DE2006965A1 - Verfahren zur Herstellung von Organo-H-chlorsilanen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Organo-H-chlorsilanenInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 26
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 title claims description 19
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 54
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 17
- SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylpropyl)aluminum Chemical compound CC(C)C[Al]CC(C)C SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 13
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 7
- -1 phenyl- Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 7
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 claims description 6
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 3
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FDCBKHMYMQKXGF-UHFFFAOYSA-N chloro-methoxy-methylsilane Chemical compound CO[SiH](C)Cl FDCBKHMYMQKXGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 9
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 9
- AWSNMQUTBVZKHY-UHFFFAOYSA-N chloro-methoxy-dimethylsilane Chemical compound CO[Si](C)(C)Cl AWSNMQUTBVZKHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 4
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N dichloro(diethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)CC BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QXIVZVJNWUUBRZ-UHFFFAOYSA-N dichloro-methoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(Cl)Cl QXIVZVJNWUUBRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical class Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N dimethylsilane Chemical compound C[SiH2]C UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXHQLEQLZPJIFG-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCC ZXHQLEQLZPJIFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGLWHXRTXWIDEE-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxyoctadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOCC DGLWHXRTXWIDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVJUHMXYKCUMQA-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropane Chemical compound CCCOCC NVJUHMXYKCUMQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYVYEJXMYBUCMN-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-2-methylpropane Chemical compound COCC(C)C ZYVYEJXMYBUCMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOPDRZXCEAKHHW-UHFFFAOYSA-N 1-pentoxypentane Chemical compound CCCCCOCCCCC AOPDRZXCEAKHHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSJVWZAETSBXKU-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxypropane Chemical compound CCOC(C)C XSJVWZAETSBXKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQLYXIUHVFRXLT-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethylbenzene Chemical compound COCCC1=CC=CC=C1 CQLYXIUHVFRXLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQIIEHBULBHJKX-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropylalumane Chemical compound CC(C)C[AlH2] LQIIEHBULBHJKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005234 alkyl aluminium group Chemical group 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- AZWXAPCAJCYGIA-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylpropyl)alumane Chemical compound CC(C)C[AlH]CC(C)C AZWXAPCAJCYGIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCITZMJNBYYMJO-UHFFFAOYSA-N chloro(diphenyl)silicon Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)C1=CC=CC=C1 YCITZMJNBYYMJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWBMKOFDSQDNQG-UHFFFAOYSA-N chloro(methoxy)silane Chemical class CO[SiH2]Cl MWBMKOFDSQDNQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001944 continuous distillation Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- UFCXHBIETZKGHB-UHFFFAOYSA-N dichloro(diethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](Cl)(Cl)OCC UFCXHBIETZKGHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCXUKTLCVSGCNR-UHFFFAOYSA-N diethylsilane Chemical compound CC[SiH2]CC UCXUKTLCVSGCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- VDCSGNNYCFPWFK-UHFFFAOYSA-N diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[SiH2]C1=CC=CC=C1 VDCSGNNYCFPWFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- SIAPCJWMELPYOE-UHFFFAOYSA-N lithium hydride Chemical compound [LiH] SIAPCJWMELPYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000103 lithium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010907 mechanical stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- GHDIHPNJQVDFBL-UHFFFAOYSA-N methoxycyclohexane Chemical compound COC1CCCCC1 GHDIHPNJQVDFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- SFLGSKRGOWRGBR-UHFFFAOYSA-N phthalane Chemical compound C1=CC=C2COCC2=C1 SFLGSKRGOWRGBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/126—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-Y linkages, where Y is not a carbon or halogen atom
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Description
München, den'11. Februar 1970 ■■■■'■' -'; - ;■ Dr-Wg./el
. Pass, Rechtsanwalt
in Gen. VoIIm. (HL-Nr. 52/64)
der Fa. DOW CORNING Corp.
in Gen. VoIIm. (HL-Nr. 52/64)
der Fa. DOW CORNING Corp.
Midland/Mich. (USA). PC
Verfahren zur Herstellung von Organo-H-chlorsllanen.
Aus der U.S.-Patentschrift 2.857.414- ist es bekannt, dass Halogensilane
und Alkoxysilane mit Dialkylaluminiumhydriden unter Bildung von Silanen, die Si-gebundene Wasserstoffatome enthalten,
umgesetzt werden können. Diese Patentschrift vermittelt die Lehre, dass die erhaltenen Reaktionsprodukte jeweils 1
Si-gebundenes Wasserstoffatorn für Jedes Halogenatom und für
jede Alkoxygruppe enthalten, wenn genügend Wasserstoff verhanden
ist, um mit allen Si-gebundenen' Halogenatomen oder Alkoxygruppen zu reagieren. Aus dieser. Patentschrift ist'
weiterhin zu entnehmen, dass die exotherm verlaufende Reaktion bei Temperaturen im Bereich von 20°- 26o°C stattfindet. Es
werden jedoch keine Massnahmen beschrieben, die eine Steuerung
der Temperatur während des Reaktionsablaufes ermöglichen.
Ausserdem wird kein Unterschied, zwischen der Reaktionsfähigkeit
von Si-gebundenen Halogenatomen und Si-gebundenen Alkoxygruppen
gemacht. . '
009837/2218
— 2 —
In der französischen Patentschrift 1.499.032 wird im wesentlichen
dieselbe Reaktion beschrieben. Diese Patentschrift vermittelt
jedoch zusätzlich die Lehre, dass die Reduktion der Halogen- oder Alkoxysilane durch Einsatz von A'thern wie Tetrahydrofuran
beschleunigt werden kann. Jedoch auch hier wird kein Unterschied hinsichtlich der Reaktionsgeschwindigkeit
zwischen Si-gebundenen Alkoxygruppen und Halogenatomen aufgezeigt. Ausserdem ist dieser französischen Patentschrift zu
entnehmen, dass die Reaktion von 0,1 Mol Diphenyldichlorsilan und 0,1 Mol Diisobutylaluminiumhydrid in Tetrahydrofuran als
Lösungsmittel 0,0^2 Mol Diphenylsilan und nur 0,006 Mol Diphenylchlorsilan
liefert. Demnach können bei Einsatz von nur der halben Menge -AlH, die zur Reduktion der gesamten Chloratome
in RpSiClp-Verbindungen benötigt werden,. keine signifikanten
Ausbeuten an Organohydrogenchlorsilan erhalten werden. Nach diesen Ausführungen muss mit Sicherheit erwartet v/erden, dass
RpSi(OR1^-Verbindungen sich gleichartig verhalten würden, nachdem
kein Unterschied zwischen Alkoxygruppen und Halogenatomen gemacht wurde.
Es ist jedoch auch bekannt, dass Si-gebundene Halogenatorr.e gegenüber
Organometallverbindungen im allgemeinen weit reaktionsfähige·;
a3s Si—gebundene Alkcxygruppen. · .
009837/2218
So wird beispielsweise in dem Buch von C. Eatoorn "Organos.il icon
Compounds", Butter-worths "Scientific Publications, London i960,
Seite 12 bis 30 gezeigt, dass Grignardverbindungen und Natriumalkylverbindungen
mit ChXoralkoxysilanen reagieren, wobei die Chloratome vor den Alkoxygruppen bevorzugt ersetzt werden. So
kann Dichlordiäthoxysilan mit einer Methylgrignardverbindung
unter Bildungvon DimethyIdiathoxysilan umgesetzt werden. In
dieser Literaturstelle wird auf Seite J52 ferner gezeigt, dass
Alkylalumiumverbindungen im allgemeinen mit Halogensilanen unter Bildung von Si-C-Bindungen reagieren, wodurch die Gleichwertigkeit
hinsichtlich der Reaktionsweise von Aluminiumalkylverbindungen,
Grignardverbindungen und Älkalimetallalkylverbindungen bestätigt wird. Diese Lehre wird durch die U.S.-Patentschrift
2.403.370 vermittelt.
Ferner wird in dem Buch von C. Eaborn auf Seite 197 gezeigt, ·
dass Lithiumhydrid mit Diäthyldichlorsilan oder DiäthyIdiathoxysilan
unter Bildung von Diäthylsilan reagiert. Daraus kann geschlossen werden, dass Metallhydride im allgemeinen in derselben
Weise wie Organometallverbindungen reagieren,.
Aufgrund dieses Standes der Technik war zwischen einem Si-gebundenem Halogenatom und einer Si-gebundenen Alkoxygruppe
im Hinblick auf Aluminiumhydrid eine Konkurrenzreaktion zu erwarten gewesen, wonach das Halogenatom bevorzugt
durch Wasserstoff ersetzt v/erden sollte. Es gibt keinen Hinweis in der U.S.-Patentschrift 2.857.414 und in der französischen
Patentschrift 1.499.032, der diese Annahme widerlegen
würde. Unter diesen Umständen muss es daher als überraschend angesehen werden, dass unter den im folgenden näher ausgeführten
Bedingungen des erfindungsgemassen Verfahrens eine Alkoxygruppe bevorzugt im Hinblick auf das Halogenatom ersetzt
wird.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist daher ein grosstechnisch
brauchbares Verfahren zur Herstellung von Silanen, die je Molekül
ein Wasserstoffatom und ein oder zwei Chloratome enthalten.
In der gleichzeitig eingereichten Anmeldung unter dem Titel "Verfahren zur Herstellung von Organo-H-chlorsilanen" (interne
Bezeichnung DC 1607/957; U.S. Ser. No. 800.715) wird ein Verfahren
zur Herstellung von Organo-H-chlorsilanen durch Umsetzung von Organoa]koxychlorsilanen mit Dialkylaluminlumhydriden be-
009~βΙΤ/2218
ansprucht, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die Umsetzung
und die anschiiessende Destillation des Reaktionsproduktes bei
Temperaturen von 25° C oder darunter durchgeführt wird.
Das erfindu'ngsgemässe Verfahren zur Herstellung von Organo-H-Chlorsilanen
der allgemeinen Formel
worin R gegebenenfalls halogenierte Kohlenwasserstoffreste
bedeutet, wobei die Reste R insgesamt nicht mehr als 13 C-Atome
enthalten und χ 1 oder 2 ist, 1st dadurch gekennzeichnet,
dass entweder .
(A.) Organoalkoxychlorsilane (l). der allgemeinen Formel
RxSl(OR')C13.X>
worin R und χ die angegebene Bedeutung haben und R1 Methyloder
Äthylreste bedeutet, mit Pialkylaluminiumhydriden (2) der
allgemeinen Formel
R"2A1H,
worin R" Alkylreste mit nicht mehr als 18 C-Atomen bedeutet, in
Gegenwart eines aliphatischen oder cycloaliphatischen Äthers (3), dessen Siedepunkt höher als der der erhältlichen Silanreaktionsprodukte
ist, worin keine C = C-Mehrfachbindungen zwischen C-Atomen
vorhanden sind, die in Ct-,^-. oder/'-Stellung zum 0-Atom
stehen, nicht mehr als 1 C-Atom inc<-Stellung zum O-Atom mit
2 oder mehr C-Atomen verknüpft ist und nicht mehr als 1 O-Atom an jeweils 1 C-Atom gebunden ist, umgesetzt oder die
(B) Organoalkoxysilane (l) der angegebenen Formel mit den Dialkylaluminiumhydriden (2) der angegebenen Formel beieiner
Temperatur von nicht höher als 25°C umgesetzt, anschliessend der Ä'ther (3) zugegeben
und die gebildeten Silanreaktionsprodukte aus dem Reaktionsgemisch abdestilliert werden, wobei die Reaktionsteilnehmer
jeweils in Mengen von 1 Mol (2) oder weniger, je Mol der R'O-Reste in (l) und der Ä'ther (3) in einer Menge von mindestens
5 MoI^, bezogen auf die Anzahl der Mole (2) eingesetzt
werden.
Durch das erfindungsgemässe Verfahren wird die Möglichkeit
gegeben, entweder die Umsetzung selbst oder die Destillation der Reaktionsprodukte oder beide bei Temperaturen unterhalb"
von 25 C durchzuführen, was dadurch erreicht wird, dass die
definierten Äther (3) entweder bereits während der Umsetzung der Organoalkoxychlorsilane mit den Dialkylaluminiumhydriden
(Variante A) zugefügt werden oder dass die Umsetzung der Organoalkoxychlorsilane
mit den Dialkylaluminiumhydriden bei Tempera- , türen unterhalb von 250C durchgeführt und dann die Äther (3)
zugefügt werden, so dass die Destillation der Reaktionsprodukte bei Temperaturen unterhalb von 25°C durchgeführt werden kann
(Variante B). Der Vorteil, der durch die Mitverwendung der Äther
009_8?7../2218
(?) gegeben ist, besteht also darin, dass das Verfahren nicht auf die niedrigen Temperaturbedingühgen beschränkt
ist, so dass der zusätzliche Arbeitsaufwand für die erforderliche Kühlung oder für die Destillation unter vermindertem Druck vermiede, ι wird.
Bei Durchführung der Variante A des erfindungsgemässen
Verfahrens werden die Alkoxychlorsilane (1) mit den Dialkyläluminiumhydriden
(2) in Gegenwart des Äthers (?) umgesetzt. Hierbei kann der Äther entweder mit dem Alkoxychlorsiian
oder dem Dialky!aluminiumhydrid vermischt oder
die 3 Komponenten können gemeinsam vermischt werden. In
allen Fällen werden die besten Ausbeuten erzielt, wenn die Reaktion unter kräftiger Bewegung oder unter Rühren
durchgeführt wird. Diese Massnahme ist insbesondere dann
von Vorteil, wenn weniger als 0,5 Mol Äther je Mol AlH-eingesetzt,werden.
Die Reaktion kann von -4o°C bis zu einer Temperatur unterhalb der Zersetzungsneigung der
Reaktionsprodukte (vorzugsweise von 10° bis 7O°C) durchgeführt v/erden. Nach beendeter Umsetzung werden die erhaltenen
Organo-H-chlorsilane durch übliche Massnahmen, wie
durch Destillation, aus dem Reaktionsgemisch abgetrennt. Solange der Äther während der Abtrennung vorhanden ist,
.ist die Temperatur bei dieser Verfahrensstufe nicht entscheidend.
0 09837/2218 - .-*
Der Vorteil, den das Vorhandensein des Äthers bringt, besteht darin, dass die Destillation ohne Anwendung von extrem
niedrigem Druck und niedriger Temperatur durchgeführt werden kann. Das ist insbesondere bei Durchführung des Verfahrens
in grosstechnischem Maßstab von entscheidender Bedeutung.
Die bei den beiden Varianten A und B des erfindungsgemässen
Verfahrens verwendbaren Äther (3) sind definitionsgemäss
aliphatische oder cycloaliphatische Äther, ausschliesslich der Acetale, deren Siedepunkte über denjenigen der Organo-H-chlorsilan-Reaktionsprodukte
liegen. Die gegebene Definition, dass diese keine C=C-Mehrfachbindungen zwischen den
zum O-A torn, oC-, L ~ oder/"- ständigen C-Atomen enthalten,
besagt, dass die Äther keine Konfigurationen der Formeln OC=C, OC=C, OCC=C, OC=CC.und OC=C=C enthalten. Mehrfachbindungen,
die vom O-Atom noch weiter entfernt sind, zum Beispiel in Konfigurationen der Formeln
OCCC=C und OCCCC
können jedoch vorhanden sein. Ausserdem kann nur jeweils eines der C-Atome inÄ-Stellung zum O-Atom verzweigt sein;
Konfigurationen der Art _ _
-CCOCC-
sind daher ausgeschlossen; die Konfiguration der Formel -CCOCC
ist hingegen möglich. Der .Ausdruck "aliphatische Äther" 1st
so zu verstehen, dass hiervon alle Äther umfasst werden, deren
009837/2218
-9 -■ . ;■■'■.
0-Atorn an ein aliphatisches C-At'öm gebunden ist, Aralkyläther
zum Beispiel der Formel OCCCgH werden daher mltümfasst.
Wie aus diesen Darlegungen ersichtlich., können die erfiiidungsgemäss
verwendbaren Äther linear oder zyklisch sein. Spezifische
Beispiele hierfür sind Isobutyl-methyläther,: Isopropyläthyläther,
Propyläthyläther, Ä'thyloctadecyläther, Dipropyläther,
Dibutyläther, Dihexyläther, Äthylhexyläther, Cyclohexylmethyiäther,
Dipentyläther,V3 -Phenyläthylmethyläther; aliphätische
Äther mit mehr als einem O-Atom, wie Dimethyläther von Äthyleng-lykolji
Diäthyläther von Diäthylenglykol und Dimethyläther von
Propylenglykol; und öycloaliphatische Äther wie 1,4-Dioxan,
Tetrahydrofuran, Tetrahydropyran und Dihydroisobenzofurän.
Die als Ausgangsverbindungen verwendeten Organoalkoxychlorsilaiie
enthalten Si-gebundene Äthoxy- oder Methoxyreste und
1 oder 2 Si-gebundene Chloratome. Die restlichen Valenzen des Si-Atoms· sind durch 1 oder 2 Reste R abgesättigt. Die Anzahl
der C-Atome in den Resten R beträgt definitionsgemäss insgesamt
nicht mehr als 1-3
> 'das bedeutet, dass Xenylmethylchlöräthoxysilan
mitumfasst wird, Dixenylchloräthoxysilan hingegen Hicht. Beispiele für Reste R mit weniger als 14-C-Atomen sind
Alkylreste, wie Methyl-, Äthyl->. Propyl- und Tridecylreste; Alkenylreste, wie Vinyl->
Allyl- und Hexenylreste;
0098^3^2218
cycloaliphatische Kohlenwasserstoffreste, wie Cyclopentyl-, Cyclohexyl- und Cyclohexenylreste; aromatische Kohlenwasser-Stoffreste,
wie Phenyl-, Xenyl-, Tolyl-, fl>
-Phenyläthyl- und /3-Phenylpropylreste oder halogeniert^ Kohlenwasserstoffreste,
wie 5,5,3-Trifluorpropyl-·, Chlormethyl-, Chlorphenyl-, Chlorcyclohexyl
- und Chlortolylreste.
Gegebenenfalls können diese Ausgangssilane auch Silane ohne Si-gebundene Alkoxyreste enthalten, wie RpSlCIp und R-JSiCl.
Bei Einhaltung der unter (A) und (B) genannten Bedingungen reagieren diese Chlorsilane nicht merklich mit der Aluminiumhydridverbindung
solange die Menge der letztgenannten die Konzentration der Alkoxychlorsilane nicht beträchtlich übersteigt.
Die Dialkylaluminiumhydride sind handelsübliche Produkte.
Die Alkylreste R" können definitionsgemäss nicht mehr als
l8 C-Atome enthalten; Beispiele hierfür sind Methyl-, Äthyl-, Propyl-, Isobutyl-, Hexyl-. Isohexyl- und Octadecylreste; die
Reste R" an dem Aluminiumatom können ausserdem gleich oder verschieden
sein.
Bei Durchführung der Variante B des erfindungsgemässen Verfahrens'
werden die Alkoxychlorsilane (l) und das Dialkylaluminiumhydrid (2) bei einer Temperatur· von 250C oder darunter umgesetzt. Nach
beendeter Umsetzung wird der Äther (3) zugefügt, und das Reaktionsprodukt kann bei Temperaturen destilliert werden, die gegebenen-
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- 11 -
falls oberhalb von 25°C liegen. Hierbei ist es zweckmässig, den Äther so rasch wie möglich bei Beendigung der Reaktion
zu zufügen, insbesondere dann, wenn das Silan eine Aryl-Si-Bindung
enthält. Auf jeden Fall ist es zweckmässig, die Temperatur so lange auf 25°C oder darunter zu halten, bis
der Äther zugefügt worden ist. Die Destillatianstemperatur
ist nicht entscheidend, sie muss nur unterhalb der Zersetzungstemperatur der Reaktionsprodukte"liegen.
Bei Durchführung des erfindungsgemässen Verfahrens können ausser dem Äther (3) noch' andere Lösungsmittel mitverwendet werden.
So kann das afkluminiumhydrid (2) beispielsweise in Kohlenwasserstoff
lösungsmitteln,, wie Toluol oder Kexan gelöst werden
und anschliessend der Äther (?) zugefügt werden. In gleicher Weise können auch die Alkoxychlorsilane (1) in derartigen
Lösungsmitteln gelöst werden.
Die nach dem erfindungsgemässen Verfahren hergestellten Organo-H-chlorsilane
sind wertvolle wasserabweisende Mittel, sowie Zwischenprodukte zur Herstellung von verschiedenen polymeren
Organosiliciumverbindungen.
Die folgenden Beispiele 1-7 illustrieren die Variante A des
erfindungsgemässen Verfahrens.
0 0 90.3^2218
0,2 Mol Diisobutylaluminiumhydrid in IJjJ ml Toluol wurden
aufgrund der Schwerkraft innerhalb von 5 Minuten in eine
Lösung aus 25 g (0,2 Mol) Dimethylmethoxychlorsilan, gelöst
in 25 ml 1,4-Dioxan bei einer Temperatur von 70° - 1000C
eingetragen. Durch kontinuierliche Destillation der tiberfliessenden
Flüssigkeit wurden 15,2 g (Ausbeute JQfi der
Theorie) Dimethyl-H-chlorsilan erhalten und nur 1,84 g
Dimethylsilan.
0,2 Mol Diisobutylaluminiumhydrid, gelöst in 133 ml Toluol,
wurden aufgrund der Schwerkraft innerhalb von einer Stunde in eine Lösung aus 25 g Dimethylmethoxychlorsilan, gelöst
in 25 ml 1,4-Dioxan bei einer Temperatur von 70° - 100 C
eingetragen. Nach diesem Verfahren wurdm Dimethyl-H-chlorsilan in einer Ausbeute von 75$ und Dimethylsilan in einer Ausbeute
von 25# erhalten.
Das Verfahren gemäss Beispiel 2 wurde wiederholt mit der
Ausnahme, dass ein kräftiges Vermischen der Reaktionsteilnehmer durchgeführt wurde. Die Ausbeute an Dimethyl-H-chlorsilan
betrug 95^ der Theorie.
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- 13 -
20Ö6965
0,0015 MoT 1,4-Dioxan würden mit 0,0015 Mol Diisöbütylaluminiuffihydrickvermischt,
und diese Lösung wurde in ein Gemisch aus 0,0015 Mol 3,3,3^Trifiuorprbpylmethyimethoxychlorsilan
und 0,0015 Mol ^iJ^-Trilluorpropylmethylaichlorsilan eingebt
rage η. Während der Zugafce wurde das Reaktiönsgemisch kräftig
vermischt. Die Ausbeute an 3,3,3-wifluorpropylmethylchlorsilan
betrug 96% der Theoriej das ^iJj^-Trifluorpropylmethyldichlorsilan
reagierte nicht. Die Abtrennung wurde mittels eines
Gasphasenchromatographen vorgenommen.
Dieses Beispiel sowie das vorhergehende illustrieren die
Tatsache, dass Gemische aus Äikoxychlorsilanen und Dichlorsilanen bei dieser Reaktion eingesetzt werden können, und dass
die Alkoxychlorsilane bevorzugt vor den Dichlorsilanen reagieren. Bei' derif erfindungsgemässen Verfahreil können daher Rohgemische aus
Alkoxychlorsilarien und Chlorsllanen eingesetzt werden.
Ein äquimolares Gemisch aus 1,4-Dioxan und Diisobutylaluminium»
hydrid wurde in ein Gemisch aus 21$ Methylmethoxydichlorsilan ■■
- und 79^ Methyltrichlorsilan bei ^250C-©Ingeträg-en| iiach beendeter
Reaktion wurden die■flüchten Bestandteile im Vakuum entfernt;
Es wurde Methyl-H-dichlorsilan in einer Ausbeute vb 11*80^ der s
^Theorie, bezogen auf das eingesetzte. Methylmethoxydichlorsilan,
erhalten.
O,Ol8 Mol Dlisobutylalumlniumhydrid, gelöst in 12 ml Benzol/
wurden mit 0,024 Difiexyläther vereinigt. Die Lösung wurde
zu 0,0l8 Mol Phenylmethylmetfaoxychlorsilan zugegeben. Das Gemisch wurde bei einem Dimck von 50 mm Hg öestilliert.
Es wurde Phenvlrnethyl-H-rchlorsilan mit einem Siedepunkt von
95° - 100°C bei 50 mm Hg in einer Ausbeute von 95# der
Theorie erhalten.
Eine Lösung aus 0,015 Mol Diisobutylaluminiumhydrid in 10 ml Toluol wurde mit 0,015 Mol Tetrahydrofuran vermischt, und die
Lösung wurde mit 0,015 Mol Dimethylmethoxychlorsilan bei 500C
unter gleichzeitigem Einspritzen der Flüssigkeiten in eine Mischkammer mit ausreichendem Druck, um ein unmittelbares Vermischen
zu erzielen, vermischt. Gleichzeitig wurde das Reaktionsgemisch bei Atmosphärendruck destilliert, wobei Dimethyl-H-chlorsilan
in einer Ausbeute von 9l£ der Theorie erhalten wurden.
Die folgenden Beispiele illustrieren die zweite Variante (B) des erfindungsgemässen Verfahrens:
In diesem Beispiel wird die Wirkung der Abwesenheit des Äthers während der Destillation des Reaktionsproduktes gezeigt:
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- 15 -
Eine 1,5 molare Lösung von Diisobutylaluminiumhydrid in Toluol
wurde tropfenweise unter mechanischem Rühren bei 25° C in eine äquimolare Menge von Dirnethylmethoxychlorsilan 'eingetragen.
Die Ausbeute an Dimethyl-H-chlorsilan zu diesem Zeitpunkt betrug
5256 wie durch Gasphasenchromatographie festgestellt wurde.
Die Destillation des Produktes bei AtjzfaiosphSren-Druck ergab
eine 5#-iee Ausbeute an Methyl-H-chlorsilan.
Beispiel 9 . .
Das Verfahren gemäss Beispiel 8 wurde mit folgender Abänderung wiederholt: Diisobutylaluminiumhydrid wurde zu Dirnethylmethoxychlorsilan
bei 25°C zugegeben. Dann wurde Tetrahydrofuran in die Mischung eingetragen in einer Menge von 50 Mol#, bezogen auf die
Menge des Dilsobutylaluminiumhydrids. Ansehliessend wurde das
Gemisch bei Atmosphärendruck destilliert, und die Ausbeute an
Dimethyl-H-chlorsilan betrug 8956 der Theorie.
Eine 1,5 molare Toluollösung von Diisobutylaluminiumhydrid wurde
einer äquimolaren Menge Dimethylmethoxychlorsilan bei 25 C zugegeben
durch gleichzeitiges Einspritzen der beiden Flüssigkeiten in eine Kammer mit ausreichendem Druck, um ein sofortiges Vermischen
zu garantieren. Ansehliessend wurde dem Reaktionsgemisch Tetra-
- 16 009837/2218
- ιό -
hydrofuran in. einer Menge von 10 Mol#, bezogen auf das Gewicht
des Isobutylaluminiumhydrids, zugefügt. Dann wurde das Gemisch bei Atmosphärendruck destilliert, und die Ausbeute
an dem gewünschten Dimethyl-H-chlorsilan betrug 96# der Theorie.
Nach dem wie in Beispiel 10 beschriebenen Mischverfahren wurden
0,015 Mol Diisobutylalumlumhydrid in 10 ml Toluol bei 25°C mit einem Gemisch aus 0,015 Mol Dimethylmethoxychlorsilan und 0,015
Mol Dirnethyldichlorsilan vermischt. Dann wurde dem Reaktionsgemisch
Tetrahydrofuran in einer Menge von 10 Mol#, bezogen auf die Menge des Diisobutylaluminiumhydrids,zugefügt. Das Gemisch
wurde bei Atmosphärendruck destilliert, und die Menge an Dimethyl -H-chlorsilan betrug 94# der Theorie, bezogen auf die
eingesetzte Menge des Dimethylmethoxychlorsilans.
Dieses Beispiel illustriert, dass die Variante (B) auch mit Gemischen aus Methoxychlorsilanen und Dichlorsilanen durchgeführt
werden kann.
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Claims (2)
1./ Verfahren zur Herstellung von Organo-H-chlorsilanen
der allgemeinen Formel
R SiHCl, χ ■
X JJ-Λ ,
worin R gegebenenfalls halogenierte Kohlenwasserstoffreste
bedeutet, wobei die Reste R insgesamt nicht mehr als 1J5 C-Atome enthalten und χ 1 oder 2. ist, dadurch
g e k e η xi-ζ e i c h η e t , dass entweder
(A). Organoalkoxychlorsilane (l) der allgemeinen Formel
• RxSi(OR1)C1, .
worin R und χ die angegebene Bedeutung haben und R1 Methyl-
oder Kthylreste bedeutet, mit
Dialkylaluminiumhydriden (2) der allgemeinen Formel
Dialkylaluminiumhydriden (2) der allgemeinen Formel
R"2A1H,
worin R" Alkylreste mit nicht mehr als l8 C-Atomen bedeutet, in Gegenwart
eines aliphatischen oder cycloaliphatischen Äthers (3),
eines aliphatischen oder cycloaliphatischen Äthers (3),
X2
dessen Siedepunkt höher als der der erhältlichen Silanreaktionsprodukte
ist, worin keine C=C-Mehrfachbindungen zwischen C-Atomen vorhanden sind, die in«6-i 0- oder J* Stellung
zum O-Atom stehen, nicht mehr als 1 C-Atom in ^Stellung zum O-Atom mit 2 oder mehr C-Atomen verknüpft
ist und nicht mehr als 1 OrAtom an jeweils 1 C-Atom gebunden ist,
umgesetzt oder die
umgesetzt oder die
(B) Qrganoalkoxychlorsilane (1) der angegebenen Formel mit den
Dialkylaluminiumhydriden (2) der angegebenen Formel bei
einer Temperatur von nicht höher als 25°C umgesetzt, anschliessend der Äther (3) zugegeben
und die gebildeten Silanreaktionsprodukte aus dem Reaktionsgemisch abdestilliert werden, wobei die Reaktionsteilnehmer
jeweils in Mengen von 1 Mol (2) oder weniger, je Mol der R'0-Reste in (l) und der Äther (3) in einer Menge von
mindestens 5 Mol#, bezogen auf die Anzahl der Mole (2)
eingesetzt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet
, dass als Organoalkoxychlorsilane (1)
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pimethylmethoxychlorsilan, als Dialkylaluminiumhydride
(2) piisobutylaluminiumhydrid und als Äther (J), 1,4-Dioxan
verwendet weruen.
J>, Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass als Organoalkoxychlorsilane (l)
3i 3,3-Trifluorpropylmethylmethpxychlorsilan oder Phenyl-,methylmethoxychlorsilan,
als Dialkylaluminiumhydride (2) Diisobutylaluminiumhydrid und als Äther (3) Dihexyläther
verwendet werden.
009837/2218
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US80073169A | 1969-02-19 | 1969-02-19 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2006965A1 true DE2006965A1 (de) | 1970-09-10 |
Family
ID=25179212
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19702006965 Withdrawn DE2006965A1 (de) | 1969-02-19 | 1970-02-16 | Verfahren zur Herstellung von Organo-H-chlorsilanen |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3607896A (de) |
AT (1) | AT299251B (de) |
BE (1) | BE746142A (de) |
DE (1) | DE2006965A1 (de) |
FR (1) | FR2035540A5 (de) |
GB (1) | GB1245384A (de) |
NL (1) | NL146829B (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4374111A (en) * | 1980-11-21 | 1983-02-15 | Allied Corporation | Production of silane |
-
1969
- 1969-02-19 US US800731A patent/US3607896A/en not_active Expired - Lifetime
-
1970
- 1970-01-21 GB GB2856/70A patent/GB1245384A/en not_active Expired
- 1970-02-16 DE DE19702006965 patent/DE2006965A1/de not_active Withdrawn
- 1970-02-17 FR FR7005626A patent/FR2035540A5/fr not_active Expired
- 1970-02-18 BE BE746142D patent/BE746142A/xx unknown
- 1970-02-18 NL NL707002243A patent/NL146829B/xx unknown
- 1970-02-18 AT AT144570A patent/AT299251B/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3607896A (en) | 1971-09-21 |
BE746142A (fr) | 1970-08-18 |
NL7002243A (de) | 1970-08-21 |
AT299251B (de) | 1972-06-12 |
GB1245384A (en) | 1971-09-08 |
FR2035540A5 (de) | 1970-12-18 |
NL146829B (nl) | 1975-08-15 |
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