DE19824308C1 - Gleitlagerschale und Verfahren zu ihrer Herstellung - Google Patents
Gleitlagerschale und Verfahren zu ihrer HerstellungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Gleitlagerschale mit einem Trägerkörper und mit
mindestens einer metallischen Gleitschicht, die mittels
Elektronenstrahlbedampfung aufgebracht ist und die in einem Matrixmaterial
mindestens eine fein dispergierte Komponente aufweist, deren Atomgewicht
größer ist als das des Matrixmaterials. Die Erfindung bezieht sich auch auf ein
Verfahren zur Herstellung einer Gleitlagerschale mit einer solchen Gleitschicht
gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 10.
Allgemein bestehen derart eingesetzte Gleitelemente aus
Mehrschichtverbundsystemen folgenden Aufbaues: Stahlstützkörper als
Trägerwerkstoff, Lagermetallschicht aus einer Cu-, Al- oder Weißmetall-
Legierung und einer sogenannten Lauf- oder Drittschicht oder Gleitschicht, die
entweder durch ein galvanisches Verfahren (E. Römer: Dreistofflager aus
GLYCO 40; GLYCO-Ingenieurbericht 8/67) oder durch einen
Kathodenzerstäubungsprozeß (Sputtern) aufgebracht werden kann, wie dies in
der EP 0 256 226 B1 beschrieben ist. Nachteilig bei den galvanisch
aufgebrachten Schichten, meist auf Pb- oder Sn-Basis, ist die oftmals nicht
ausreichende Korrosionsbeständigkeit bzw. ihre geringe
Verschleißbeständigkeit. Weiterhin ist der Galvanikprozeß an sich aus
Umweltgesichtspunkten als kritisch anzusehen.
Werden die Laufschichten mittels der Sputter-Technik aufgebracht, stellt dies
aufgrund der hierbei realisierbaren geringen Abscheidungsraten und des hohen
anlagentechnischen Aufwandes einen erheblichen Kostenfaktor für das
komplette Gleitelement dar.
Die GB 2270 927 beschreibt Aluminiumlegierungen, in denen der Sn-Gehalt in
der gesamten Schicht konstant und zwischen 10 und 80% liegen kann. Aus
Tabelle 1 Seite 10 und 11 dieser Anmeldung geht hervor, daß mit steigendem
Zinngehalt die mögliche Grenzlast, bis das Lager zum Fressen neigt, ansteigt,
demgegenüber aber die Belastbarkeit ab einem bestimmten Zinngehalt wieder
drastisch abfällt. Hinweise zur Verbesserung des Einlaufverhaltens sind in
dieser Schrift nicht vorhanden. Als Herstellungsverfahren zum Aufbringen der
Laufschicht wird in dieser Anmeldung das Sputtern erwähnt.
Die EP 0 376 368 B1 beschreibt ein sehr aufwendiges Verfahren zur
Herstellung eines Lagers, das sich hinsichtlich guter Notlauf und
Einlaufeigenschaften auszeichnet. Auch in dieser Anmeldung handelt es sich
um Aluminium-Zinn-Legierungen, die mittels eines Sputterprozesses appliziert
werden. Kernpunkt dieser Anmeldung ist, daß die in der metallischen
Grundmasse der Lagerlegierung eingelagerten Teilchen bezüglich ihres
Durchmessers einer statistischen Normalverteilung gehorchen, sowie bis zu 1,0
Masse-% Sauerstoff in der Laufschicht eingelagert ist und nach einer
Wärmebehandlung die Mikrohärte der Laufschicht abnimmt. Hierdurch werden
die Einbettfähigkeit, die Notlaufeigenschaften und die Freßunempfindlichkeit
verbessert.
Die WO 91/00375 beschreibt ein Lager, dessen Laufschicht aus einer
Grundmasse (z. B. Aluminium) mit einer darin fein dispergierten zweiten Phase
(z. B. Zinn) besteht. Auch hierbei findet das Sputterverfahren Anwendung. Ziel
dieser Erfindung ist es ein Lager herzustellen, dessen Aufbau der Laufschicht
so geartet ist, daß der Gehalt der zweiten Phase (z. B. Zinn) in der Laufschicht
sich als Funktion der Dicke der Laufschicht kontinuierlich von 0% in den
untersten Lagen bis hin zu 100% in den obersten Lagen erhöht. Dies wird
zum einen durch den Einsatz mehrerer Targets unterschiedlicher
Zusammensetzung bzw. sich ändernder Sputterparameter beim Beschichten
realisiert. Derart hergestellte Laufschichten zeigen sehr gute Eigenschaften
hinsichtlich ihres Verschleiß- und Ermüdungsverhaltens, was allerdings mit
einem sehr aufwendigen Verfahren erlangt wird.
Aus den DE 195 14 835 A1 und DE 195 14 836 A1 ist es bekannt, mittels
Elektronenstrahlbedampfung Gleitschichten auf konkav gekrümmten
Gleitelementen abzuscheiden, wobei in beiden Schriften die Ausprägung
bestimmter Schichtdickenprofile im Vordergrund steht. Um bei
Gleitlagerschalen eine gleichmäßige Schichtdicke zu erzielen, wird gemäß der
DE 195 14 835 A1 während des Aufdampfens der Gleitschicht der Verdampfer
und der Trägerkörper relativ zueinander geradlinig mit unterschiedlicher
Geschwindigkeit bewegt. Hierzu sind entsprechende Verstelleinrichtungen
innerhalb der Beschichtungskammer erforderlich. Bei der DE 195 14 836 A1
hingegen soll gezielt eine ungleichmäßige Schichtdicke eingestellt werden. Die
Schichtdicke des Gleitelementes ist im Scheitelbereich am größten und nimmt
zu den Teilflächen hin kontinuierlich ab. Um dies zu realisieren, sieht das
Verfahren vor, daß ein Abstand vom Verdampfer bis zum Scheitelbereich der
Gleitlagerschale von 150 bis 350 mm eingestellt wird, daß während des
Aufdampfens der Schicht der Verdampfer und der Trägerkörper fest
zueinander positioniert sind und daß die Kondensationsrate für die
Abscheidung im Scheitelbereich mit mindestens 80 nm/s eingestellt wird.
Aus der DE 36 06 529 A1 ist ein Verfahren zur Herstellung von
Schichtwerkstoffen oder Schichtwerkstücken durch Aufdampfen mindestens
eines metallischen Werkstoffs auf ein metallisches Substrat bekannt, bei dem
ebenfalls ein Elektronenstrahlbedampfungsverfahren für das Aufbringen der
Gleitschicht eingesetzt. Das Verfahren findet unter Restgasatmosphäre bei
Drücken im Bereich von 10-2-10-3 mbar statt, wobei der Werkstoff
gleichzeitig mit dem Aufdampfen dispersionsgehärtet bzw. dispersionsverfestigt
wird. Es werden Beschichtungsraten von etwa 0,3 µm/s eingestellt. Während
des Aufdampfens wird das Substrat auf eine Temperatur zwischen 200°C und
800°C gehalten. Beim Aufdampfen von Aluminiumlegierungen liegt die
Temperatur des Substrates bei 200°C bis 300°C und bei Kupfer-Blei-
Legierungen im Bereich von 500°C bis 700°C. Die Belastbarkeit der nach
diesem Verfahren hergestellten Schichten ist deutlich besser als die mit
pulvermetallurgischen Verfahren hergestellten Schichten. Bei dieser
Anmeldung steht im Vordergrund, durch eine Dispersionsverfestigung, z. B.
durch Erzeugen von Oxiden während des Bedampfens einen definierten
Hartphasenanteil in der Gleitschicht zu erzeugen.
Hinweise auf unterschiedliche Verteilungen der Legierungskomponenten gibt es
in diesen drei Schriften zur Elektronenstrahlbedampfung nicht. Für einige
Anwendungsfälle sind die Belastbarkeit bzw. das Einlaufverhalten nicht
ausreichend.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine Gleitlagerschale zu schaffen, die sich
vorzugsweise in den hochbeanspruchten Bereichen durch gutes Not- und
Einlaufverhalten in Kombination mit hohen Grenzlasten bis zum Eintritt eines
Lagerfressers auszeichnet. Es ist auch Aufgabe der Erfindung, ein
kostengünstiges Verfahren auf der Basis der Elektronenstrahlbedampfung zur
Herstellung solcher Gleitlagerschalen bereitzustellen, das außerdem auf
einfache Weise eine gleichmäßige Schichtdicke über den gesamten
Lagerschalenumfang gewährleistet.
Die Gleitlagerschale ist dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration der
fein dispergierten Komponente vom Scheitelbereich der Gleitlagerschale zum
Teilflächenbereich hin kontinuierlich abnimmt.
Eine derart aufgebaute Gleitschicht hat den Vorteil, daß im höchstbelasteten
Bereich, nämlich im Scheitelbereich, diejenige Legierungskomponente, die
maßgeblich das Not- und Einlaufverhalten positiv beeinflußt, in der höchsten
Konzentration vorliegt. Ein weiterer Vorteil besteht darin, daß die relativ
teure, fein dispergierte Komponente nur in den Bereichen in entsprechend
hoher Konzentration vorhanden ist, wo sie für das Not- und Einlaufverfahren
vorzugsweise benötigt wird.
Da die Gleiteigenschaften der höchstbelasteten Bereiche die Lebensdauer des
gesamten Gleitlagers beeinflussen, wird durch die Konzentrationserhöhung der
fein dispergierten Legierungskomponente im Scheitelbereich auch eine
Erhöhung der Lebensdauer sichergestellt.
Vorzugsweise ist die Konzentration der fein dispergierten Komponente im
Scheitelbereich um den Faktor 1,2 bis 1,8, vorteilhafterweise 1,3 bis 1,6,
höher als im Teilflächenbereich.
Die Konzentration der fein dispergierten Komponente ist gemäß einer ersten
Ausführungsform über die Dicke der Gleitschicht konstant.
Diese Konzentrationsverteilung in Umfangsrichtung kann auch mit einer
unterschiedlichen Konzentration gemäß einer zweiten Ausführungsform über
die Schichtdicke kombiniert werden, wobei vorzugsweise die Konzentration der
fein dispergierten Komponente von dem unteren, d. h. der trägerkörpernahen
Seite, zum oberen Bereich der Gleitschicht kontinuierlich zunimmt. Diese
Ausführungsform der Gleitschicht wird dann gewählt, wenn der Gegenläufer
der Gleitlagerschale hohe Oberflächenrauhigkeiten aufweist, wie das z. B. bei
Gußwellen der Fall ist.
Vorzugsweise ist die Konzentration der fein dispergierten Komponente im
oberen Bereich der Gleitschicht bis zum 2fachen größer als im unteren
Bereich.
Die Konzentration der fein dispergierten Komponente beträgt vorteilhafterweise
im Scheitelbereich zwischen 10 und 70 Masse-%.
Das Matrixmaterial besteht vorzugsweise aus Aluminium, wobei die fein
dispergierte Komponente aus Zinn, Blei, Wismut und/oder Antimon bestehen
kann. Als weitere Legierungskomponente kann die Gleitschicht Kupfer, Zink,
Silizium, Mangan und/oder Nickel einzeln oder in Kombination bis zu 5
Masse-% aufweisen.
Als Trägerkörper kommen Stahlstützschalen, aber auch Stahl/CuPbSn-
Verbundwerkstoffe, Stahl/Aluminium- oder Stahl/Weißmetall-
Verbundwerkstoffe in Frage. Bevorzugte Legierungssysteme, aus denen die
Gleitschicht besteht, sind AlSnCu, AlSnPb und AlSnSi. Bei einer Gleitschicht
aus einer Zinn-Legierung nimmt der Zinn Anteil in der Gleitschicht vom
Scheitelpunkt zu den Teilflächen des Gleitelements ab. D. h. die Gleitschicht
besitzt Bereiche mit hohen und niedrigen Zinn Anteilen. Dadurch ist es
erstmals möglich, die Vorteile eines hohen und eines niedrigen Zinn Anteils in
der Gleitschicht gleichzeitig zu nutzen. Während der Bereich mit hohem Zinn-
Anteil ein gutes Einlaufverhalten des Gleitelements gewährleistet, sichern die
Bereiche mit niedrigem Zinn-Anteil die große Tragfähigkeit des Gleitelements.
Die Dicke der Gleitschicht ist über den gesamten Umfang vorzugsweise
gleichmäßig.
Das Verfahren zur Herstellung solcher Gleitschichten von Gleitlagerschalen
sieht vor, daß während des Beschichtungsvorgangs im Scheitelbereich der
Lagerschale ein Gasdruck von 0,1 bis 5 Pa eingestellt wird.
Die Gasmoleküle zwischen dem Verdampfertiegel und der zu beschichtenden
Fläche bewirken eine unterschiedliche Streuung der Legierungskomponenten
während des Bedampfungsprozesses.
Der Streuwinkel bzw. der Grad der Streuung ist hierbei aus kinetischen
Gründen abhängig vom spezifischen Gewicht der einzelnen verdampften
Legierungselemente. Die Folge hiervon ist, daß schwere Elemente, wie z. B.
Zinn weniger stark gestreut werden als leichtere Elemente, wie z. B.
Aluminium. Das Resultat dieser Streuprozesse besteht darin, daß die schweren
Elemente im Scheitelbereich der Gleitlagerschale in höherer Konzentration
abgeschieden werden als im Teilflächenbereich. Mittels dieser Streuung an den
Gasmolekülen ist es möglich, je nachdem in welchem Druckbereich bei der
Elektronenstrahlbedampfung gearbeitet wird, die Zusammensetzung der
Laufschicht in weiten Grenzen zu variieren.
Überraschenderweise sind die mit der Gasstreuung hergestellten Schichten
entgegen der Meinung der Fachwelt kompakt und in ihren Eigenschaften
bezüglich Verschleißfestigkeit und Tragfähigkeit den konventionell oder ohne
zusätzliche Maßnahmen beim Elektronenstrahlbedampfen hergestellten
Gleitelementen überlegen.
Es hat sich darüber hinaus überraschend herausgestellt, daß sich außer einer
unterschiedlichen Konzentrationseinstellung auch gleichzeitig eine gleichmäßige
Schichtdicke einstellt, so daß zusätzliche Maßnahmen, wie sie aus der DE 195
14 835 A1 bekannt sind, entbehrlich sind.
Das Herstellungsverfahren wird dadurch erheblich vereinfacht.
Vorzugsweise ist der Gasdruck während des Beschichtungsprozesses auf ±
0,05 Pa konstant zu halten.
Das Verfahren kann weiter modifiziert werden, indem während des
Beschichtungsprozesses der Gasdruck kontinuierlich verändert wird. Wenn der
Gasdruck als Funktion der Bedampfungszeit verändert wird, wird außer einem
gradierten Aufbau der Gleitschicht in Umfangsrichtung auch eine Variation der
Zusammensetzung über die Schichtdicke erzielt.
Vorzugsweise wird der Gasdruck von 0,1 Pa zu Beginn bis 1 Pa am Ende des
Bedampfungsprozesses kontinuierlich erhöht. Die Zunahme des Gasdruckes
bewirkt, daß die Legierungskomponente mit dem geringen Atomgewicht
zunehmend stärker gestreut wird als die schweren Legierungselemente,
wodurch sich der Konzentrationsunterschied zwischen Scheitelbereich und
Teilflächenbereich im Laufe des Verfahrens verstärkt. Damit ändert sich auch
die Konzentration der Legierungskomponenten über die Schichtdicke.
Vorzugsweise wird als Edelgas Argon, Helium oder Neon verwendet.
Dabei muß ein lotrechter Abstand der Gleitlagerschale vom Verdampfertiegel
auf das 2- bis 7fache des Gleitlagerschalendurchmessers eingestellt werden und
die Beschichtungsrate im Scheitelbereich auf mindestens 20 nm/s eingestellt
werden.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand eines Ausführungsbeispiels und
anhand der Zeichnungen näher erläutert. In den Zeichnungen zeigen:
Fig. 1 eine perspektivische Darstellung einer Gleitlagerschale,
Fig. 2 ein Diagramm, das die Legierungszusammensetzung der Gleitschicht im
Scheitelbereich zeigt,
Fig. 3 ein Diagramm, das die Legierungszusammensetzung der Gleitschicht im
Teilflächenbereich zeigt,
Fig. 4 ein Diagramm, das die in einem Underwood-Test erzielbaren
Grenzlasten von Gleitlagerschalen mit erfindungsgemäß hergestellten
Gleitschichten im Vergleich zu herkömmlichen Ternär- und
Zweistofflagern zeigt.
In der Fig. 1 ist eine Gleitlagerschale 1 mit einem Trägerkörper 2 und einer
Gleitschicht 6 dargestellt. Der Trägerkörper 2 besteht aus einer Stahlstützschale
3, auf die eine CuPbSn-Legierung 4 durch einen Gieß- oder Sinterprozeß
sowie eine Diffusionssperrschicht 5 aufgebracht wurde. Der Kohlenstoffgehalt
des Stahls liegt zwischen 0,03% und 0,3%.
Nach verschiedenen an sich bekannten Glüh- und Umformprozessen werden
aus einem Band durch Pressen von Bandstücken einer definierten Länge die
Gleitlagerschalen hergestellt. Nach einer Oberflächenbearbeitung dieser Lager
durch Bohren oder Rollen werden die Lagerschalen durch einen galvanischen
oder einen PVD-Prozeß mit einer Diffusionssperrschicht 5 aus Nickel oder
einer Nickellegierung versehen. Danach wird der Trägerkörper entfettet und in
eine Vakuumverdampfungsanlage eingebracht. Hier erfolgt ein weitere
Oberflächenreinigung bzw. Aktivierung durch einen Zerstäubungsätzprozeß.
Nach dem Evakuieren der Beschichtungskammer wird diese mit Argon
geflutet, wobei ein Druck von etwa 1 Pa eingestellt wird. Im Anschluß daran
wird der Trägerkörper 2 durch Elektronenstrahlbedampfen von AlSn20Cu aus
einem Verdampfertiegel mittels einer axialen Elektronenkanone beschichtet.
Die Schichtdicke der abgeschiedenen Gleitschicht 6 aus AlSn20Cu liegt bei
etwa (16 ± 4) µm.
Während des Bedampfungsprozesses wurde der Argondruck bei 1 Pa
konstantgehalten, die Temperatur des Trägerkörpers lag bei 190°C bis 200°C
und die Leistung der Elektronenkanone betrug 40 bis 60 kW. Die
Abscheidungsrate betrug mindestens 20 nm/s.
Die Gleitschicht 6 weist im Scheitelbereich 8 eine deutlich höhere
Konzentration an Zinn auf als im Teilflächenbereich 9. Die Zinnteilchen sind
durch die Punkte 7 gekennzeichnet. Die höhere Konzentration wird durch eine
höhere Punktdichte im Scheitelbereich 8 gekennzeichnet.
In den Fig. 2 und 3 ist die Legierungszusammensetzung im Scheitelbereich
(Fig. 2) und im Teilflächenbereich (Fig. 3) dargestellt. Der Zinngehalt wurde
am Rasterelektronenmikroskop mittels EDX für eine definierte Fläche der
aufgedampften AlSn20Cu-Schicht bestimmt. Die Konzentration des Zinns liegt
im Scheitelbereich 8 um den Faktor 1,4 höher als im Teilflächenbereich, wobei
die Werte aus der Integration über die Zinn-Peaks ermittelt wurden.
Die Fig. 4 zeigt die im Underwood-Prüfstand erzielbaren Grenzlasten von der
erfindungsgemäß mit gradierter Laufschicht hergestellten Lagerschalen im
direkten Vergleich zu herkömmlichen Ternär- und Zweistofflagern. Als Basis
wurde bei diesen Versuchen ein Aluminium-Zweistofflager (Balken A) mit
einer Gleitschicht aus AlSn20Cu gewählt (als 100% angesehen). Höhere
Belastbarkeiten läßt ein Zweistofflager auf AlSn-Basis (Balken B) zu, dessen
Matrix durch die Legierungselemente Nickel und Mangan verfestigt ist. Das
ternäre Lager (Balken C) des Aufbaues Stahl/Bleibronze/Galvanikschicht
(PbSn10Cn5) erlaubt Lasten, die zwischen den zuvor beschriebenen
Zweistofflagern liegen. Wie Fig. 4 zeigt, liegen die erfindungsgemäß
bedampften Gleitlager (Balken D) hinsichtlich ihrer Belastbarkeit über den
herkömmlichen Lagersystemen.
Claims (15)
1. Gleitlagerschale mit einem Trägerkörper und mit mindestens einer
metallischen Gleitschicht, die mittels Elektronenstrahlbedampfung
aufgebracht ist und die in einem Matrixmaterial mindestens eine fein
dispergierte Komponente aufweist, deren Atomgewicht größer ist als
das des Matrixmaterials, dadurch gekennzeichnet,
daß die Konzentration der fein dispergierten Komponente (7) vom
Scheitelbereich (8) der Gleitlagerschale (1) zum Teilflächenbereich (9)
hin kontinuierlich abnimmt.
2. Gleitlagerschale nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Konzentration der fein dispergierten Komponente (7) im Scheitelbereich
(8) um den Faktor 1,2 bis 1,8 größer ist als im Teilflächenbereich (9).
3. Gleitlagerschale nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Konzentration der fein dispergierten Komponente (7) über die
Dicke der Gleitschicht (6) konstant ist.
4. Gleitlagerschale nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Konzentration der fein dispergierten
Komponente (7) vom unteren zum oberen Bereich der Gleitschicht (6)
kontinuierlich zunimmt.
5. Gleitlagerschale nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß die Konzentration der fein dispergierten
Komponente (7) im Scheitelbereich (8) zwischen 10 und 70 Masse-%
beträgt.
6. Gleitlagerschale nach einem der Ansprüche 4 oder 5, dadurch
gekennzeichnet, daß die Konzentration der fein dispergierten
Komponente (7) im oberen Bereich der Gleitschicht (6) bis zum 2fachen
größer ist als im unteren Bereich.
7. Gleitlagerschale nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, daß das Matrixmaterial aus Aluminium besteht und
daß die fein dispergierte Komponente (7) aus Zinn, Blei, Wismut
und/oder Antimon besteht.
8. Gleitlagerschale nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch
gekennzeichnet, daß die Gleitschicht (6) als weitere
Legierungskomponente Kupfer, Zink, Silizium, Mangan und/oder
Nickel einzeln oder in Kombination bis zu 5 Masse-% aufweist.
9. Gleitlagerschale nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch
gekennzeichnet, daß die Dicke der Gleitschicht (6) über den gesamten
Umfang gleichmäßig ist.
10. Verfahren zur Herstellung einer Gleitlagerschale mit mindestens einer
Gleitschicht aus einer metallischen Legierung, die in einer
Beschichtungskammer mittels Elektronenstrahlbedampfung auf einen
Trägerkörper aufgebracht wird und die in einem Matrixmaterial eine
fein dispergierte Komponente aufweist, deren Atomgewicht größer ist
als das des Matrixmaterials ist, dadurch gekennzeichnet,
daß während des Beschichtungsvorgangs im Scheitelbereich der
Lagerschale ein Gas mit einem Druck von 0,1 bis 5 Pa eingestellt wird.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß während
des Bedampfungsprozesses der Gasdruck kontinuierlich verändert wird.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß der
Gasdruck von 0,1 Pa zu Beginn bis 1 Pa am Ende des
Bedampfungsprozesses kontinuierlich erhöht wird.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 12, dadurch
gekennzeichnet, daß als Gas ein Edelgas Argon, Helium oder Neon
verwendet wird.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 13, dadurch
gekennzeichnet, daß der lotrechte Abstand der Gleitlagerschale vom
Verdampfungstiegel auf das 2- bis 7fache des Gleitschalendurchmessers
eingestellt wird.
15. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 14, dadurch
gekennzeichnet, daß die Beschichtungsrate im Scheitelbereich auf
mindestens 20 nm/s eingestellt wird.
Priority Applications (17)
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---|---|---|---|
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US09/322,464 US6139191A (en) | 1998-06-02 | 1999-05-28 | Half bearing |
AT99110452T ATE272802T1 (de) | 1998-06-02 | 1999-05-29 | Gleitlagerschale und verfahren zu ihrer herstellung |
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