DE19915000A1 - Vorrichtung und Verfahren zum Steuern der Intensitätsverteilung eines Laserstrahls - Google Patents
Vorrichtung und Verfahren zum Steuern der Intensitätsverteilung eines LaserstrahlsInfo
- Publication number
- DE19915000A1 DE19915000A1 DE19915000A DE19915000A DE19915000A1 DE 19915000 A1 DE19915000 A1 DE 19915000A1 DE 19915000 A DE19915000 A DE 19915000A DE 19915000 A DE19915000 A DE 19915000A DE 19915000 A1 DE19915000 A1 DE 19915000A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- laser beam
- radiation
- diaphragm
- laser
- partial beams
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/095—Refractive optical elements
- G02B27/0955—Lenses
- G02B27/0961—Lens arrays
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/0604—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0905—Dividing and/or superposing multiple light beams
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
Eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Steuern der Intensitätsverteilung eines Laserstrahls 12 zur Bearbeitung eines Substrates sehen vor, daß die Laserstrahlung eine Homogenisiereinrichtung (10) durchläuft, nach der sich Teilstrahlen (d) des Laserstrahls (12) so einander überlagern, daß eine Homogenisierung der Intensitätsverteilung des Laserstrahls erreicht wird. Durch Anordnung einer Blende an einer Stelle (III-IV) im Strahlengang des Laserstrahls wird Strahlung aus sich überlagernden Teilstrahlen derart ausgeblendet, daß von zumindest einigen der Teilstrahlen unterschiedliche Anteile ausgeblendet werden.
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum
Steuern der Intensitätsverteilung eines Laserstrahls mit ei
ner Homogenisiereinrichtung, die im Strahlengang des Laser
strahls angeordnet ist und Teilstrahlen des Laserstrahls so
einander überlagert, daß eine Homogenisierung der Intensi
tätsverteilung des Laserstrahls gefördert wird.
Eine solche Vorrichtung ist aus der DE 42 20 705 A1 bekannt.
Dort wird die Intensitätsverteilung eines Laserstrahls da
durch homogenisiert (räumlich angeglichen), daß eine Mehrzahl
von Linsen in einer Reihe senkrecht zur optischen Achse ange
ordnet wird. Diese Linsen sind jeweils so geformt, daß sie
einzelne Teilstrahlen des Laserstrahls so einander überla
gern, daß die abgebildete Laserstrahlung insgesamt weitgehend
homogenisiert ist.
Eine Weiterbildung dieses Standes der Technik findet sich in
der DE 196 32 460 C1. Dort werden mehrere Beleuchtungsfelder
mit jeweils homogener Intensitätsverteilung erzeugt, wobei
eine Linsenreihe mehrere unterschiedliche Gruppen von azen
trischen Linsensegmenten von Zylinderlinsen aufweist (vgl.
auch US-Patent 5 796 521).
Die vorliegende Erfindung setzt die Kenntnis dieses Standes
der Technik voraus und geht davon aus. Die oben genannten Pa
tentdokumente werden durch Bezugnahme in die Offenbarung der
vorliegenden Anmeldung aufgenommen.
Mittels der genannten Homogenisiereinrichtungen wird insbe
sondere die Strahlung eines Excimerlaserstrahls für eine
Vielzahl von Anwendungen homogenisiert, also die Verteilung
der Intensität des Laserstrahls über seinen Querschnitt ver
gleichmäßigt. Der von einem Excimerlaser emittierte (und noch
nicht optisch manipulierte) Laserstrahl hat in der Regel kei
ne gleichförmige Intensitätsverteilung über seinen Quer
schnitt. Der von einem Excimerlaser abgegebene Laserstrahl
hat etwa Rechteckform mit Abmessungen von etwa 10 × 30 mm.
Dabei spricht man in Bezug auf die Rechteckform von einer
kurzen Achse (also z. B. 10 mm lang) und einer langen Achse
(also z. B. 30 mm lang). Für eine Vielzahl von Anwendungen
muß dieser Strahl optisch stark verkleinernd abgebildet wer
den. Darüber hinaus wird bei einer Vielzahl von Anwendungen
auch eine Homogenisierung der Strahlintensität verlangt, d. h.
eine gleichmäßige Intensitätsverteilung des Strahls über sei
nem Querschnitt. Optische Einrichtungen zum Homogenisieren
von Laserstrahlen sind auch aus der DE-A-42 20 705 (entspre
chend US-Patent 5 414 559), der DE-38 29 728 A1, DE-38 41 045
A1, und DE 195 20 187 A1 bekannt.
Beim industriellen Einsatz von Laserstrahlung, insbesondere
Excimerlaserstrahlung, treten immer wieder Anwendungen auf,
die nicht nur eine Homogenisierung der auf ein zu bearbeiten
des Material auftreffenden Laserstrahlung erfordern, sondern
darüber hinaus auch eine gezielte Einstellung der Intensi
tätsverteilung nach der Homogenisierung wünschenswert machen.
Ein Beispiel hierfür ist die Verwendung von Laserstrahlung
bei der Erzeugung von z. B. Lochreihen in einer dünnen Folie
(z. B. Polyimid-Folie). Um mit Excimerlaserstrahlung Lochrei
hen in einer derartigen Folie (typischerweise 20 bis 100 µm
stark) zu erzeugen, wird die Laserstrahlung in an sich be
kannter Weise auf eine Maske gerichtet, in der Lochreihen
ausgebildet sind. Die durch die Maske durchtretende Laser
strahlung wird z. B. in 2,5- bis 5-facher Verkleinerung durch
ein Objektiv auf das Substrat (hier also die Folie) abgebil
det. Dabei erhöht sich die Intensität der Laserstrahlung im
Quadrat des Faktors der Verkleinerung, bei 5-facher Verklei
nerung wird also die Intensität um das 25-fache erhöht.
Um in einer Folie der genannten Art Lochreihen zu erzeugen,
werden dann typischerweise 100 bis 300 Pulse Excimerlaser
strahlung benötigt. Beim Stand der Technik wird die Excimer
laserstrahlung mit Mitteln homogenisiert, die im eingangs ge
nannten Stand der Technik beschrieben sind.
Trotzdem kommt es z. B. beim vorstehend erläuterten Bohren
von Lochreihen dazu, daß die Lochdurchmesser in der Reihe
nicht völlig gleich sind, insbesondere auf der Austrittssei
te. Es wird beobachtet, daß die in der Reihe außen angeordne
ten Löcher einen größeren Durchmesser aufweisen als in der
Reihe innen liegende Löcher. Die Erklärung hierfür liegt dar
in, daß durch während des Ablationsprozesses entstehende ab
getragene Teilchen Strahlung absorbiert wird. Die Konzentra
tion der absorbierenden Teilchen ist in der Mitte der
Lochreihe größer als außen. Dies führt dazu, daß die äußeren
Löcher der Lochreihe größer werden können als die inneren.
Derartige prozeßbedingte Einflüsse können auch bei anderen
Anwendungen von Laserstrahlen bewirken, daß die zunächst
durch die Homogenisiereinrichtung sehr homogen verteilte La
serenergie nicht genauso homogen verteilt zur Wirkung kommt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung
und ein Verfahren zu schaffen, mit dem in einfacher Weise die
Intensitätsverteilung von homogenisierter Laserstrahlung
steuer- und einstellbar ist.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Lösung dieser Aufgabe
ist gekennzeichnet durch eine Blende im Strahlengang des La
serstrahls hinter der Homogenisiereinrichtung zum Ausblenden
von Strahlung aus den überlagerten Teilstrahlen derart, daß
von zumindest einigen der Teilstrahlen unterschiedliche An
teile ausgeblendet werden.
Das erfindungsgemäß Verfahren zum Steuern und Einstellen der
Intensitätsverteilung von Laserstrahlung sieht vor, daß
mittels einer Blende Strahlung aus dem Laserstrahl derart
ausgeblendet wird, daß von zumindest einigen der Teilstrahlen
des Laserstrahls unterschiedliche Anteile ausgeblendet wer
den.
Weiterhin betrifft die Erfindung die Verwendung einer Vor
richtung und eines Verfahrens zum Erzeugen von Strukturen in
Substraten, insbesondere zum Erzeugen von Lochreihen mit
gleichmäßigem Durchmesser.
Gemäß einer bevorzugten Ausgestaltung der erfindungsgemäßen
Vorrichtung ist vorgesehen, daß die Blende konzentrisch mit
dem Laserstrahl angeordnet ist. Dies bedeutet, daß der Mit
telpunkt des wirksamen Bereiches der Blende mit der Achse des
Laserstrahls zumindest annähernd zusammenfällt.
Gemäß einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist
vorgesehen, daß die Blende einstellbar ist, d. h. der wirksa
me Bereich, in dem die Blende Strahlung aus dem Laserstrahl
ausblendet, ist manuell oder automatisch veränderbar.
Für die Erfindung eignen sich sowohl Lochblenden als auch
Blenden, die im mittleren Bereich des Laserstrahls Strahlung
ausblenden und Randstrahlen passieren lassen.
Insbesondere eignen sich runde, insbesondere kreisrunde oder
ovale Blenden. Ebenfalls geeignet sind eckige Blenden, insbe
sondere rechteckige, weiter insbesondere quadratische Blen
den.
Für die mit der Erfindung verwendete Homogenisiereinrichtung
kommen insbesondere Zylinderlinsenreihen in Betracht mit ei
ner Sammellinse, wie sie im eingangs genannten Stand der
Technik als solche beschrieben sind.
Besonders eignet sich die Erfindung zur Homogenisierung und
Steuerung der Intensitätsverteilung eines Excimerlaser
strahls.
Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand
der Zeichnung näher beschrieben. Es zeigt:
Fig. 1 schematisch eine Homogenisiereinrichtung, die
in einer erfindungsgemäßen Vorrichtung zum
Steuern der Intensitätsverteilung eines Laser
strahls bevorzugt verwendet wird
Fig. 2 schematisch eine Homogenisiereinrichtung und
weitere optische Elemente, einschließlich ei
ner Maske, die ebenfalls in einer erfindungs
gemäßen Vorrichtung zum Steuern der Intensi
tätsverteilung eines Laserstrahls eingesetzt
werden kann
Fig. 3 eine typische homogene Intensitätsverteilung
eines Excimerlaserstrahls, wie sie mit Ein
richtungen entsprechend den Fig. 1 und 2
erreichbar ist;
Fig. 4 eine zu erwartende Lochdurchmesserverteilung
beim Bohren einer Lochreihe mit Laserstrahlung
und homogener Intensitätsverteilung;
Fig. 5 eine tatsächlich auftretende Durchmesserver
teilung von Löchern, die mit Laserstrahlung
gebohrt werden;
Fig. 6 schematisch eine gewünschte Intensitätsvertei
lung eines Laserstrahls zur Erzeugung gleich
mäßiger Lochdurchmesser;
Fig. 7 schematisch eine Anordnung von Teilstrahlen
des Laserstrahls direkt hinter einer Sammel
linse der Homogenisiereinrichtung;
Fig. 8 einen einzelnen Teilstrahl der Laserstrahlung,
wie er in einer gewünschten Ebene, z. B. der
Ebene einer Maske, abgebildet wird;
Fig. 9 einen Schnitt senkrecht zur Achse der Laser
strahlung in im Vergleich mit Fig. 7 größerem
Abstand von der Sammellinse, wobei einzelne
Teilstrahlen bereits teilweise aufgeweitet
sind und deshalb einander überlappen;
Fig. 10 schematisch eine Blende im Laserstrahl an ei
ner Stelle, wo sich Teilstrahlen des Laser
strahls aufgrund der Wirkung der Homogeni
siereinrichtung noch nicht vollständig über
lappen;
Fig. 11 ein abgewandeltes Ausführungsbeispiel einer
Blende, und
Fig. 12 u. 13 ein weiteres Ausführungsbeispiel einer Blende,
die mittig im Laserstrahl Strahlung ausblendet
(Fig. 12) und die damit erzielte Intensitäts
verteilung im Laserstrahl (Fig. 13).
Fig. 1 zeigt eine Homogenisiereinrichtung 10, mit der ein
Laserstrahl 12, z. B. ein Excimerlaserstrahl, homogenisierbar
ist.
Die Homogenisiereinrichtung 10 besteht aus zwei parallel an
geordneten Zylinderlinsenreihen ("Arrays") LA1 und LA2. Die
Längsachsen der Zylinderlinsen stehen senkrecht zur Zeich
nungsebene. Dies ergibt sich auch aus der schematischen Dar
stellung der Zylinderlinsenformen in den Figuren. Bei Verwen
dung eines Excimerlaserstrahls stehen also die Zylinderlin
senachsen parallel zur oben genannten "langen Achse" des La
serstrahls. In den Figuren verläuft der Strahlengang des La
serstrahls 12 von links nach rechts. Im Strahlengang hinter
den Zylinderlinsenreihen LA1, LA2 ist eine Sammellinse CL
(Kondensorlinse) angeordnet. Insoweit ist der Homogenisierer
als solches aus dem eingangs genannten Stand der Technik be
kannt.
Durch die erste Reihe LA1 von Zylinderlinsen wird der einfal
lende Laserstrahl 12 in eine Vielzahl von Teilstrahlen aufge
teilt. In Fig. 1 sind nur drei Teilstrahlen schematisch dar
gestellt, deren Durchmesser in Fig. 1 mit "d" bezeichnet
ist. In der Regel wird eine Vielzahl von Teilstrahlen verwen
det, typisch sind 5 bis 20 Teilstrahlen.
Die optischen Elemente LA1, LA2 und CL bewirken, daß die in
Fig. 1 von links einfallende Laserstrahlung 12 auf eine Ebe
ne 14 abgebildet wird. Dort hat die abgebildete Strahlung den
Durchmesser "D" in der hier interessierenden Richtung, also
in der Zeichnungsebene. Die zentrale Achse der Laserstrahlung
ist mit "A" bezeichnet.
Die optischen Elemente und insbesondere die Sammellinse CL
bewirken, daß sich alle Teilstrahlen in der Ebene 14 voll
überlagern (überlappen). Dies bedeutet, daß im einfallenden
Laserstrahl 12 noch vorhandene Inhomogenitäten der Intensitä
ten voll ausgeglichen werden, d. h. der auf die Ebene 14 ab
gebildete Laserstrahl ist homogenisiert.
Ist die einfallende Laserstrahlung auch in Richtung senkrecht
zur Zeichnungsebene inhomogen, wird ein zweiter, gegenüber
der Darstellung gemäß Fig. 1 um 90° gedrehter Homogenisierer
benötigt (nicht dargestellt).
Die Zylinderlinsenreihe LA1 hat die Brennweite f1; die Zylin
derlinsenreihe LA2 hat die Brennweite f2 und die Sammellinse
CL hat die Brennweite f3. Größe und Form des Beleuchtungsfel
des auf der Abbildungsebene 14 (quadratisch, rechteckig oder
Line) wird durch die Breite und Brennweite f2 der Linsen so
wie die Brennweite f3 der Sammellinse bestimmt.
Nachfolgend bezieht sich die Betrachtung auf die sog. lange
Achse (siehe oben) eines langgestreckten Feldes (Linie) mit
z. B. Abmessungen von 80 × 3 mm. Für die Breite D dieses Fel
des (also die Linienstärke) gilt D = (f3/f2)d. Mit diesem
Feld, das auf die Ebene 14 abgebildet ist, wird z. B. eine
Maske ausgeleuchtet. Dies ist näher in Fig. 2 dargestellt.
Fig. 2 zeigt eine Homogenisiereinrichtung 10 entsprechend
Fig. 1, wobei weitere optische Elemente hinzugefügt sind,
nämlich zum einen ein Teleskop 16 im einfallenden Laserstrahl
12, und weiterhin eine Feldlinse 22 unmittelbar vor einer
Maske 26, und eine Abbildungsoptik 24 zum Abbilden der Strah
lung auf ein zu bearbeitendes Substrat.
Nachfolgend soll die Erfindung in Bezug auf einen typischen
Anwendungsfall näher erläutert werden, nämlich auf das Erzeu
gen von Löchern in einer Folie der eingangs genannten Art,
also z. B. einer Polyimid-Folie von typischerweise 20 bis 100
µm Stärke. Dabei gilt, daß der Durchmesser des mit Laser
strahlung gebohrten Loches in der Folie umso größer ist, je
größer die Intensität der Laserstrahlung ist.
Fig. 3 zeigt das homogene Feld der Laserstrahlung über den
Querschnitt des Strahles, wobei die Strahlung mit einer Homo
genisiereinrichtung gemäß Fig. 2 homogenisiert ist. In Fig.
3 ist auf der Abszisse der Ort im Querschnitt des Strahles
(also z. B. in den Fig. 1 und 2 der Abstand des Ortes vom
Rand des Strahles in der Papierebene) dargestellt und auf der
Ordinate die Strahlintensität in willkürlichen Einheiten. Ge
mäß Fig. 3 ist die erzielte Intensitätsverteilung weitestge
hend homogen, abgesehen von sehr schmalen Flanken, in denen
die Intensität von Null auf den Endwert ansteigt.
Wird mit derartig homogenisierter Strahlung und einer Maske
26, in der Löcher ausgebildet sind, sowie einer Abbildungsop
tik 24 eine in der Ebene 14 angeordnete Folie (Substrat)
durchbohrt, sollte man theoretisch eine Lochdurchmesserver
teilung gemäß Fig. 4 erwarten, d. h. völlig gleichmäßige
Lochdurchmesser von im Ausführungsbeispiel 45 µm.
Tatsächlich aber ergibt sich eine Lochdurchmesserverteilung
gemäß Fig. 5, d. h. die äußeren Löcher haben einen größeren
Durchmesser als die inneren Löcher. Dies resultiert daraus,
daß die äußeren Löcher mit einer größeren Laserstrahlintensi
tät gebohrt werden als die inneren Löcher. Als Ursache hier
für wird angenommen, daß während des Bohrens der Löcher die
Ablationsprodukte im Bereich der mittleren Löcher stärker
konzentriert sind und deshalb stärker Laserstrahlung absor
bieren als im Bereich der äußeren Löcher.
Es soll deshalb die Intensitätsverteilung der homogenisierten
Laserstrahlung so eingestellt werden, daß der Durchmesser al
ler Löcher gleich ist. Fig. 6 zeigt eine entsprechende In
tensitätsverteilung für eine Laserstrahlung, die geeignet
ist, statt der Lochdurchmesserverteilung gemäß Fig. 5 die
ideale Lochdurchmesserverteilung gemäß Fig. 4 zu erreichen.
Wie dies erreicht wird, ist schematisch in den nachfolgend
beschriebenen Figuren dargestellt. Fig. 7 zeigt eine Anord
nung einer Vielzahl von Teilstrahlen 28, wie sie sich z. B.
an der Schnittstelle I-II von Fig. 1 ergibt. An dieser Stel
le der Strahlung, d. h. kurz hinter der Sammellinse CL, sind
die einzelnen Teilstrahlen (Durchmesser d gemäß Fig. 1) noch
voneinander getrennt, d. h. sie überlagern (überlappen) ein
ander noch nicht. Bei der Darstellung gemäß Fig. 7 liegt ei
ne Anordnung von zwei Homogenisiereinrichtungen entsprechend
Fig. 1 zugrunde, wobei der Homogenisierer aus je zwei senk
recht zueinander stehenden Reihen Zylinderlinsen besteht und
jede Reihe fünf vertikale und vier horizontale Zylinderlinsen
aufweist. Es stehen also die Zylinderlinsen paarweise senk
recht zueinander, d. h. es wird eine Homogenisierung in bei
den Achsen des Laserstrahles erreicht, also sowohl in der
Zeichnungsebene gemäß den Fig. 1 und 2 als auch senkrecht
dazu.
Mit einer solchen Anordnung ergeben sich 20 quadratische Be
leuchtungsfelder, die 20 Teilstrahlen 30 entsprechen. In der
Abbildungsebene, die bei einer Anordnung gemäß Fig. 2 im we
sentlichen mit der Ebene der Maske 26 zusammenfällt, wird je
der einzelne Teilstrahl 30 aus der in Fig. 7 gezeigten qua
dratischen Form in eine langgestreckte Form 32 gemäß Fig. 8
transformiert, d. h. die Zylinderlinsen bewirken eine Strec
kung jedes einzelnen Teilstrahls 30 in die abgebildete Form
32 gemäß Fig. 8. Dies bedeutet, daß sich alle 20 Felder der
Teilstrahlen 30 gemäß Fig. 7 auf der Maske 26 vollständig
überlappen, und zwar entsprechend der Form 32 des in Fig. 8
abgebildeten Teilstrahls.
Die zunehmende Überlappung der einzelnen Teilstrahlen mit zu
nehmendem Abstand von der Sammellinse CL, die in Fig. 1 auf
grund der Schraffuren zu erkennen ist, ist in Fig. 9 schema
tisch gezeigt, wobei zwei Teilstrahlen 30a und 30b gemäß
Fig. 7 exemplarisch herausgegriffen sind. Die Zylinderlinsen
der beschriebenen Art wirken so, daß jeder Teilstrahl in Ho
rizontalrichtung (also in den Figuren die Richtung links
rechts) sehr stark aufgeweitet wird, während die Aufweitung
jedes einzelnen Teilstrahls in einer Richtung senkrecht dazu
(also in den Figuren oben-unten) sehr viel geringer ist.
Fig. 9 zeigt die Aufweitung der Teilstrahlen, wobei die Teil
strahlen 30a, 30b fett umrandet sind. Fig. 9 entspricht etwa
der Stelle III-IV von Fig. 2, also einem Schnitt senkrecht
zur Achse A des optischen Systems. Die beiden Teilstrahlen
30a, 30b haben sich also in Horizontalrichtung stark aufge
weitet und in Vertikalrichtung etwas. Der Überlapp ist also
in Horizontalrichtung größer als in Vertikalrichtung (die Be
griffe "horizontal" und "vertikal" beziehen sich hier nicht
etwa auf die Erdoberfläche, sondern setzen nur die unter
schiedlichen Richtungen des Systems in Beziehung, ansonsten
sind diese Richtungen weitestgehend willkürlich wählbar).
Wird nun gemäß Fig. 10 eine Blende 36 in die teilweise über
lappenden Teilstrahlen 34 eingesetzt, dann werden von den
verschiedenen Teilstrahlen, die teilweise aufgeweitet sind
und einander teilweise (noch nicht vollständig) überlappen,
unterschiedliche Anteile an Strahlung ausgeblendet. Beim Aus
führungsbeispiel gemäß Fig. 10 ist die Blende 36 eine Loch
blende, d. h. sie läßt alle Strahlung durch, die innerhalb
des dargestellten Kreises liegt. Für den beispielhaft darge
stellten Teilstrahl 30c (der ähnlich dem Teilstrahl 30a ist,
jedoch eine Reihe nach oben versetzt) ergibt sich z. B., daß
etwa die Hälfte der Strahlung ausgeblendet wird, während vom
Teilstrahl 30b nur ein sehr geringer Anteil ausgeblendet
wird. Bei diesem Ausführungsbeispiel der Erfindung wird
Strahlung im Außenbereich der Teilstrahlen abgeschnitten, und
zwar so, daß von zumindest einigen der Teilstrahlen jeweils
unterschiedliche Anteile ausgeblendet werden. Dies führt
nicht dazu, daß die Abmessungen des in der Arbeitsebene (z. B.
Ebene 14 in Fig. 1 oder Maskenebene 26 in Fig. 2) abge
bildeten Laserstrahls sich ändern, vielmehr ändert sich nur
die Intensitätsverteilung innerhalb des ansonsten in seinen
Abmessungen unveränderten Laserstrahls. Die Anordnung einer
Blende 36 gemäß Fig. 10 bewirkt, daß sich die Intensität des
Laserstrahls im mittleren Bereich vergrößert und am Rande ab
nimmt, also eine Intensitätsverteilung der Laserstrahlinten
sität etwa entsprechend Fig. 6 erreicht wird.
Ändert man die Größe der Öffnung der Blende 36, ändert sich
auch die Intensitätsverteilung des in der Substratebene abge
bildeten Laserstrahls. Ist die Blende 36 ganz geöffnet, d. h.
wird keine Strahlung ausgeblendet, so ergibt sich die voll
ständig homogene Intensitätsverteilung gemäß Fig. 3. Wird
dann die Blende langsam verkleinert, so daß sie mehr und mehr
Strahlungsanteile ausblendet, so sinkt die Intensität an den
Rändern langsam ab (Fig. 6). Bei weiterer Verkleinerung der
Blendenöffnung wird der Effekt immer stärker, bis auch die
Intensität der Laserstrahlung in der Mitte abnimmt. Verrin
gert man die Blendenöffnung noch weiter, so sinkt nur noch
die gesamte Intensität, ohne daß sich das Verhältnis der In
tensitäten von innen nach außen verändert. Somit liegt der
sinnvolle Einstellbereich der Blende also von ganz offen bis
zu der vorstehend genannten Position, in der die Intensität
der Strahlung auch im mittleren Bereich abnimmt.
Fig. 11 zeigt eine Abwandlung der Blende, die hier nicht
kreisrund ist, sondern eckig in Form zweier von links bzw.
rechts in den Strahlengang einschiebbarer Teilblenden 38a und
38b. Ansonsten entsprechen die Verhältnisse weitgehend derje
nigen der Fig. 10, d. h. die Änderung der Intensitätsvertei
lung ist analog dem oben Beschriebenen abhängig von der Stel
lung der beiden Teilblenden 38a, 38b.
Durch die in Fig. 6 schematisch dargestellte Intensitätsver
teilung der Laserstrahlung läßt sich die unerwünschte Varia
tion des Lochdurchmessers bei Erzeugung einer Lochreihe gemäß
Fig. 5 dahingehend korrigieren, daß eine ideale Lochdurch
messervariation gemäß Fig. 4 erreicht wird.
Mit Blenden gemäß den Fig. 10 und 11 läßt sich z. B. eine
Reduzierung der Laserstrahlungsintensität in Randbereichen
des Strahls um bis zu 80% erzielen, ohne daß die Strahlungs
intensität in der Mitte des Strahls beeinflußt wird.
Die Erfindung läßt sich nicht nur mit Lochblenden verwirkli
chen, sondern auch mit Blenden, die im mittleren Bereich der
Laserstrahlung Strahlungsanteile ausblenden. Dies ist in den
Fig. 12 und 13 dargestellt.
Gemäß Fig. 12 ist eine Blende 40 zentral im Feld 34 teilwei
se überlagerter Teilstrahlen angeordnet (die Darstellung ent
spricht analog den Fig. 7 und 9). Die Blende 40 ist also
keine Lochblende, sondern eine zentrisch angeordnete Blende,
die mittlere Strahlungsanteile ausblendet und danebenliegende
Randstrahlungsbereiche durchläßt. Die Wirkung einer solchen
Blende 40 auf die einzelnen Teilstrahlen ist in Fig. 12 an
hand der Teilstrahlen 30a, 30b schematisch dargestellt, d. h.
die Blende 40 blendet aus einem weiter außen liegenden Teil
strahl 30b weniger Strahlung aus als aus einem weiter innen
liegenden Teilstrahl 30a (auch hier sind beide Teilstrahlen
30a, 30b wieder durch fette Linien dargestellt und die Blende
40 ist analog Fig. 10 etwa an der Position III-IV von Fig.
2 angeordnet). Es ergibt sich so eine Intensitätsverteilung,
wie sie schematisch in Fig. 13 dargestellt ist. Die Intensi
tät der Strahlung im Randbereich ist größer als in der Mitte.
Dies kann für bestimmte Applikationen der Laserstrahlung ge
wünscht sein und wird mittels der Blende in einfacher Weise
erreicht.
Claims (12)
1. Vorrichtung zum Steuern der Intensitätsverteilung eines
Laserstrahls (12) mit einer Homogenisiereinrichtung (10), die
im Strahlengang des Laserstrahls angeordnet ist und Teil
strahlen (30) des Laserstrahls (12) so einander überlagert,
daß eine Homogenisierung der Intensitätsverteilung des Laser
strahls gefördert wird,
gekennzeichnet durch eine Blende (36, 38a, 38b, 40) im Strah
lengang des Laserstrahls zum Ausblenden von Strahlung aus den
überlagerten Teilstrahlen (34) derart, daß von zumindest ei
nigen der Teilstrahlen (30a, 30b) unterschiedliche Anteile
ausgeblendet werden.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Blende (36, 38a, 38b, 40) konzentrisch mit dem Laser
strahl angeordnet ist.
3. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Blende (36, 38a, 38b, 40) hinsichtlich ihrer Relativstel
lung zum Lasertrahl und/oder ihrer Größe einstellbar ist.
4. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Blende (36, 38a, 38b, 40) eine Lochblende ist.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Blende (40) so angeordnet ist, daß sie im mittleren Be
reich des Laserstrahls ausblendet und Randstrahlen passieren
läßt.
6. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Blende rund, insbesondere kreisrund oder oval, ist.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Blende eckig, insbesondere rechteckig, insbesondere qua
dratisch, ist.
8. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Homogenisiereinrichtung Zylinderlinsenreihen (LA1, LA2)
und eine Sammellinse (CL) aufweist.
9. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß
der Laserstrahl (12) ein Excimerlaserstrahl ist.
10. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Blende im Strahlengang des Laserstrahls hinter der Homo
genisiereinrichtung (10) angeordnet ist.
11. Verfahren zum Steuern der Intensitätsverteilung eines
Laserstrahls (12) mit einer Homogenisiereinrichtung (10), die
im Strahlengang des Laserstrahls so angeordnet wird, daß sie
Teilstrahlen (30, 30a, 30b, 40) des Laserstrahls (12) überla
gert und dadurch eine Homogenisierung der Intensitätsvertei
lung des Laserstrahls fördert,
dadurch gekennzeichnet, daß
mittels einer Blende (36, 38a, 38b, 40) Strahlung aus dem La
serstrahl derart ausgeblendet wird, daß von zumindest einigen
der Teilstrahlen (30, 30a, 30b, 40) unterschiedliche Anteile
ausgeblendet werden.
12. Verwendung einer Vorrichtung gemäß einem der Ansprüche 1
bis 9 zur Erzeugung von Abtragungen, insbesondere Vertiefun
gen oder Löchern, in einem Substrat.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19915000A DE19915000C2 (de) | 1999-04-01 | 1999-04-01 | Vorrichtung und Verfahren zum Steuern der Intensitätsverteilung eines Laserstrahls |
US09/539,418 US6548781B1 (en) | 1999-04-01 | 2000-03-30 | Means and method for controlling the intensity distribution of a laser beam |
JP2000096117A JP3738170B2 (ja) | 1999-04-01 | 2000-03-31 | レーザビームの強度分布をコントロールする手段と方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19915000A DE19915000C2 (de) | 1999-04-01 | 1999-04-01 | Vorrichtung und Verfahren zum Steuern der Intensitätsverteilung eines Laserstrahls |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19915000A1 true DE19915000A1 (de) | 2000-10-26 |
DE19915000C2 DE19915000C2 (de) | 2002-05-08 |
Family
ID=7903342
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19915000A Expired - Lifetime DE19915000C2 (de) | 1999-04-01 | 1999-04-01 | Vorrichtung und Verfahren zum Steuern der Intensitätsverteilung eines Laserstrahls |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6548781B1 (de) |
JP (1) | JP3738170B2 (de) |
DE (1) | DE19915000C2 (de) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003048839A1 (en) * | 2001-12-07 | 2003-06-12 | Micronic Laser Systems Ab | Homogenizer |
US6621639B2 (en) | 2000-10-06 | 2003-09-16 | Microlas Lasersystem Gmbh | Device for converting the intensity distribution of a laser beam and a device and method for generating a laser beam with an intensity which falls constantly along an axis from one side of the beam to the other |
DE102004020250A1 (de) * | 2004-04-26 | 2005-11-10 | Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung und Verfahren zur optischen Strahlhomogenisierung |
DE102004039936A1 (de) * | 2004-08-17 | 2006-02-23 | Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zur Homogenisierung von Licht sowie Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung |
WO2007122060A1 (de) * | 2006-04-21 | 2007-11-01 | Carl Zeiss Laser Optics Gmbh | Anordnung zum herstellen einer randscharfen beleuchtungslinie sowie anordnung zum erhöhen der asymmetrie des strahlparameterprodukts |
DE10225674B4 (de) * | 2002-06-10 | 2013-03-28 | Coherent Gmbh | Linsensystem zum Homogenisieren von Laserstrahlung |
CN103941406A (zh) * | 2014-05-09 | 2014-07-23 | 西安炬光科技有限公司 | 一种基于扩束的高功率半导体激光器光学整形方法及其装置 |
Families Citing this family (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19959921C1 (de) * | 1999-12-11 | 2001-10-18 | Schott Spezialglas Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Durchtrennen von flachen Werkstücken aus sprödbrüchigem Material |
US6909854B1 (en) * | 2000-08-29 | 2005-06-21 | Motorola, Inc. | Methods and apparatus for beam shaping in optical wireless communications system |
US6611387B1 (en) * | 2000-09-29 | 2003-08-26 | Intel Corporation | Adjustment of the partial coherence of the light energy in an imaging system |
KR20040063079A (ko) * | 2001-12-07 | 2004-07-12 | 소니 가부시끼 가이샤 | 광 조사 장치 및 레이저 어닐 장치 |
JP4361083B2 (ja) * | 2003-02-25 | 2009-11-11 | トリア ビューティ インコーポレイテッド | 目に安全な内蔵型毛再生抑制装置 |
US7452356B2 (en) * | 2003-02-25 | 2008-11-18 | Tria Beauty, Inc. | Eye-safe dermatologic treatment apparatus |
EP2604215B1 (de) * | 2003-02-25 | 2017-10-11 | Tria Beauty, Inc. | Vorrichtung und Verfahren für augensichere, dermatologische Behandlung |
US20100069898A1 (en) * | 2003-02-25 | 2010-03-18 | Tria Beauty, Inc. | Acne Treatment Method, System and Device |
US7413567B2 (en) * | 2003-02-25 | 2008-08-19 | Spectragenics, Inc. | Optical sensor and method for identifying the presence of skin |
JP2006518614A (ja) * | 2003-02-25 | 2006-08-17 | スペクトラジェニクス インコーポレイテッド | ニキビ処置装置および方法 |
US8709003B2 (en) * | 2003-02-25 | 2014-04-29 | Tria Beauty, Inc. | Capacitive sensing method and device for detecting skin |
JP4361082B2 (ja) * | 2003-02-25 | 2009-11-11 | トリア ビューティ インコーポレイテッド | 内蔵型ダイオードレーザ利用皮膚病学的処置装置 |
US7981111B2 (en) | 2003-02-25 | 2011-07-19 | Tria Beauty, Inc. | Method and apparatus for the treatment of benign pigmented lesions |
US20040176824A1 (en) * | 2003-03-04 | 2004-09-09 | Weckwerth Mark V. | Method and apparatus for the repigmentation of human skin |
WO2004080279A2 (en) * | 2003-03-06 | 2004-09-23 | Spectragenics, Inc. | In the patent cooperation treaty application for patent |
DE10327733C5 (de) * | 2003-06-18 | 2012-04-19 | Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zur Formung eines Lichtstrahls |
US7199330B2 (en) * | 2004-01-20 | 2007-04-03 | Coherent, Inc. | Systems and methods for forming a laser beam having a flat top |
US8777935B2 (en) | 2004-02-25 | 2014-07-15 | Tria Beauty, Inc. | Optical sensor and method for identifying the presence of skin |
DE102004034253A1 (de) * | 2004-07-14 | 2006-02-09 | Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung für die Beleuchtung einer Fläche |
GB2454860A (en) * | 2005-05-27 | 2009-05-27 | Zeiss Carl Laser Optics Gmbh | An optical system for creating a target intensity distribution |
US7545838B2 (en) * | 2006-06-12 | 2009-06-09 | Coherent, Inc. | Incoherent combination of laser beams |
JP5628792B2 (ja) * | 2008-04-25 | 2014-11-19 | トリア ビューティ インコーポレイテッド | 皮膚の存在および皮膚の色素沈着を識別するための光学センサおよびその方法 |
JP2011216863A (ja) * | 2010-03-17 | 2011-10-27 | Hitachi Via Mechanics Ltd | ビームサイズ可変照明光学装置及びビームサイズ変更方法 |
CN102628996B (zh) * | 2012-03-31 | 2014-03-26 | 北京国科世纪激光技术有限公司 | 一种基横模激光器光束整形装置和整形方法 |
US8937770B2 (en) * | 2012-07-24 | 2015-01-20 | Coherent Gmbh | Excimer laser apparatus projecting a beam with a selectively variable short-axis beam profile |
DE102013102553B4 (de) * | 2013-03-13 | 2020-12-03 | LIMO GmbH | Vorrichtung zur Homogenisierung von Laserstrahlung |
JP6285650B2 (ja) * | 2013-07-03 | 2018-02-28 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ装置 |
US9613815B2 (en) | 2014-11-24 | 2017-04-04 | Ultratech, Inc. | High-efficiency line-forming optical systems and methods for defect annealing and dopant activation |
CN106654814A (zh) * | 2017-03-09 | 2017-05-10 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 可用于晶化和剥离的两用准分子激光系统 |
US11318558B2 (en) | 2018-05-15 | 2022-05-03 | The Chancellor, Masters And Scholars Of The University Of Cambridge | Fabrication of components using shaped energy beam profiles |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19619481C1 (de) * | 1996-05-14 | 1997-11-27 | Aesculap Meditec Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Abtragen von Material mit einem Laserstrahl |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5465220A (en) * | 1992-06-02 | 1995-11-07 | Fujitsu Limited | Optical exposure method |
US3943324A (en) * | 1970-12-14 | 1976-03-09 | Arthur D. Little, Inc. | Apparatus for forming refractory tubing |
US5807379A (en) * | 1983-11-17 | 1998-09-15 | Visx, Incorporated | Ophthalmic method and apparatus for laser surgery of the cornea |
US4822975A (en) * | 1984-01-30 | 1989-04-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for scanning exposure |
DE3829728A1 (de) | 1987-09-02 | 1989-03-23 | Lambda Physik Forschung | Verfahren und vorrichtung zum homogenisieren der intensitaetsverteilung im querschnit eines laserstrahls |
DE3841045A1 (de) | 1988-12-06 | 1990-06-07 | Lambda Physik Forschung | Laser mit homogener intensitaetsverteilung im strahlquerschnitt |
JP2657957B2 (ja) * | 1990-04-27 | 1997-09-30 | キヤノン株式会社 | 投影装置及び光照射方法 |
US5719704A (en) * | 1991-09-11 | 1998-02-17 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
DE4220705C2 (de) | 1992-06-24 | 2003-03-13 | Lambda Physik Ag | Vorrichtung zum Aufteilen eines Lichtstrahles in homogene Teilstrahlen |
JP3211525B2 (ja) * | 1993-04-22 | 2001-09-25 | オムロン株式会社 | 薄材メッシュ、その製造方法及びその製造装置 |
DE19513354A1 (de) * | 1994-04-14 | 1995-12-14 | Zeiss Carl | Materialbearbeitungseinrichtung |
US5674414A (en) * | 1994-11-11 | 1997-10-07 | Carl-Zeiss Stiftung | Method and apparatus of irradiating a surface of a workpiece with a plurality of beams |
DE19520187C1 (de) | 1995-06-01 | 1996-09-12 | Microlas Lasersystem Gmbh | Optik zum Herstellen einer scharfen Beleuchtungslinie aus einem Laserstrahl |
DE19707834A1 (de) * | 1996-04-09 | 1997-10-16 | Zeiss Carl Fa | Materialbestrahlungsgerät und Verfahren zum Betrieb von Materialbestrahlungsgeräten |
JP3796294B2 (ja) * | 1996-07-09 | 2006-07-12 | キヤノン株式会社 | 照明光学系及び露光装置 |
DE19632460C1 (de) | 1996-08-12 | 1997-10-30 | Microlas Lasersystem Gmbh | Optische Vorrichtung zum Homogenisieren von Laserstrahlung und Erzeugen von mehreren Beleuchtungsfeldern |
US6172331B1 (en) * | 1997-09-17 | 2001-01-09 | General Electric Company | Method and apparatus for laser drilling |
US6229113B1 (en) * | 1999-07-19 | 2001-05-08 | United Technologies Corporation | Method and apparatus for producing a laser drilled hole in a structure |
-
1999
- 1999-04-01 DE DE19915000A patent/DE19915000C2/de not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-03-30 US US09/539,418 patent/US6548781B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-31 JP JP2000096117A patent/JP3738170B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19619481C1 (de) * | 1996-05-14 | 1997-11-27 | Aesculap Meditec Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Abtragen von Material mit einem Laserstrahl |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6621639B2 (en) | 2000-10-06 | 2003-09-16 | Microlas Lasersystem Gmbh | Device for converting the intensity distribution of a laser beam and a device and method for generating a laser beam with an intensity which falls constantly along an axis from one side of the beam to the other |
DE10049557B4 (de) * | 2000-10-06 | 2004-09-02 | Microlas Lasersystem Gmbh | Vorrichtung zum Umwandeln der Intensitätsverteilung eines Laserstrahls |
WO2003048839A1 (en) * | 2001-12-07 | 2003-06-12 | Micronic Laser Systems Ab | Homogenizer |
DE10225674B4 (de) * | 2002-06-10 | 2013-03-28 | Coherent Gmbh | Linsensystem zum Homogenisieren von Laserstrahlung |
DE102004020250A1 (de) * | 2004-04-26 | 2005-11-10 | Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung und Verfahren zur optischen Strahlhomogenisierung |
DE102004039936A1 (de) * | 2004-08-17 | 2006-02-23 | Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zur Homogenisierung von Licht sowie Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung |
US7414789B2 (en) | 2004-08-17 | 2008-08-19 | Limo-Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg | Apparatus for homogenizing light and method for producing the apparatus |
WO2007122060A1 (de) * | 2006-04-21 | 2007-11-01 | Carl Zeiss Laser Optics Gmbh | Anordnung zum herstellen einer randscharfen beleuchtungslinie sowie anordnung zum erhöhen der asymmetrie des strahlparameterprodukts |
CN103941406A (zh) * | 2014-05-09 | 2014-07-23 | 西安炬光科技有限公司 | 一种基于扩束的高功率半导体激光器光学整形方法及其装置 |
CN103941406B (zh) * | 2014-05-09 | 2017-01-25 | 西安炬光科技有限公司 | 一种基于扩束的高功率半导体激光器光学整形方法及其装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6548781B1 (en) | 2003-04-15 |
JP3738170B2 (ja) | 2006-01-25 |
JP2001066546A (ja) | 2001-03-16 |
DE19915000C2 (de) | 2002-05-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE19915000C2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Steuern der Intensitätsverteilung eines Laserstrahls | |
EP2430491B1 (de) | Vorrichtung zur formung von laserstrahlung sowie laservorrichtung mit einer derartigen vorrichtung | |
DE10049557B4 (de) | Vorrichtung zum Umwandeln der Intensitätsverteilung eines Laserstrahls | |
DE102011119764B4 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Interferenzstrukturierung von flächigen Proben und deren Verwendung | |
DE102008001553B4 (de) | Komponente zur Einstellung einer scanintegrierten Beleuchtungsenergie in einer Objektebene einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage | |
DE102018115126B4 (de) | Optische Anordnung zur Umwandlung eines Eingangslaserstahls in einen linienartigen Ausgangsstrahl sowie Lasersystem mit einer solchen optischen Anordnung | |
DE102015002537B4 (de) | Optisches System und optisches Verfahren zum Homogenisieren der Intensität von Laserstrahlung sowie Anlage zur Bearbeitung von Dünnfilmschichten | |
DE102016201418A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur thermischen Bearbeitung | |
DE102007002583A1 (de) | Optische Anordnung und Verfahren zum Steuern und Beeinflussen eines Lichtstrahls | |
DE102006013929A1 (de) | Perforationsvorrichtung der tabakverarbeitenden Industrie zum Perforieren einer Umhüllung eines stabförmigen Artikels | |
DE102006032053B4 (de) | Oberflächenmodifikationsverfahren und- vorrichtung | |
WO2011012503A1 (de) | Optisches system zum erzeugen eines lichtstrahls zur behandlung eines substrats | |
DE10225674B4 (de) | Linsensystem zum Homogenisieren von Laserstrahlung | |
EP2622400B1 (de) | Anordnung und verfahren zur erzeugung eines lichtstrahles für die materialbearbeitung | |
EP2976672A1 (de) | Vorrichtung zur homogenisierung eines laserstrahls | |
EP3599105B1 (de) | Verfahren zur herstellung eines sicherheitsmerkmals mittels laserstrahlung | |
WO2022074095A1 (de) | Vorrichtung zum erzeugen einer laserlinie auf einer arbeitsebene | |
DE102016104331B3 (de) | Beleuchtungsvorrichtung und Verfahren zur räumlich periodischen Musterung einer Oberfläche | |
DE102018103131B4 (de) | Vorrichtung zum Erzeugen einer Beleuchtungslinie, optisches System und Verfahren zum Verarbeiten mindestens eines eintreffenden Laserstrahls | |
WO2023194320A1 (de) | Vorrichtung zum erzeugen einer definierten laserlinie auf einer arbeitsebene | |
DE10345177B3 (de) | Linsensystem zum Homogenisieren von Laserpulsen | |
DE102015217903A1 (de) | Strahlerzeugungssystem für Lidarsensoren | |
DE19724060A1 (de) | Verfahren zur Erzeugung eines homogenen, über den gesamten Strahlquerschnitt im wesentlichen konstante Energiedichte aufweisenden Laserstrahles sowie Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens | |
WO2023242025A1 (de) | Bearbeitungssystem und verfahren zur laserbearbeitung eines werkstücks | |
DE19502258C2 (de) | Vorrichtung zum gleichmäßigen Abtragen einer Schicht von der Oberfläche eines Substrats |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8381 | Inventor (new situation) |
Free format text: BRUNWINKEL, KLAUS, 37083 GOETTINGEN, DE |
|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
R071 | Expiry of right |