DE19928349C2 - Vorrichtung zur Herstellung längsnahtgeschweißter Rohre - Google Patents
Vorrichtung zur Herstellung längsnahtgeschweißter RohreInfo
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Description
Die Erfindung betrifft Vorrichtungen zur Herstellung
längsnahtgeschweißter Rohre, bei denen Metallbänder zu
Schlitzrohren geformt und längs der durch die Schlitze
gebildeten Nahtfugen mittels Elektronenstrahls verschweißt
werden.
Es ist ein Verfahren mit zugehöriger Vorrichtung zur
Herstellung von längsnahtgeschweißten Kleinstrohren
endloser Länge für Injektionsnadeln bekannt (DE 30 44 004 A1),
bei dem ein Metallband kontinuierlich zu einem
Schlitzrohr geformt, an seinem eine Nahtfuge bildenden
Schlitz kontinuierlich elektronenstrahlverschweißt und
anschließend in Einzelrohre getrennt wird. Diese Lösung ist
von relativ geringer Produktivität und mit
Dichtungsproblemen behaftet, die insbesondere bei größeren
Rohrabmessungen zutage treten.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, Vorrichtungen,
mit denen Metallbänder zu Schlitzrohren geformt und längs
der durch die Schlitze gebildeten Nahtfugen
elektronenstrahlverschweißt werden, zu schaffen, die hohe
Produktivität mit hoher Zuverlässigkeit verbinden.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch die Merkmale der
Ansprüche 1 und 8 gelöst. Vorteilhafte Ausbildungen ergeben
sich aus den Unteransprüchen.
Zur Herstellung längsnahtgeschweißter Rohre werden
Metallbänder zu Schlitzrohren geformt und längs der durch
die Schlitze gebildeten Nahtfugen mittels Elektronenstrahls
verschweißt.
Eine erste erfindungsgemäße Vorrichtung weist eine
Elektronenstrahlquelle, wenigstens einen wechselbaren
Spannrahmen zum lagegenauen Spannen mehrerer Schlitzrohre
und wenigstens eine Vakuumkammer auf, in der die
Elektronenstrahlquelle, die auf einem über der oder den
Vakuumkammern druckdicht geführten Kreuzschlittensystem
angeordnet ist, und der Spannrahmen relativ zueinander
bewegbar sind. Der Elektronenstrahl ist zwischen den durch
die Schlitze gebildeten Nahtfugen wenigstens zweier
Schlitzrohre mit einer vorbestimmten Umschaltfrequenz
umschaltbar.
Zwei unabhängig voneinander evakuierbare Vakuumkammern,
denen die Elektronenstrahlquelle wechselweise zuordenbar
ist, lasten diese effektiv aus. Sind sie parallel
zueinander angeordnet, ergeben sich kompakte Lösungen.
Für eine schnelle Positionierung ist neben einem
Spannrahmen, der die Schlitzrohre lagegenau aufnimmt, ein
Führungssystem vorgesehen, auf dem der Spannrahmen in bezug
auf die Elektronenstrahlquelle bewegt und fixiert werden
kann. Der Spannrahmen umfaßt ein Rahmenunterteil, durch das
hindurch Positionierschwerter zur Positionierung der
Schlitzrohre hindurchschiebbar sind, und ein gegen das
Rahmenunterteil und die positionierten Schlitzrohre
spannbares Rahmenoberteil.
Die Positionierschwerter sind in einem den Spannrahmen
aufnehmenden Spannplatz vertikal bewegbar angeordnet.
Eine zweite erfindungsgemäße Vorrichtung umfaßt eine
Vakuumkammer mit Dichtsystemen, die je Durchtrittsstelle
des Schlitzrohres durch die Wandung der Vakuumkammer eine
im Inneren des Schlitzrohres angeordnete Innendichtung und
eine außerhalb des Schlitzrohres angeordnete Außendichtung
aufweisen. Dabei sind die Innendichtungen
gegenüberliegender Durchtrittsstellen auf einem raumfesten
Dichtungsträger angeordnet. Durch die Dichtsysteme hindurch
sind blechgeformte endlose Schlitzrohre parallel zueinander
in die Vakuumkammer hinein- und auf der gegenüberliegenden
Seite aus der Vakuumkammer herausführbar. Außerdem besitzt
diese Vorrichtung eine Elektronenstrahlquelle, deren
Elektronenstrahl zwischen den durch die Schlitze gebildeten
Nahtfugen der Schlitzrohre mit einer vorbestimmten
Umschaltfrequenz umschaltbar ist.
Die Innen- und Außendichtungen besitzen schlitzrohrseitig
evakuierbare Ringnuten. Der Dichtungsträger ist als
evakuierbarer Hohlkörper ausgebildet, der Kanäle zu den
Ringnuten der Innendichtungen aufweist und an einer der
Vakuumkammer zugeordneten Einrichtung zum Formen des
Schlitzrohres aus diesem heraustritt und dort befestigt
ist.
Der Dichtungsträger ist zwischen den gegenüberliegenden
Innendichtungen von einer Panzerung umgeben, die bei
Durchschlagen des Elektronenstrahls dessen Energie
zumindest kurzzeitig aufnimmt.
Mit den erfindungsgemäßen Vorrichtungen können die
Nahtfugen wenigstens zweier Schlitzrohre quasigleichzeitg
verschweißt werden, indem der Elektronenstrahl mit einer
vorbestimmten Umschaltfrequenz, die vorzugsweise im Bereich
zwischen 100 KHz und 3,2 MHz liegt, zwischen den Nahtfugen
umgeschaltet wird. Dabei werden mehrere Schlitzrohre von
einem blechgeformten Endlosrohr abgetrennt und gemeinsam
dem Einfluß des Elektronenstrahls unterworfen. Schaltet der
Elektronenstrahl quer zu den Nahtfugen um, lassen sich
aufgrund des geringen Abstandes der Schweißnähte
Sprungfunktionen mit steilem Anstieg realisieren. Es ist
auch möglich, daß der Elektronenstrahl zwischen
wenigstens zwei durchlaufenden endlosen Schlitzrohren
umgeschaltet wird.
Am Schlitz erzeugt der Elektronenstrahl ein
Energieeintragsmuster, das vorteilhafterweise Randbereiche
hoher Energie und Innenbereiche niedrigerer Energie
aufweist. Bereiche hoher Energie sind durch viele
Strahlauftreffpunkte, Bereiche niedriger Energie durch
entsprechend weniger Strahlauftreffpunkte gekennzeichnet.
Die Ablenkfrequenz zur Erzeugung des Energieeintragsmusters
beträgt ca. 3,5 MHz.
Die Erfindung wird nachstehend anhand eines
Ausführungsbeispieles näher erläutert. In den zugehörigen
schematischen Zeichnungen zeigen
Fig. 1 eine erste Ausbildung einer
Elektronenstrahlschweißanlage zur Herstellung
längsnahtgeschweißter Rohre in Draufsicht,
Fig. 2 eine der Vakuumkammern gemäß Fig. 1 in
Vorderansicht,
Fig. 3 einen der Spannrahmen gemäß Fig. 1 in
Vorderansicht,
Fig. 4 eine zweite Ausbildung einer
Elektronenschweißanlage im Schnitt, und
Fig. 5 eine Seitenansicht von Fig. 4.
Den Kern der ersten Ausbildung der
Elektronenstrahlschweißanlage 2 bilden gemäß Fig. 1 zwei
kubische Kammern 4 und 6, die mittels stirnseitiger Platten
8 und 10 druckdicht verschließbar und mittels
nichtdargestellter Pumpensysteme aus Vor- und
Hochvakuumpumpen evakuierbar sind. Vor den Kammern 4 und 6
sind Spannplätze 12 und 14 angeordnet, deren Oberseiten
versenkbare Positionierschwerter 16 und horizontale
Führungen 18 tragen, die bis an die Kammern 4 und 6
heranreichen und mit deren inneren Führungen 20 fluchten.
Hinter den Kammern 4 und 6 können Entladeplätze 22 mit
fluchtenden Führungen 24 stehen. An ihren Oberseiten weisen
die Kammern 4 und 6 Durchbrüche 26 und 28 auf, die durch
ein durchbrochenes Kreuzschlittensystem, das eine
Elektronenstrahlquelle 30 trägt, druckdicht verschlossen
sind.
Das Kreuzschlittensystem besteht aus einer auf den
Vakuumkammern 4 und 6 in deren Achsrichtung verfahrbaren
Platte 32 und einer darauf quer zur Achsrichtung
verfahrbaren Platte 34. Die Platte 32 besitzt zwei
Längsabschnitte, deren Länge größer ist als die Länge der
Vakuumkammern 4 und 6, und einen die Längsabschnitte
verbindenden Querabschnitt. Über den Kammeröffnungen 26 und
28, die oben von umlaufenden Dichtungen 26' und 28' umgeben
sind, weist die Platte 32 Durchbrüche 32' auf, die oben von
umlaufenden Dichtungen 32" umgeben sind. Die Platte 34
trägt die Elektronenstrahlquelle 30. Sie ist länger als die
Querausdehnung beider Vakuumkammern 4 und 6. Ein Durchbruch
34' der Platte 34 gibt den Elektronenstrahl ES der
Elektronenstrahlquelle 30 über den Durchbrüchen 32' der
Platte 32 frei. Die Längs- und Öffnungsabmessungen der
Platten 32 und 34 sind derart abgestimmt, daß die Kammern 4
und 6 in jeder Verfahrposition der Elektronenstrahlquelle
30 druckdicht verschlossen bleiben.
Auf den Führungen 18 des Spannplatzes 12 ist ein mit
Schlitzrohren 36 bestückter Spannrahmen 38 aufgenommen. Der
Spannplatz 14, auf dem zuvor ein Spannrahmen 40 bestückt
worden war (Fig. 3), ist leer. Dieser befindet sich in der
Kammer 6 auf den Führungen 20 (Fig. 2). Die Spannrahmen 38
und 40 bestehen jeweils aus einer mit Durchbrüchen 42
versehenen Grundplatte 44 und einer dagegen spannbaren
Andruckplatte 46.
Der Elektronenschweißanlage 2 ist eine nichtdargestellte
Vorrichtung zum Formen und Trennen eines endlosen
Schlitzrohres zugeordnet. Den Hochvakuumkammern können
nichtdargestellte Vorvakuumkammern vor- und/oder
nachgeschaltet sein.
Die Wirkungsweise ist folgende:
Zum Bestücken des Spannrahmens 40 wird zunächst dessen Grundplatte 44 gemäß Fig. 3 auf die Führungen 18 des Spannplatzes 14 aufgesetzt. Dann fahren die Positionierschwerter 16 von unten her durch die Durchbrüche 42 der Grundplatte 44 hindurch. Anschließend werden aus der vorgelagerten Form- und Trennvorrichtung manuell oder robotergestützt Schlitzrohre 36 entnommen, mit ihren Schlitzen 48 auf die Positionierschwerter 16 aufgesteckt oder aufgeschoben und durch Aufsetzen der Andruckplatte 46 auf die Grundplatte 44 vorgespannt. Mit dem endgültigen Verspannen beider Platten 44 und 46 werden die Positionierschwerter 16 aus den Schlitzen 48 herausgezogen und in den Spannplatz 14 versenkt. Nach dem manuellen oder robotergestützten Wenden läßt sich der Spannrahmen 40 von den Führungen 18 des Spannplatzes 14 manuell oder automatisch auf die Führungen 20 der geöffneten Kammer 6 fahren (Fig. 1) und in vorbestimmter Längsposition arretieren. Ist die Kammer 6 mittels Platte 10 verschlossen und mittels nichtdargestellten Pumpensystems evakuiert, beginnt das Verschweißen der nun nach oben zeigenden, Nahtfugen bildenden Schlitze 48 der Schlitzrohre 36.
Zum Bestücken des Spannrahmens 40 wird zunächst dessen Grundplatte 44 gemäß Fig. 3 auf die Führungen 18 des Spannplatzes 14 aufgesetzt. Dann fahren die Positionierschwerter 16 von unten her durch die Durchbrüche 42 der Grundplatte 44 hindurch. Anschließend werden aus der vorgelagerten Form- und Trennvorrichtung manuell oder robotergestützt Schlitzrohre 36 entnommen, mit ihren Schlitzen 48 auf die Positionierschwerter 16 aufgesteckt oder aufgeschoben und durch Aufsetzen der Andruckplatte 46 auf die Grundplatte 44 vorgespannt. Mit dem endgültigen Verspannen beider Platten 44 und 46 werden die Positionierschwerter 16 aus den Schlitzen 48 herausgezogen und in den Spannplatz 14 versenkt. Nach dem manuellen oder robotergestützten Wenden läßt sich der Spannrahmen 40 von den Führungen 18 des Spannplatzes 14 manuell oder automatisch auf die Führungen 20 der geöffneten Kammer 6 fahren (Fig. 1) und in vorbestimmter Längsposition arretieren. Ist die Kammer 6 mittels Platte 10 verschlossen und mittels nichtdargestellten Pumpensystems evakuiert, beginnt das Verschweißen der nun nach oben zeigenden, Nahtfugen bildenden Schlitze 48 der Schlitzrohre 36.
Dabei erzeugt der Elektronenstrahl ES der in Querposition
A befindlichen Elektronenstrahlquelle 30 an der Nahtfuge 48
durch Ablenkung mit der Frequenz von ca. 3,5 MHz einen
Brennfleck, der an seinem Rand viele Strahlauftreffpunkte
aufweist und somit einen großen Energieeintrag bewirkt und
in seinem Inneren eine geringere Anzahl von
Strahlauftreffpunkten besitzt und somit einen niedrigeren
Energieeintrag erzielt. Die Zeit des Energieeintrags ist so
gewählt, daß sich im Inneren eine von einer Flüssigphase
umgebene Dampfkapillare bildet.
Gleichzeitig mit der brennfleckerzeugenden Ablenkung wird
der Elektronenstrahl ES zwischen den Nahtfugen 48
benachbarter Schlitzrohre 36 mit einer Umschaltfrequenz im
Bereich von 0,1 bis 3,2 MHz derart hin und her geschaltet,
daß die Dampfkapillaren beider Schweißnähte erhalten
bleiben.
Ist die Elektronenstrahlquelle 30 darüber hinaus einer
rohrparallelen Bewegung unterworfen, entsteht an beiden
Nahtfugen 48 eine schmale und tiefe Schweißnaht, die
aufgrund ihrer Feinkörnigkeit auch größeren
Umformbeanspruchungen ausgesetzt werden kann. Hat die
Elektronenstrahlquelle 30 das hintere Ende der Kammer 6
erreicht, fährt sie in die Querposition B, um die Nahtfugen
48 der beiden anderen Schlitzrohre 36 in entgegengesetzter
Richtung zu verschweißen. Nach Beendigung des
Schweißvorgangs und der Belüftung der Kammer 6 wird der
Spannrahmen 40 entweder auf den Spannplatz 12
zurückgebracht oder nach hinten auf den Entladeplatz 22
überführt, während die Elektronenstrahlquelle 30 über die
Kammer 4 fährt, die inzwischen mit dem Spannrahmen 38
bestückt und nach Schließen der Platte(n) 8 evakuiert
worden ist, so daß auch dort wieder Nahtfugen 48
verschweißt und am Spannplatz 14 neue Schlitzrohre 36
gespannt werden können.
Obwohl anhand einer Vorrichtung mit zwei Vakuumkammern
und einer in zwei Koordinaten verfahrbaren
Elektronenstrahlquelle dargestellt, umfaßt die Erfindung
selbstverständlich auch Lösungen mit einer oder mehreren
Vakuumkammern oder relativ zur Elektronenstrahlquelle
verfahrbarem Spannrahmen. Darüber hinaus kann der
Spannrahmen mit soviel Schlitzrohren bestückt sein, daß sie
entweder alle gleichzeitig verschweißbar sind oder ein
Vielfaches der gleichzeitig bearbeitbaren Schlitzrohre
ausmachen. Schließlich ist es möglich, den Elektronenstrahl
längs zu den Nahtfugen umzuschalten oder die Vakuumkammern
hintereinander anzuordnen.
In Fig. 4 und 5 ist eine im Durchlaufverfahren arbeitende
zweite Ausbildung einer Elektronenstrahlschweißanlage 50
angedeutet. Deren Vakuumkammer 52 ruht auf einem Fundament
54. An ihren gegenüberliegenden Seiten sind ringförmige
Außendichtungen 56, 58 eingelassen, deren Innenmäntel den
Außenmantel eines durch die Vakuumkammer 52 laufenden
Schlitzrohres 60 abdichten. In dessen Inneres ragt ein
Saugrohr 62 hinein, das außerhalb des nichtdargestellten
Rohrformbereiches am Fundament 54 befestigt ist. Auf dem
Saugrohr 62 sitzen eine kappenförmige Innendichtung 64,
deren Außenmantel an der Austrittsstelle des Schlitzrohres
60 dessen Innenmantel abdichtet, und eine ringförmige
Innendichtung 66, die die Abdichtung auf gleiche Weise an
der Eintrittstelle des Schlitzrohres 60 in die Vakuumkammer
52 bewirkt. Von den Innenmänteln der Außendichtungen 56, 58
gehen Ringnuten 68 und von den Außenmänteln der
Innendichtungen 64, 66 Ringnuten 70 aus. Die Ringnuten 68
der Außendichtungen 56, 58 sind über Kanäle und Leitungen
72 mit einer Vakuumpumpe P verbunden. Die Ringnuten 70 der
Innendichtungen 64, 66 sind gegenüber den Ringnuten 68 der
Außendichtungen in Achsrichtung des Schlitzrohres 60
versetzt angeordnet und haben über Kanäle 74 Verbindung zum
Inneren des Saugrohres 62, das durch dieselbe Vakuumpumpe P
evakuierbar ist.
Das dargestellte Dichtsystem ist auf gleicher Höhe der
Vakuumkammer 52 wenigstens noch ein zweites Mal vorgesehen,
um wenigstens zwei Rohre parallel zueinander durch die
Vakuumkammer 52 führen zu können.
Auf dieser ist eine Elektronenstrahlquelle 76
angeordnet, dessen Elektronenstrahl ES zwischen den durch
die Schlitze gebildeten Nahtfugen 78 beider Schlitzrohre 60
mit einer Umschaltfrequenz fu umschaltbar ist.
Zwischen den Innendichtungen 64, 66 ist das Saugrohr 62
von einer Panzerung 80 umgeben, die vorzugsweise aus Kupfer
besteht.
Die Wirkungsweise ist folgende:
Zwei nichtdargestellte Metallbänder werden vor der Vakuumkammer 52 kontinuierlich zu Schlitzrohren 60 geformt, die nachfolgend parallel zueinander und mit nach oben weisenden Schlitzen kontinuierlich durch die Vakuumkammer 52 hindurchlaufen. Währenddessen wird der Elektronenstrahl ES der Elektronenstrahlquelle 76 zwischen den Nahtfugen 78 benachbarter Schlitzrohre 60 mit einer Umschaltfrequenz fu im Bereich von 0,1 bis 3,2 MHz wiederum derart hin und her geschaltet, daß entstehende Dampfkapillaren erhalten bleiben und durch die Längsbewegung der Schlitzrohre 60 an beiden Nahtfugen schmale und tiefe Schweißnähte mit feinkörniger Struktur entstehen. Außerdem werden die Ringnuten 68 und 70 ständig evakuiert. Diese nach dem Durchlaufverfahren arbeitende Elektronenstrahlschweißanlage kann kompakter gehalten werden als die zuerst beschriebene. Gegenüber dem aufgeführten Stand der Technik weist sie neben einer höheren Produktivität auch ein für alle Schlitzrohrabmessungen geeignetes Dichtsystem auf.
Zwei nichtdargestellte Metallbänder werden vor der Vakuumkammer 52 kontinuierlich zu Schlitzrohren 60 geformt, die nachfolgend parallel zueinander und mit nach oben weisenden Schlitzen kontinuierlich durch die Vakuumkammer 52 hindurchlaufen. Währenddessen wird der Elektronenstrahl ES der Elektronenstrahlquelle 76 zwischen den Nahtfugen 78 benachbarter Schlitzrohre 60 mit einer Umschaltfrequenz fu im Bereich von 0,1 bis 3,2 MHz wiederum derart hin und her geschaltet, daß entstehende Dampfkapillaren erhalten bleiben und durch die Längsbewegung der Schlitzrohre 60 an beiden Nahtfugen schmale und tiefe Schweißnähte mit feinkörniger Struktur entstehen. Außerdem werden die Ringnuten 68 und 70 ständig evakuiert. Diese nach dem Durchlaufverfahren arbeitende Elektronenstrahlschweißanlage kann kompakter gehalten werden als die zuerst beschriebene. Gegenüber dem aufgeführten Stand der Technik weist sie neben einer höheren Produktivität auch ein für alle Schlitzrohrabmessungen geeignetes Dichtsystem auf.
Insgesamt lassen sich mit den erfindungsgemäßen
Vorrichtungen mit hoher Produktivität und Zuverlässigkeit
Metallrohre herstellen, die auch im Bereich der Schweißnaht
eine feinkörnige Struktur aufweisen und dadurch gut
umformbar sind. Bevorzugtes Anwendungsgebiet ist das
Herstellen von Chrom-Nickel-Stahlrohren.
Claims (12)
1. Vorrichtung zur Herstellung längsnahtgeschweißter Rohre,
bei dem Metallbänder zu Schlitzrohren (36, 60) geformt und
längs der durch die Schlitze gebildeten Nahtfugen (48, 78)
mittels Elektronenstrahls (ES) verschweißt werden,
gekennzeichnet durch eine Elektronenstrahlquelle (30),
wenigstens einen wechselbaren Spannrahmen (38, 40) zum
lagegenauen Spannen mehrerer Schlitzrohre (36) und
wenigstens eine Vakuumkammer (4, 6), in der die
Elektronenstrahlquelle (30), die auf einem über der oder
den Vakuumkammern (4, 6) druckdicht geführtem
Kreuzschlittensystem (32, 34) angeordnet ist, und der
Spannrahmen (38, 40) relativ zueinander bewegbar sind und der
Elektronenstrahl (ES) zwischen den durch die Schlitze
gebildeten Nahtfugen (48) wenigstens zweier Schlitzrohre
(36) mit einer vorbestimmten Umschaltfrequenz (fu)
umschaltbar ist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
zwei unabhängig voneinander evakuierbare Vakuumkammern (4,
6) vorgesehen sind, denen die Elektronenstrahlquelle (30)
wechselweise zuordenbar ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
die Vakummkammern (4, 6) parallel zueinander angeordnet
sind.
4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche von 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß der Spannrahmen (38, 40) ein
Rahmenunterteil (44), durch das hindurch
Positionierschwerter zur Positionierung der Schlitzrohre
(36) hindurchschiebbar sind, und ein gegen das
Rahmenunterteil (44) und die positionierten Schlitzrohre
(36) spannbares Rahmenoberteil (46) umfaßt.
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß
die Positionierschwerter (16) in einem den Spannrahmen (38,
40) aufnehmenden Spannplatz (12, 14) angeordnet sind.
6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,
daß die Positionierschwerter (16) im Spannplatz (12, 14)
vertikal bewegbar sind.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche von 1 bis 6,
dadurch gekennzeichnet, daß der Spannrahmen (38, 40) auf
einem durch die Vakuumkammer (4, 6) führenden
Führungssystem (18, 20) bewegbar und fixierbar ist.
8. Vorrichtung zur Herstellung längsnahtgeschweißter Rohre,
bei dem Metallbänder zu Schlitzrohren (36, 60) geformt und
längs der durch die Schlitze gebildeten Nahtfugen (48, 78)
mittels Elektronenstrahls (ES) verschweißt werden,
gekennzeichnet durch eine Vakuumkammer (52) mit
Dichtsystemen, die je Durchtrittsstelle des Schlitzrohres
(60) durch die Wandung der Vakuumkammer (52) eine im
Inneren des Schlitzrohres (60) angeordnete Innendichtung
(64, 66) und eine außerhalb des Schlitzrohres (60)
angeordnete Außendichtung (56, 58) aufweisen, wobei die
Innendichtungen (64, 66) gegenüberliegender
Durchtrittsstellen auf einem raumfesten Dichtungsträger
(62) angeordnet sind, und wobei durch die Dichtsysteme
hindurch blechgeformte endlose Schlitzrohre (60) parallel
zueinander in die Vakuumkammer (52) hineinführbar und auf
der gegenüberliegenden Seite aus der Vakuumkammer (52)
herausführbar sind, und eine Elektronenstrahlquelle (76),
deren Elektronenstrahl (ES) zwischen den durch die Schlitze
gebildeten Nahtfugen (78) der Schlitzrohre (60) mit einer
vorbestimmten Umschaltfrequenz (fu) umschaltbar ist.
9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet,
daß die Innen- und Außendichtungen (64, 66, 56, 58)
schlitzrohrseitig evakuierbare Ringnuten (68, 70)
aufweisen.
10. Vorrichtung nach Anspruch 8 oder 9, dadurch
gekennzeichnet, daß der Dichtungsträger (62) als
evakuierbarer Hohlkörper ausgebildet ist, der Kanäle (74)
zu den Ringnuten (70) der Innendichtungen (64, 66)
aufweist.
11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche von 8 bis 10,
dadurch gekennzeichnet, daß der Dichtungsträger (62) an
einer der Vakuumkammer (52) zugeordneten Einrichtung zum
Formen des Schlitzrohres (60) aus diesem heraustritt und
dort befestigt ist.
12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche von 8 bis 11,
dadurch gekennzeichnet, daß der Dichtungsträger (62)
zwischen den gegenüberliegenden Innendichtungen (64, 66)
von einer Panzerung (80) umgeben ist, die bei Durchschlagen
des Elektronenstrahls (ES) dessen Energie zumindest
kurzzeitig aufnimmt.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1999128349 DE19928349C2 (de) | 1999-06-21 | 1999-06-21 | Vorrichtung zur Herstellung längsnahtgeschweißter Rohre |
Applications Claiming Priority (1)
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DE1999128349 DE19928349C2 (de) | 1999-06-21 | 1999-06-21 | Vorrichtung zur Herstellung längsnahtgeschweißter Rohre |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19928349A1 DE19928349A1 (de) | 2001-01-04 |
DE19928349C2 true DE19928349C2 (de) | 2001-11-29 |
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ID=7912000
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE1999128349 Expired - Fee Related DE19928349C2 (de) | 1999-06-21 | 1999-06-21 | Vorrichtung zur Herstellung längsnahtgeschweißter Rohre |
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DE (1) | DE19928349C2 (de) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE3105831C2 (de) * | 1980-03-31 | 1984-07-12 | Sciaky Intertechnique S.A., Vitry sur Seine, Val-de-Marne | Vorrichtung zur Elektronenstrahl-Bearbeitung von Metallwerkstücken |
-
1999
- 1999-06-21 DE DE1999128349 patent/DE19928349C2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Non-Patent Citations (1)
Title |
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Pat. Abstr. of JP, M-747, 1988, Vol. 12, No. 364, JP 63-119 991 A * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19928349A1 (de) | 2001-01-04 |
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