "elüe■'e^.s€e^^ j-usgaugskleiBsie (Kl) eiiaes Oszillators. -■ (ü) Kit der VisobQ i?) mad eine ■■ zweite Ausgang sie lerame (K2)^ lait eioer BingaiBgsoifiiung^E) des Sekundäreiektronen-Detektors (U) elektrisch leitend verbunden4. VörriclitUDg nacii Aneprueh 2, dadurch gekennzeichnet, daß die erste AusgangElrleiBine <E1) des Oszillators (θ) mit der Probe (P) und die zweite Ausgangsklemme (K2) mit einer Elektronenlinse (L) verbunden ist.5. Vorrichtung nach Ansprucli 2, dadurch gekennzeichnet, da0 die erste Ausgang;slrleinme (K1) des Oszillators (O)109835/1445 \nBAD ORIGINAL- 12 - YPA 9/363/05υ2·2p11193mit der Probe (P) und die zv/eite Ausgang ski e Dime (K2) mit einer Probenlramroerwand (W) verbunden ist.6. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Ausgangsklemme (K1) des Oszillators (O) mit der Probe (P) und die zv/eite Ausgstigsklemme (K2) mit einer im Raum vor der Probeηoberfläche angeordneten Hilfeelektrode verbunden int;7. Vorrichtung nach Anspruch 6; dadurch gekennzeichnet, daß die Hilfselektrode eine ringförmige Scheibe ist.S. Verrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß durch die Kodulationseinriehtung an der Probenoberflüch-a ein magnetisches Wechselfeld erzeugbar ist.9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, da.?/ die AuLgangskleimen (KI und K2) äe& Oßzillators (0) en eine eich im Raum zwischen Elektronenlinse (la) und Probe (?) befindliche Spule angeechlossen sind.10. Vorrichtung nach Anspruch.3 oder eiusia der folgenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß άβτ Oszillator (0) ein Sinus- oder Rechteckgenerator Ist.11. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder einen! der folgenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Bildsignalgeber ein Verstärker mit einem vorgeschalteten schmalbandigen, auf die Frequenz (f) der Modulationseinrichtung abgestimmten Bandpaßfilter ist.12. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder einem der folgenden Ansprüche, ausgenommen Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß der Bildsignalgeber eio phaeenempfindlicher Gleichrichter (PG) ist, dessen weitere Ein-n (L1, 12) zur Aufnahme eines Referenz-109839/1445 - 13 -BAD ORIGINAL,^ - -13- . VM -9/^63/0502signals ϊπΐ-fe den Ausgang sklemraeii (Ki1 &2) ^es Dszillators? (θ)15. TorrlchtungVtiaob: i^spruöh 12* dacliärcli: g^kentizeictoet, daß der pliasei3eiD|ifiüdliGii© ixl^Jölirlclitex (Bff) eitr Phasetistellglied "besitzt, . '14·" Torriölituüg wacli Änsprucli ΐ oder einem der folgerxdeh-, dadtircti.:gelrenn3eichüet, daß Probenotierfraolie und Sin gangs öifüung des Sekundäreiektronen-Petektors Cd) ein einstelll)ares? konstantes elektrisches Feld erzeugt' ist,SADLe e rse fte
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FR7108019A FR2084337A5 (de) | 1970-03-10 | 1971-03-09 | |
US00122785A US3714424A (en) | 1970-03-10 | 1971-03-10 | Apparatus for improving the signal information in the examination of samples by scanning electron microscopy or electron probe microanalysis |
GB22775/71A GB1293716A (en) | 1970-03-10 | 1971-04-19 | The use of electron beams for examining surface structure |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2011193A DE2011193C3 (de) | 1970-03-10 | 1970-03-10 | Vorrichtung für die Elektronen-Rastermikroskopie und die Elektronenstrahl-Mikroanalyse |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2011193A1 true DE2011193A1 (de) | 1971-09-23 |
DE2011193B2 DE2011193B2 (de) | 1973-08-23 |
DE2011193C3 DE2011193C3 (de) | 1974-03-28 |
Family
ID=5764619
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2011193A Expired DE2011193C3 (de) | 1970-03-10 | 1970-03-10 | Vorrichtung für die Elektronen-Rastermikroskopie und die Elektronenstrahl-Mikroanalyse |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3714424A (de) |
CH (1) | CH520332A (de) |
DE (1) | DE2011193C3 (de) |
FR (1) | FR2084337A5 (de) |
GB (1) | GB1293716A (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4803357A (en) * | 1986-01-27 | 1989-02-07 | Siemens Aktiengesellschaft | Method and arrangement for detecting secondary particles triggered on a specimen by a primary particle beam |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2903077C2 (de) * | 1979-01-26 | 1986-07-17 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur berührungslosen Potentialmessung an einem elektronischen Bauelement und Anordnung zur Durchführung des Verfahrens |
DE2921151C2 (de) * | 1979-05-25 | 1982-12-02 | Ernst Leitz Wetzlar Gmbh, 6330 Wetzlar | Vorrichtung zum Nachweis von in einem Abtast-Elektronenstrahlmikroskop von einer Probe ausgehenden Rückstreuelektronen |
JPS5932145A (ja) * | 1982-08-16 | 1984-02-21 | Hitachi Ltd | 電位検出装置 |
JPS607049A (ja) * | 1983-06-24 | 1985-01-14 | Hitachi Ltd | 電位測定装置 |
GB8515250D0 (en) * | 1985-06-17 | 1985-07-17 | Texas Instruments Ltd | Testing of integrated circuits |
US5412210A (en) * | 1990-10-12 | 1995-05-02 | Hitachi, Ltd. | Scanning electron microscope and method for production of semiconductor device by using the same |
US5594245A (en) * | 1990-10-12 | 1997-01-14 | Hitachi, Ltd. | Scanning electron microscope and method for dimension measuring by using the same |
US5866904A (en) * | 1990-10-12 | 1999-02-02 | Hitachi, Ltd. | Scanning electron microscope and method for dimension measuring by using the same |
US5412211A (en) * | 1993-07-30 | 1995-05-02 | Electroscan Corporation | Environmental scanning electron microscope |
US6633034B1 (en) * | 2000-05-04 | 2003-10-14 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for imaging a specimen using low profile electron detector for charged particle beam imaging apparatus including electrostatic mirrors |
WO2010148423A1 (en) * | 2009-06-22 | 2010-12-29 | The University Of Western Australia | An imaging detector for a scanning charged particle microscope |
US9190241B2 (en) * | 2013-03-25 | 2015-11-17 | Hermes-Microvision, Inc. | Charged particle beam apparatus |
US10236156B2 (en) | 2015-03-25 | 2019-03-19 | Hermes Microvision Inc. | Apparatus of plural charged-particle beams |
US11933668B2 (en) * | 2020-02-03 | 2024-03-19 | Rohde & Schwarz Gmbh & Co. Kg | Sampling assembly and testing instrument |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3535516A (en) * | 1966-10-17 | 1970-10-20 | Hitachi Ltd | Electron microscope employing a modulated scanning beam and a phase sensitive detector to improve the signal to noise ratio |
-
1970
- 1970-03-10 DE DE2011193A patent/DE2011193C3/de not_active Expired
-
1971
- 1971-03-08 CH CH336371A patent/CH520332A/de not_active IP Right Cessation
- 1971-03-09 FR FR7108019A patent/FR2084337A5/fr not_active Expired
- 1971-03-10 US US00122785A patent/US3714424A/en not_active Expired - Lifetime
- 1971-04-19 GB GB22775/71A patent/GB1293716A/en not_active Expired
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4803357A (en) * | 1986-01-27 | 1989-02-07 | Siemens Aktiengesellschaft | Method and arrangement for detecting secondary particles triggered on a specimen by a primary particle beam |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3714424A (en) | 1973-01-30 |
FR2084337A5 (de) | 1971-12-17 |
DE2011193C3 (de) | 1974-03-28 |
GB1293716A (en) | 1972-10-25 |
CH520332A (de) | 1972-03-15 |
DE2011193B2 (de) | 1973-08-23 |
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Legal Events
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E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
EHJ | Ceased/non-payment of the annual fee |