DE19930043A1 - Beleuchtungsvorrichtung für die elektronische Bildverarbeitung - Google Patents
Beleuchtungsvorrichtung für die elektronische BildverarbeitungInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Beleuchtungsvorrichtung für die elektronische
Bildverarbeitung zur Kontrolle, Fehlererkennung und Vermessung von auf mono- und
multikristallinen Siliziumwafern aufgedruckte Leiterbahnen, wie sie insbesondere in der
Solarzellenfertigung zum Einsatz kommen.
Bei der Herstellung von Solarzellen werden auf EFG, mono- und multikristallinen Siliziumwafern
ein Netz von Leiterbahnen für die Stromführung aufgedruckt, die bei der Produktion einer
sorgfältigen Sicht- und Vermessungskontrolle unterzogen werden müssen, um eine
gleichmäßige Qualität und Stromleistung der Solarzellen sicher zu stellen. So können z. B.
unterbrochene Leiterbahnen aufgrund von Fehldrucken, erfolgte Verunreinigungen beim Druck
oder von den vorgeschriebenen Dimensionierungen abweichende Drucke zu erheblichen
Qualitätseinbußen in den Leistungen der Solarzellen führen.
Die Kontrollen und Prüfungen in der Massenfertigung sind nicht nur sehr zeitaufwendig und
ermüdend sondern erfordern auch einen sehr umfangreichen Personaleinsatzes, der mit hohen
Kosten verbunden ist.
Um die Kontrolleistungen in der Solarzellenfertigung zu verbessern, hat man inzwischen die
elektronische Bildverarbeitung eingesetzt, mittels welcher in wesentlich kürzeren Zeiten und
sicherer als das menschliche Auge, Kontrollen durchgeführt und Fehlerquellen im Leiterdruckbild
aufgespürt werden können. Dieser Vorgang wird relativ gut beherrscht bei monokristallinen
Oberflächen oder Siliziumwafer aus monokristallinen Substraten. Man kann durch eine direkte
Beleuchtung der monokristallinen Oberfläche ein kontrastreiches Bild erzeugen, bei welchem
sich die aufgedruckten Leiterbahnen deutlich von der übrigen Oberfläche unterscheiden und
somit sicher geprüft und vermessen werden können.
Bei der Solarzellenfertigung kommen jedoch nunmehr aufgrund neuer Fertigungsverfahren in der
Silizumwaferherstellung immer mehr Wafer aus multikristallinen Substraten zum Einsatz, deren
Oberflächen je nach Kristallage und Kristallschnitt partielle unterschiedliche Reflexionen des
auffallenden Lichts hervorrufen, die das Leiterbahnendruckbild partiell überstrahlen, so daß ein
vollständiges Druckbild der Leiterbahnen nicht mehr sichtbar wird oder zumindest in partiellen
Bereichen nicht mehr kontrastreich dargestellt wird. Dadurch ist eine elektronische
bildverarbeitende Überprüfung der Leiterbahnen nicht mehr möglich. Zusätzlich wird die
Bildverarbeitung noch erschwert, wenn Solarzellen zum Einsatz kommen, deren Oberflächen
ohne einer Antireflexschicht versehen sind. Außerdem ergibt jede Lageveränderung der
Siliziumwafer ein anderes Reflexionsbild der Kristalle, so daß bei deren Veränderung der Lage
immer wieder andere Leiterbahnenbereiche überstrahlt werden und es unmöglich ist ein
gleichgerichtetes Kontrollbild aufzubauen.
Der Erfindung liegt eine Beleuchtungsvorrichtung zugrunde, die es ermöglicht, auf mono- wie
auch multikristallinen Substraten und Oberflächen gedruckte Leiterbahnen so anzustrahlen, daß
unabhängig von der Lage des Siliziumwafer und unabhängig von dem Vorhandensein einer
Antireflexschicht auf dem Siliziumwafer, ein kontrastreiches Bild entsteht, auf welchem die
aufgedruckten Leiterbahnen zur Kontrolle und Vermessung vollständig und kontrastreich
gegenüber der Substratoberfläche für eine elektronische Bildverarbeitung erfaßbar dargestellt
sind.
Auf den Abbildungen sind folgende Darstellungen gezeigt:
Abb. 1 eine fotografische Darstellung einer Solarzelle aus EFG-Substrat in der
Draufsicht,
Abb. 2 eine fotografische Darstellung einer Solarzelle aus monokristallinen Substrat in
der Draufsicht,
Abb. 3 eine fotografische Darstellung einer Solarzelle aus multikristallinen Substrat mit
Antireflexschicht in der Draufsicht,
Abb. 4 eine fotografische Darstellung einer Solarzelle aus multikristallinen Substrat
ohne Antireflexschicht in der Draufsicht,
Abb. 5 eine fotografische Darstellung in Vergrößerung eines Teilbereiches einer
Solarzelle aus multikristallinen Substrat bei einer direkten Beleuchtung in der
Draufsicht,
Abb. 6 dieselbe Solarzelle wie Abb. 5 unter Verwendung der
erfindungsgemäßen Beleuchtungsvorrichtung,
Abb. 7 eine schematische Darstellung der erfindungsgemäßen
Beleuchtungsvorrichtung in perspektivischer Sicht,
Abb. 8 eine schematische Darstellung der erfindungsgemäßen
Beleuchtungsvorrichtung im Längsschnitt einer Draufsicht.
Die Beleuchtungsvorrichtung besteht aus einem von Außenlicht abgeschirmten Gehäuse 1,
dessen Wände 2 innenseitig eine rauhe lichtstreuende Oberfläche 3 aufweist. In dem Gehäuse 1
befinden sich im oberen Teil Lichtquellen 4 und darunter die bildverarbeitende Kamera 5.
Zwischen Lichtquelle 4 und Objektiv 6 befestigt, befindet sich eine lichtundurchlässige und mit
matter Oberfläche versehene Abschirmwand 8, die kleiner als der Querschnittsfläche des
Gehäuses 1 bemessen ist, wodurch in dem Bereich der Wände 2 des Gehäuses 1 Lichtspalte 9
gebildet werden.
Das Objektiv 6 der Kamera 5 ragt in ein undurchsichtiges mattschwarzes Rohr 10, dessen Länge
abhängig von der Brennweite des jeweiligen Objektivs 6 ist. Der Öffnungswinkel 11 des Rohres
10, ausgehend von Front des Objektives 6, ist hierbei größer bemessen als der Öffnungswinkel
12 des optischen Systems der Kamera 5. An dem vorderen Ende 13 des Rohres 10 befindet sich
ein matter lichtstreuender Filter 14, in der Form einer Kunststoff- oder Glaskuppel, der die zu
prüfende Solarzelle 15 umfänglich vollständig überdeckt. In dem Filter 14 ist ein Lochfenster 16
vorgesehen, das das vordere Ende 13 des Rohres 10 spaltfrei einfaßt. Der Filter 14 wird hierbei
von dem Boden 17 des Gehäuses 1 ebenfalls spaltfrei eingefaßt.
Unterhalb der Beleuchtungsvorrichtung läuft ein Förderband 18, auf welchem die Solarzellen 15
kontinuierlich oder in Taktzeiten unter den Filter 14 zur Bilderfassung geführt werden. Hierbei
wird der Abstand 19 zwischen Solarzelle 15 und Filter 14 so gering wie möglich gehalten, damit
keine äußeren Lichteinflüsse auf die Oberflächen der Solarzellen 15 während der Bilderfassung
treffen können.
Das von den Lichtquellen 4 ausgehende Licht wird hierbei zunächst von den rauhen Oberflächen
3 der Wände 2 des Gehäuses 1 als diffuses Licht gestreut, welches die Lichtspalte 9
zwischen Abschirmwand 8 und Wände 2 passieren kann. Der Filter 14 wird vor direkt
einfallendem Licht der Lichtquelle 4 durch die Abschirmwand 8 geschützt. Das so unterhalb der
Abschirmwand 8 diffus gestreute Licht trifft nunmehr auf den kuppelförmigen Filter 14, durch
welchen das Licht abermals gestreut auf die Solarzelle 15 trifft. Das somit absolut diffus
gestreute Licht wird nun an den aufgedruckten, erhabenen Leiterbahnen 20 so reflektiert, daß
es zu wesentlich größeren Lichtanteilen in das Objektiv 6 der Kamera 5 fällt, als das von der
unbedruckte kristallinen Substratoberfläche 21 reflektierte. Dadurch wird bei dieser ein
Dunkelfeldabbildung erzeugt, innerhalb welchem das gedruckte Leiterbahnenbild deutlich und
kontrastreich hervorgehoben wird. (Siehe Abb. 6) Dabei spielt es keine Rolle, in welcher
Aufnahmelage sich die Solarzelle 15 befindet. Auch wird die gleiche Verbesserung bei Wafern
mit oder ohne Antireflexbeschichtung erzielt.
Auch ist es ohne weiteres möglich die Lichtquellen 4 selbst zusätzlich mit einem das Licht
streuenden Filter zu versehen, so daß sichergestellt ist, daß ausschließlich diffuses Licht auf den
zweiten Filter 14 trifft. Um den Streueffekt des Lichtes der Lichtquellen (4) in Einzelfällen zu
variieren und den Substratoberflächen anzupassen, können auch bekannte, die Lichtwellenlänge
reduzierende Vorrichtungen, vorgesehen werden.
Eine weiter Optimierung wäre durch die Verringerung des Abstandes 19 gegen Null. Diese wäre
durch eine Zufuhr des Wafer in einer vertikalen Hubbewegung an die entsprechende Stelle unter
dem Filter 14 möglich.
Damit wurde mit dieser Beleuchtungseinrichtung die Möglichkeit geschaffen, alle verwendeten
Siliziumware die in der Solarzellenfertigung verwendeten EFG-, mono- und multikristalline
Substrate mit aufgedruckten Leiterbahnenbilder mit einer Kamera so zu erfassen, daß
Fehlerquellen und Abweichungen an den Leiterbahnenbildern sicher erkannt und an das
nachgeschalteten Bildverarbeitungssystem weiter geleitet werden können.
Claims (6)
1. Beleuchtungsvorrichtung für die elektronische Bildverarbeitung zur kontrastreichen
Darstellung für die Kontrolle und Vermessung von gedruckten Leiterbahnen auf EFG-, mono-
und multikristallinen Siliziumwafer insbesondere Solarzellen, bestehend aus einem vom
Außenlicht abgeschirmten Gehäuse, in welchem eine Kamera für die Bilderfassung sowie
eine oder mehrere Beleuchtungsquellen vorgesehen sind, dadurch gekennzeichnet, daß das
Licht der Lichtquellen (4) durch Reflektoren oder Filter in ein diffuses Licht gestreut auf einen
zweiten Filter (14) gelenkt wird, der die zu erfassende Solarzelle (15) vollständig überdeckt
und mit einem Lochfenster (16) ausgestattet ist, das ein Rohr (10) einfaßt, in welches das
Objektiv (6) einer bildverarbeitenden Kamera (5) hineinragt.
2. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, daß die innenseitigen
Oberflächen (3) der Wände (2) des Gehäuses (1) eine lichtstreuende Struktur haben und
unterhalb der Leuchtquellen (4) eine lichtundurchlässige Abschirmwand (8) vorgesehen ist,
die kleiner als die Querschnittsfläche des Gehäuses (1) ist und hierbei Lichtspalte (9) zwischen
Abschirmwand (8) und der Wände (2) des Gehäuses (1) bildet und jede Vorzugsrichtung des
Lichtes der Lichtquellen (4) unterdrückt.
3. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtquellen (4)
selbst mit einem Lichtstreufilter versehen sind.
4. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 1 bis 3 dadurch gekennzeichnet, daß eine die
Wellenlänge des Lichts der Lichtquellen (4) variierende Vorrichtung vorgesehen ist.
5. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 1 bis 4 dadurch gekennzeichnet, daß der Filter (14)
aus einer matten, lichtstreuenden aus Kunststoff oder Glas bestehenden Kuppel besteht.
6. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 1 bis 5 dadurch gekennzeichnet, daß der Öffnungs
winkel (11) des Rohres (10) größer als der Öffnungswinkel (12) des optischen Systems des
Objektives (6) der Kamera (5) bemessen ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1999130043 DE19930043A1 (de) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | Beleuchtungsvorrichtung für die elektronische Bildverarbeitung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1999130043 DE19930043A1 (de) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | Beleuchtungsvorrichtung für die elektronische Bildverarbeitung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19930043A1 true DE19930043A1 (de) | 2001-01-04 |
Family
ID=7913104
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1999130043 Withdrawn DE19930043A1 (de) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | Beleuchtungsvorrichtung für die elektronische Bildverarbeitung |
Country Status (1)
Country | Link |
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DE (1) | DE19930043A1 (de) |
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- 1999-06-30 DE DE1999130043 patent/DE19930043A1/de not_active Withdrawn
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