AT514955B1 - Verfahren zur Herstellung eines Zweistoff-Gleitlagers - Google Patents

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Zweistoff-Gleitlagers (1) nach dem auf einem ebenen, metallischen Substrat (8) aus der Gasphase eine metallische Gleitschicht (3) aus zumindest zwei unterschiedlichen Partikelarten unter vermindertem Druck niedergeschlagen wird, wobei eine erste Partikelart eine Matrix mit ersten Körnern und die zweite Partikelart in der Matrix eingelagerte Körner der metallischen Gleitschicht (3) bilden, wobei die metallische Gleitschicht (3) mit einer Schichtdicke (4) von mehr als 250 μm sowie mit einer Härte nach Vickers von unter 100 HV(0,025) hergestellt wird, und die metallische Gleitschicht (3) aus einer einzigen Schicht in nur einem Durchgang und mit einer maximalen Korngröße von zumindest 90 % der die Matrix bildenden ersten Körner sowie mit einer maximalen Korngröße von zumindest 90 % der eingelagerten Körner von maximal 1 μm und einer maximalen Korngröße der restlichen Körner auf 100 % Gesamtkörner von maximal 1,5 μm hergestellt wird.

Description

Beschreibung [0001] Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Zweistoff-Gleitlagers nach demauf einem ebenen, metallischen Substrat, das die Stützschicht des Gleitlagers bildet, aus derGasphase eine metallische Gleitschicht aus zumindest zwei unterschiedlichen Partikelartenunter vermindertem Druck niedergeschlagen wird, wobei die Partikelarten mit zumindest einemElektronenstrahl aus zumindest einem, eine Verdampfungsquelle bildenden Behälter durchVerdampfen erzeugt werden, und eine erste Partikelart eine Matrix mit ersten Körnern und diezweite Partikelart in der Matrix eingelagerte Körner der metallischen Gleitschicht bilden, undwobei nach dem Abscheiden der metallischen Gleitschicht das beschichtete Substrat zumGleitlager umgeformt wird, wobei die metallische Gleitschicht mit einer Schichtdicke von mehrals 250 pm sowie mit einer Härte nach Vickers von unter 100 HV(0,025) hergestellt wird.

[0002] Weiter betrifft die Erfindung ein Zweistoff-Gleitlager umfassend eine metallische Stütz¬schicht und eine darauf angeordnete metallische Gleitschicht, wobei die metallische Gleitschichtnach einem Elektronenstrahlbedampfungsverfahren hergestellt ist und eine Matrix mit erstenKörner sowie in die Matrix eingelagerte zweite Körner aufweist, und wobei weiter die metalli¬sche Gleitschicht eine Schichtdicke von mehr als 250 pm sowie eine Härte nach Vickers vonkleiner 100 HV(0,025) aufweist.

[0003] Der Einsatz des Elektronenstahlbedampfungsverfahrens zur Herstellung von metalli¬schen Gleitlagern ist aus dem Stand der Technik bereits bekannt. Üblicherweise weisen die mitderartigen Verfahren hergestellten Schichten nur eine geringe Schichtdicke auf.

[0004] Es ist aber aus dem Stand der Technik auch bekannt, mittels Elektronenstahlbedamp¬fungsverfahren dicke Schichten abzuscheiden. So beschreibt die AT 501 722 A4 ein Beschich¬tungsverfahren zur Herstellung von dicken Gleitschichten bei dem auf einem ebenen, metalli¬schen Substrat, das von einem Substrathalter gehaltert ist, aus der Gasphase eine metallischeSchicht aus Partikel unter vermindertem Druck niedergeschlagen wird, wobei die Partikel mitzumindest einer Elektronenstrahlquelle aus zumindest einem, eine Verdampfungsquelle bilden¬den Behälter verdampft werden. Die Gleitschicht selbst wird bei diesem Verfahren aus mehre¬ren Einzelschichten sequenziell aufgebaut wird. Zwar hat dieses Verfahren Vorteile wenn Kon¬zentrationsgradienten von Legierungselementen ausgebildet werden sollen, allerdings ist diesaber auch von Nachteil, da homogene Schichten nur schwer darstellbar sind. Die nach diesemVerfahren hergestellten Gleitschichten weisen naturgemäß eine ausgeprägte Lagenstruktur auf.Es wird zwar in dieser Druckschrift erwähnt, dass durch Diffusionseffekte die Homogenität derabgeschiedenen Gleitschicht verbessert werden kann, wobei dies so weit gehen kann, dass dieeinzelnen Schichten makroskopisch nicht mehr unterscheidbar sind. Die Lagenstruktur bleibtaber trotzdem aufrecht und ist mikroskopisch nachweisbar.

[0005] Dicke metallische Schichten, d.h. Schichten mit Schichtdicken von mehr als 200 pm,können in der Gleitlagertechnik für die Motorenindustrie durch direktes Aufgießen oder aufwal¬zen einer gegossenen Schicht erzeugt werden. Diese weisen aber herstellungsbedingt einrelativ grobkörniges Gefüge auf. Letzteres trifft auch auf galvanisch erzeugte Schichten zu,wenngleich das Gefüge von galvanisch erzeugten Schichten feinkörniger ist, als von gegosse¬nen Schichten. Das Gefüge kann zwar durch die Zugabe von Kornfeinern verfeinert werden,bleibt aber hinsichtlich der Korngröße hinter den Gefügen, die mittels der Sputtertechnik her¬stellbar sind. Mittels der Sputtertechnik, bei der die Partikel durch lonenbeschuss eines Targetserzeugt werden, sind sehr hochwertige Schichten mit geringen Korngrößen möglich. Nachteiligsind dabei allerdings die teure Verfahrenstechnik und die geringen erzielbaren Abscheideraten,sodass Sputterschichten mit geringen Schichtdicken hergestellt werden, wie dies z.B. auch inder EP 0 692 674 A2 festgehalten wird.

[0006] Vor diesem Hintergrund ist es die Aufgabe der Erfindung, eine dicke metallische Gleit¬schicht wirtschaftlich herzustellen, wobei diese Schicht zumindest im Oberflächenbereich zu¬mindest teilweise annähernd vergleichbare Eigenschaften mit Sputterschichten aufweisen soll.

[0007] Diese Aufgabe der Erfindung wird mit dem eingangs genannten Verfahren dadurchgelöst, dass die metallische Gleitschicht aus einer einzigen Schicht in nur einem Durchgangund mit einer maximalen Korngröße von zumindest 90 % der die Matrix bildenden ersten Körnersowie mit einer maximalen Korngröße von zumindest 90 % der eingelagerten Körner von maxi¬mal 1 pm und einer maximalen Korngröße der restlichen Körner von maximal 1,5 pm hergestelltwird, und bei dem eingangs genannte Zweistoff-Gleitlager dadurch, dass die metallische Gleit¬schicht aus einer einzigen Schicht besteht und zumindest 90 % der ersten und zweiten Körnerder metallischen Gleitschicht eine maximale Korngröße von maximal 1 μιη und die restlichenKörner eine maximale Korngröße von maximal 1,5 μιη aufweisen.

[0008] Von Vorteil ist dabei, dass damit ein Zweistoff-Gleitlager zur Verfügung gestellt werdenkann, dessen Gleitschicht hoch belastbar, anpassungsfähig und duktil ist, und die eine homo¬gene Struktur über die Schichtdicke aufweisen kann. Die Gleitschicht weist zumindest im Ober¬flächenbereich aufgrund der Feinkörnigkeit zumindest annähernd vergleichbare Eigenschaftenauf, wie sie von Sputterlagern bekannt sind. Damit kann also ein Gleitlager zur Verfügung ge¬stellt werden, das im Vergleich zu herkömmlichen Gleitlagern mit (auf)gegossenen Gleitschich¬ten höher belastbar ist, bessere tribologische Eigenschaften aufweist als Sputtergleitschichtenund dessen Verschleißwerte im Betrieb annährend die Verschleißwerte von Sputtergleitschich¬ten erreichen. Darüber hinaus ist das Gleitlager mit der relativ dicken Gleitschicht wirtschaftli¬cher herstellbar, als ein Sputterlager. Mit der Erfindung kann also ein Zweistoff-Gleitlager zurVerfügung gestellt werden, das annähernd die Eigenschaften von Sputtergleitlagern aufweist,im Vergleich dazu aber kostengünstiger herstellbar ist.

[0009] Gemäß einer Ausführungsvariante des Verfahrens kann vorgesehen sein, dass diePartikel mittels eines Plasmas aktiviert werden. Zwar ist damit der Nachteil verbunden, dass dieBeschichtungsrate reduziert wird, allerdings übersteigt diesen Nachteil der Vorteil des feinkörni¬geren und dichteren Gefüges, wodurch die Verschleißeigenschaften und die tribologischenEigenschaften weiter verbessert werden können.

[0010] Vorzugsweise wird die metallische Gleitschicht mit einer statischen Abscheiderate vonzumindest 50 pm/min abgeschieden. Es kann damit die Duktilität und die Feinkörnigkeit derGleitschicht verbessert werden.

[0011] Unter der statischen Abscheiderate wird dabei die Beschichtungsrate bei einer Vor¬schubgeschwindigkeit von Null verstanden.

[0012] Es ist weiter bevorzugt das metallische Substrat mit einer linearen Bewegung mit einerGeschwindigkeit ausgewählt aus einem Bereich von 0,1 mm/s bis 1 mm/s über die zumindesteine Verdampfungsquelle zu bewegen, da damit die Schichtdickenvarianz verringert werdenkann. Der Aufwand einer mechanischen Nachbearbeitung der Gleitschichtoberfläche, bei¬spielsweise durch Feinbohren, kann damit reduziert werden.

[0013] Nach einer weiteren Ausführungsvariante des Verfahrens kann vorgesehen sein, dassdas metallische Substrat in einem Abstand über die zumindest eine Verdampferquelle bewegtwird, der ausgewählt wird aus einem Bereich von 200 mm und 500 mm. Einerseits ist es damitmöglich, die tribologischen Eigenschaften der metallischen Gleitschicht zu beeinflussen. Ande¬rerseits kann damit auch die Korngröße der Körner beeinflusst werden, indem der Zusammen¬stoß von Partikeln auf dem Weg zum Substrat besser vermieden werden kann. Zudem kanndamit eine gleichmäßigere Schichtdicke der metallischen Gleitschicht auch über die Breite desSubstrates, also quer zur Bewegungsrichtung, erreicht werden.

[0014] Weiter kann vorgesehen sein, dass die Oberfläche des metallischen Substrats vor derBeschichtung einem Plasma ausgesetzt wird. Es kann damit die Metalloberfläche gereinigtund/oder aktiviert werden, wodurch die Bindefestigkeit der auf dem Substrat niedergeschlage¬nen metallischen Gleitschicht verbessert werden kann.

[0015] Es ist damit möglich auf Bindeschichten zu verzichten, wodurch die Herstellung desGleitlagers vereinfacht werden kann.

[0016] Vorzugsweise besteht die Matrix aus einem Basiselement ausgewählt aus einer erstenGruppe umfassend Aluminium, Zinn, Kupfer. Insbesondere diese Metalle haben sich sowohl inHinblick auf die Verwendung in Gleitlagern, wie dies an sich bekannt ist, als auch in Hinblick aufdie Abscheidung mittels Elektronenstrahlbedampfungsverfahren als vorteilhaft erwiesen.

[0017] Weiter kann vorgesehen sein, dass die zweiten Körner zumindest ein Element ausge¬wählt aus einer Gruppe umfassend Zinn, Wismut, Silizium, Magnesium, Mangan, Eisen,Scandium, Zirkonium, Chrom, Kupfer, Aluminium, Antimon, Nickel, Kohlenstoff (Graphit) auf¬weisen, mit der Maßgabe, dass das weitere Element ungleich dem Basiselement ist, wodurcheine entsprechende Anpassung des Zweistoff-Gleitlagers an die bevorzugte Verwendung inLKW-Motoren bzw. Großmotoren erfolgen kann und die Abscheidung der metallischen Gleit¬schicht trotzdem noch wirtschaftliche durchgeführt werden kann. Insbesondere wird eine Kom¬bination der Elemente Aluminium, Zinn und Kupfer eingesetzt, da die Dampfdrücke dieserElemente sehr nahe beieinander liegen.

[0018] Dabei kann vorgesehen sein, dass die metallische Gleitschicht aus einer Legierungbesteht, die ausgewählt ist aus einer Gruppe umfassend AlSnxCuy, AIS- nxSiy, AIBix, CuSnx,CuBix, CuSnxBiy, SnAIx, SnSbx, SnCuxSby, wobei x und y jeweils ein Wert ist ausgewählt auseinem Bereich mit einer unteren Grenze von 1 und einer oberen Grenze von 30.

[0019] Es kann auch vorgesehen sein, dass die Korngröße der zweiten Körner maximal halb sogroß ist wie die Korngröße der ersten Körner. Bevorzugt werden als zweite Körner Körner derWeichphase(n) abgeschieden. Dadurch, dass diese Weichphasen-Körner eine geringere Korn¬größe als die Matrix-Körner aufweisen, kann besser verhindert werden, dass sich ein durchge¬hendes Netz aus Weichphasen- Körnern bildet, wodurch die Gleitschicht duktiler ausgebildetwerden kann.

[0020] Es sei an dieser Stelle erwähnt, dass unter einer Weichphase ein Element verstandenwird, das eine geringere Härte als die Matrix aufweist. Insbesondere sind dies die ElementeZinn und Wismut.

[0021] Weiter sei erwähnt, dass es auch möglich ist, dass die Weichphase, also z.B. Zinn oderWismut, die Matrix bildet (beispielsweise in Zinnbasislegierungen). Dabei kann es von Vorteilsein, wenn die Korngröße der ersten Körner, also der Matrix, kleiner oder gleich ist der Korn¬größe der zweiten Körner, also der in die Matrix eingelagerten Körner. Es ist aber auch derumgekehrte Fall möglich, dass also die Korngröße der ersten Körner größer ist, als die Korn¬größe der zweiten Körner.

[0022] Es ist weiter bevorzugt, wenn die die Matrix bildenden ersten Körner und/oder die in dieMatrix eingelagerten zweiten Körner einen globularen Habitus aufweisen bzw. das Gefügeinsgesamt ein globulares Erscheinungsbild aufweist. Es kann damit eine möglicherweise auftre¬tenden Kerbwirkung der Körner besser vermieden werden.

[0023] Wie bereits voranstehend ausgeführt, ist die metallische Gleitschicht vorzugsweise direktauf der metallischen Stützschicht angeordnet, wodurch die Herstellung des Gleitlagers verein¬facht und der Materialverbrauch reduziert werden kann. Darüber hinaus kann damit die Gleit¬schicht weicher und duktiler ausgeführt werden, da die Belastung unmittelbar auf die Stütz¬schicht übertragen wird.

[0024] Zum besseren Verständnis der Erfindung wird diese anhand der nachfolgenden Figurennäher erläutert.

[0025] Es zeigen jeweils in vereinfachter, schematischer Darstellung: [0026] Fig. 1 ein Zweistoff-Gleitlager in Form einer Halbschale in Schrägansicht; [0027] Fig. 2 eine Anlage zur Herstellung eines Bimetallstreifens.

[0028] Einführend sei festgehalten, dass in den unterschiedlich beschriebenen Ausführungs¬formen gleiche Teile mit gleichen Bezugszeichen bzw. gleichen Bauteilbezeichnungen verse¬hen werden, wobei die in der gesamten Beschreibung enthaltenen Offenbarungen sinngemäß auf gleiche Teile mit gleichen Bezugszeichen bzw. gleichen Bauteilbezeichnungen übertragenwerden können. Auch sind die in der Beschreibung gewählten Lageangaben, wie z.B. oben,unten, seitlich usw. auf die unmittelbar beschriebene sowie dargestellte Figur bezogen und sinddiese Lageangaben bei einer Lageänderung sinngemäß auf die neue Lage zu übertragen.

[0029] Fig. 1 zeigt ein Zweistoff-Gleitlager 1 in Form einer Flalbschale. Das Zweistoff- Gleitlager1 besteht aus einer Stützschicht 2 und einer auf dieser angeordneten Gleitschicht 3.

[0030] Unter einem Zweistoff-Gleitlager 1 wird entsprechend dem technischen Sprachgebrauchein Gleitlager verstanden, das aus einer Stützschicht 2 und einer Gleitschicht 3 besteht, wobeidie Gleitschicht 3 jene radial innere Schicht des Gleitlagers ist, an dem das zu lagernde Bauteil,beispielsweise eine Welle, abgleitet. Der Begriff „Zweistoff-Gleitlager" umfasst - wie dies in derFachsprache üblich ist - auch Gleitlager mit einer Stützschicht 2 und einer Gleitschicht 3, wobeizwischen diesen beiden Schichten zumindest eine weitere Schicht in Form einer Bindeschichtoder einer Diffusionssperrschicht angeordnet ist. Derartige Schichten werden für den BegriffZweistoff-Gleitlager nicht mitgezählt. Mit anderen Worten ausgedrückt ist also zwischen derStützschicht 2 und der Gleitschicht 3 keine Lagermetallschicht aus einer Lagermetalllegierungangeordnet. Dies hat den Vorteil, dass vor der Abscheidung der Gleitschicht 3 keine Gieß- oderPlattierschritte für die Abscheidung einer Lagermetallschicht erforderlich sind.

[0031] Es sei bereits an dieser Stelle darauf hingewiesen, dass in der bevorzugten Ausfüh¬rungsform des Zweistoff-Gleitlagers 1 die Gleitschicht 3 unmittelbar, d.h. direkt, ohne Zwischen¬schichten auf der Stützschicht 2 angeordnet ist.

[0032] Sowohl die Stützschicht 2 als auch die Gleitschicht 3 sind aus einem metallischen Werk¬stoff hergestellt.

[0033] Die Stützschicht 2 besteht insbesondere aus einem Stahl, kann jedoch auch aus einemanderen metallischen Werkstoff gebildet sein, der dem Zweistoff-Gleitlager 1 die erforderlicheStrukturfestigkeit verleiht, wie beispielsweise Bronze, Messing, einer hochfesten Aluminiumle¬gierung, etc.

[0034] Die metallische Gleitschicht 3 weist eine Matrix aus einem Basiselement auf, das bevor¬zugt ausgewählt aus einer ersten Gruppe umfassend oder bestehend aus Aluminium, Zinn,Kupfer. Dieses Basiselement bildet den Hauptbestandteil der metallischen Legierung der Gleit¬schicht 3, weist also im Vergleich zu den weiteren Elementen in der Gleitschicht 3 mengenmä¬ßig den größten Anteil an der Gleitschicht 3 auf (bezogen auf eine Zusammensetzung ausge¬drückt in Gew.-%).

[0035] In diese Matrix ist zumindest ein weiteres Element eingelagert. Dieses weiteren Elementist bevorzugt ausgewählt aus einer zweiten Gruppe umfassend oder bestehend aus Zinn, Wis¬mut, Silizium, Magnesium, Mangan, Eisen, Scandium, Zirkonium, Chrom, Kupfer, Aluminium,Antimon, Nickel, Kohlenstoff (Graphit), mit der Maßgabe, dass das weitere Element ungleichdem Basiselement ist. Mit diesen Elementen ist eine Anpassung der Eigenschaften der Gleit¬schicht 3 an die jeweiligen Erfordernisse möglich. Da die Wirkungen der einzelnen Elementeaus dem einschlägigen Stand der Technik bekannt sind, sei zur Vermeidung von Wiederholun¬gen darauf verwiesen.

[0036] Der Anteil jedes dieser Elemente der zweiten Gruppe an der Gleitschicht 3 kann ausge¬wählt sein aus einem Bereich von 0,3 Gew.-% bis 35 Gew.-%, wobei der Summenanteil sämtli¬cher Elemente der zweiten Gruppe an der Gleitschicht 3 ausgewählt ist aus einem Bereich von5 Gew.-% bis 40 Gew.-%. Den Rest auf 100 Gew.-% bildet das Basiselement der ersten Grup¬pe.

[0037] Insbesondere kann die Gleitschicht 3 aus einer Legierung bestehen, die ausgewählt istaus einer Gruppe umfassend AlSnxCuy, AlSnxSiy, AIBix, CuSnx, CuBix, CuSnxBiy, SnAIx,SnSbx, SnCuxSby, wobei x und y jeweils ein Wert ist ausgewählt aus einem Bereich mit einerunteren Grenze von 1 und einer oberen Grenze von 30, vorzugsweise aus einem Bereich miteiner unteren Grenze von 2 und einer oberen Grenze von 15.

[0038] Sollte zwischen der Stützschicht 2 und der Gleitschicht 3 eine Zwischenschicht ange¬ordnet sein - wie bereits erwähnt ist dies nicht die bevorzugte Ausführungsvariante der Erfin¬dung - kann diese z.B. aus der Matrixkomponente der Legierung der Gleitschicht 3 (dem Basi¬selement), Eisen, einer Eisenlegierung, Nickel, einer Nickellegierung, Kobalt, einer Kobaltlegie¬rung, Reinaluminium, etc., bestehen. Derartige Zwischenschichten (Bindeschichten bzw. Diffu¬sionssperrschichten) sind ebenfalls aus dem einschlägigen Stand der Technik bekannt, ausdem auch weitere Werkstoffbeispiele für diese Schichten bekannt sind, sodass auch dazu aufdie einschlägige Literatur verwiesen sei.

[0039] Die metallische Gleitschicht 3 wird nach einem Elektronenstrahlbedampfungsverfahrenhergestellt bzw. auf der Stützschicht 2 niedergeschlagen, wie dies im Nachfolgenden nochnäher erläutert wird. Im Vergleich zu nach einem Sputterverfahren hergestellten Gleitschichtenist damit eine wirtschaftlichere Abscheidung möglich.

[0040] Die Gleitschicht 3 wird in einem einzigen Durchgang durch die Bedampfungseinrichtungniedergeschlagen, es erfolgt also kein schichtweiser Aufbau, wie dies bei dem Verfahren nachder eingangs genannten AT 501 722 A4 der Fall ist. Trotzdem kann die Gleitschicht 3 mit einerSchichtdicke 4 von mehr als 250 pm, insbesondere mehr als 400 pm, hergestellt werden. DieSchichtdicke 4 kann dabei ausgewählt sein aus einem Bereich von 250 pm bis 2000 pm.

[0041] Nach der Abscheidung der Gleitschicht 3 weist diese eine Matrix auf, die durch ersteKörner aus dem Basiselement gebildet wird. In dieser Matrix sind zweite Körner eingelagert, diedurch zumindest ein Element aus der zweiten Elementgruppe und gegebenenfalls zumindesteine intermetallische Verbindung aus den Elementen der zweiten Elementgruppe und/odergegebenenfalls zumindest eine intermetallische Verbindung aus einem Element der zweitenElementgruppe mit dem Basiselement gebildet werden. Beispielsweise weist also die Gleit¬schicht 3 erste Körner aus Aluminium als Matrix auf, in die Zinn als zweite Körner eingelagertist.

[0042] Aufgrund des nachfolgend noch näher beschriebenen Herstellungsverfahrens kann dieGleitschicht 3 so hergestellt werden, dass ein Großteil der Körner, vorzugsweise sämtlicheKörner, der Gleitschicht 3, also die ersten und die zweiten Körner, ein maximale Korngröße vonmaximal 1 pm aufweisen, insbesondere zwischen 0,1 pm und 1 pm, und dass die Gleitschicht 3eine Härte nach Vickers von kleiner 100 HV(0,025) aufweist, insbesondere zwischen40 HV(0,025) und 80 HV(0,025).

[0043] Unter maximale Korngröße wird dabei der größte Durchmesser eines Einzelkorns ver¬standen, den dieses aufgrund eines unregelmäßigen Habitus aufweist. Herstellungsbedingtkönnen aber einzelne Körner geringfügig größer als 1 pm sein, wobei jedoch zumindest 90 %,insbesondere zumindest 95 %, sämtlicher Körner eine Korngröße von maximal 1 pm und derRest der Körner eine maximale Korngröße von 1,5 pm aufweisen.

[0044] Gemäß einer bevorzugten Ausführungsvariante ist vorgesehen, dass die Korngröße derzweiten Körner maximal halb so groß ist wie die Korngröße der ersten Körner, also der Körnerder Matrix.

[0045] Weiter ist aus den voranstehenden Gründen bevorzugt, wenn die die Matrix bildendenersten Körner und/oder die in die Matrix eingelagerten zweiten Körner einen globularen Habitusaufweisen. Besonders bevorzugt ist dabei wiederum, wenn sämtliche ersten und/oder zweitenKörner einen globularen Habitus aufweisen. Es ist aber auch möglich, dass lediglich zumindest90 %, insbesondere zumindest 95%, sämtlicher ersten und/oder zweiten Körner einen zumin¬dest annähernd globularen Habitus aufweisen und der Rest der Körner einen davon abwei¬chenden Habitus.

[0046] Wie aus Fig. 1 ersichtlich ist, weist das Zweistoff-Gleitlager 1 vorzugsweise die Formeiner Halbschale auf. Es ist aber auch möglich, wie dies in Fig. 1 strichliert angedeutet ist, dassdas Zweistoff-Gleitlager 1 als Buchse ausgebildet ist. Ebenso sind andere Formen von Zwei¬stoff-Gleitlagern 1, wie z.B. Anlaufscheiben, etc., möglich.

[0047] In Fig. 2 ist ein Schema für eine Bedampfungsanlage 5 zur Herstellung eines bedampf¬ten Vorproduktes 6 für das Zweistoff-Gleitlager 1 dargestellt. Diese weist eine evakuierbareBedampfungskammer 7 auf, in die ein ebenes bzw. flaches Substrat 8 zur Herstellung desVorproduktes 6 über nicht weiter dargestellte Schleusen ein- und ausgeschleust wird, da in derBedampfungskammer 7 die Gleitschicht 3 unter Unterdrück (bezogen auf den Normaldruckaußerhalb der Bedampfungskammer 7) aufgedampft wird.

[0048] Das Substrat 8 kann beispielsweise ein Stahlstreifen oder ein Stahlblech sein.

[0049] Das Substrat 8 kann auf einer Transporteinrichtung 9 durch die Bedampfungskammer 7transportiert werden. Es ist aber auch möglich, dass das Substrat 8 ohne diese Transportein¬richtung 9 durch die Bedampfungskammer 7 gefördert wird, beispielsweise wenn das Substrat 8als Band oder Blech ausgebildet ist und aus dem daraus hergestellten Vorprodukt 6 die ent¬sprechende Größe für das Zweistoff-Gleitlager 1 nach dem Bedampfen geschnitten oder ge¬stanzt wird.

[0050] Die Transporteinrichtung 9 oder das Substrat 8 sind über eine entsprechende Antriebs¬vorrichtung, die in Fig. 2 nicht dargestellt ist, angetrieben.

[0051] Das Substrat 8 wird mit einer linearen, kontinuierlichen Bewegung ohne Unterbrechungdurch die Bedampfungskammer 7 bewegt.

[0052] In der Bedampfungskammer 7 ist zumindest eine Elektronenstahlquelle 10, vorzugswei¬se eine Axialelektronenkanonen, zumindest teilweise angeordnet. Diese kann eine Leistung voneinigen 10 kW, z.B. 120 kW aufweisen. Selbstverständlich ist es möglich mehr als eine Elektro¬nenstahlquelle 10 vorzusehen.

[0053] Weiter sei darauf hingewiesen, dass die Situierung der Elektronenstahlquelle 10 in Fig. 2beispielhaften Charakter hat, da es möglich ist, mit Hilfe von elektromagnetischen Feldern denvon der Elektronenstahlquelle 10 ausgesandten Elektronenstrahl abzulenken. So kann bei¬spielsweise die Elektronenstahlquelle auch in ein Gehäuse 11 der Bedampfungskammer 7integriert werden bzw. in einer eigens hierfür am Gehäuse 11 vorgesehenen Aufnahme ange¬ordnet werden, um damit z.B. für Wartungsarbeiten eine bessere Zugänglichkeit zu erreichen.

[0054] Innerhalb des Gehäuses 11 der Bedampfungskammer 7, insbesondere unterhalb desSubstrats 8, ist zumindest ein Behälter 12 angeordnet, in dem sich ein zu verdampfende metal¬lischer Werkstoff 13 befindet und der somit die Verdampfungsquelle bildet. Je nach der Zu¬sammensetzung der herzustellenden Gleitschicht 3 können auch mehrere derartige Behälter 12angeordnet werden, in denen sich die metallischen Reinelemente oder unterschiedliche Vorle¬gierungen befinden, aus denen die Legierung der Gleitschicht 3 gebildet wird. Es ist aber auchmöglich, in einem Behälter 12 bereits die Legierung in der qualitativ und quantitativ richtigenZusammensetzung vorzulegen, sodass also die Gleitschicht 3 auch nur unter Verwendungeiner Verdampfungsquelle hergestellt werden kann. Selbstverständlich sind hinsichtlich derrichtigen quantitativen Zusammensetzung die unterschiedlichen Dampfdrücke der Elemente zuberücksichtigen, sodass also die quantitative Zusammensetzung in dem zumindest einen Be¬hälter 12 in der Regel unterschiedlich ist zur quantitativen Zusammensetzung der Legierung derGleitschicht 3. Gegebenenfalls ist es weiter möglich, dass mehrere Verdampfungsquellen dasgleiche Metall, d.h. das gleiche Beschichtungsmaterial, zur Ausbildung der metallischen Gleit¬schicht 3 enthalten, wobei diese in Förderrichtung des Substrats 8 hintereinander angeordnetwerden können.

[0055] Es ist möglich, dass der Elektronenstrahl auf die mehreren Behälter 12 gelenkt wird, alsoinsbesondere zwischen diesen Behältern 12 hin und her springt. Ebenso kann der Elektronen¬strahl innerhalb eines Behälters 12 zwischen zwei oder mehreren Punkten hin und her sprin¬gen, beispielsweise wenn ein Behälter 12 mit größeren Abmessungen verwendet wird.

[0056] Es werden also zur Erzeugung der Gleitschicht 3, die bevorzugt aus den voranstehendgenannten Legierungen gebildet ist, zumindest zwei unterschiedliche Partikelarten erzeugt,beispielsweise eine erste Partikelart aus Aluminium und eine zweite Partikelart aus Zinn.

[0057] Die Verdampfungsquelle(n), d.h. der oder die Behälter 12, kann oder können kühlbarsein, z.B. mit einem Fluid, wie z.B. Wasser, Öl, etc.. Des Weiteren ist es möglich, neben derdiskontinuierlichen Vorlage des Werkstoffes 13, diesen kontinuierlich, z.B. als Strang oderDraht, beispielsweise über den Boden des oder der Behälter 12 zuzuführen.

[0058] Durch die Beaufschlagung des metallischen Werkstoffes 13 bzw. der metallischenWerkstoffe 13 mit Elektronen aus der zumindest einen Elektronenstahlquelle 10 verdampftdieser Werkstoff 13, wodurch sich ein Partikelstrom 14 in Form einer Dampfkeule bildet. DiePartikel aus dem Partikelstrom 14 schlagen sich auf der Oberfläche des Substrats 8 nieder,wodurch letztendlich die Gleitschicht 3 ausgebildet wird.

[0059] Zur Steuerung kann der Bedampfungsanlage 5 eine Steuer- und/oder Regeleinrichtung(nicht gezeigt) zugeordnet sein, wobei mit dieser auch weitere Komponenten der Bedamp¬fungsanlage 5 wirkungsverbunden sein können.

[0060] Zwischen dem Substrat 8 und der oder den Verdampfungsquelle(n) kann zumindesteine Blende (nicht dargestellt) angeordnet sein, um damit den Partikelstrom 14 zur Gänze bzw.teilweise auszublenden, um beispielsweise einen bestimmten Beschichtungsverlauf zu ermögli¬chen. Dies kann z.B. dann sinnvoll sein, wenn die Gleitschicht 3 aus Metallen aus mehrerenBehältern 12 hergestellt wird, sodass zumindest einzelne dieser Metalle während der Bedamp¬fung ausgeblendet werden können und damit eine bestimmte Legierungszusammensetzungbzw. Beschichtungszusammensetzung ermöglicht wird bzw. um die Ausbildung eines Konzent¬rationsgradienten innerhalb der Gleitschicht 3 zu ermöglichen. Beispielsweise ist es auf dieseWeise möglich, eine zunehmende Konzentration an Weichphase aus z.B. Zinn oder Bismut inRichtung auf die Gleitfläche der Gleitschicht 3 herzustellen.

[0061] Die Blenden können wassergekühlt sein. Jegliche andere Art der Kühlung, die hierfürgeeignet ist, ist selbstverständlich möglich. Weiter können die Blenden jede beliebige Ausge¬staltung aufweisen, z.B. flächig und linear verschiebbar, zweigeteilt und verschwenkbar, etc..

[0062] Zur Erreichung einer feinkörnigeren Gleitschicht 3 ist zwischen dem Behälter 12 bzw.den Behältern 12 und dem Substrat 8 eine Vorrichtung 15 zur Erzeugung eines Plasmas ange¬ordnet sein, beispielsweise eine Plasmaelektrode oder eine Hohlkathode. Es wird damit eineEntladung erzeugt, die die verdampften Partikel ionisiert. Es kann dazu z.B. ein Gleichstromausgewählt aus einem Bereich von 10 A bis 100 A und eine Gleichspannung ausgewählt auseinem Bereich von -20 V bis -100 V angewandt werden.

[0063] Es ist weiter möglich, dass an das Substrat 8 eine Biasspannung angelegt wird, z.B.ausgewählt aus einem Bereich von -30 V bis - 500 V, die über eine Stromversorgungsvorrich¬tung 16 zur Verfügung gestellt werden kann.

[0064] Es ist weiter von Vorteil die Oberfläche des Substrates 8 vorzubehandeln, wie diesstrichpunktiert im linken oberen Quadranten des Gehäuses 11 der Bedampfungskammer 7 inForm einer Vorbehandlungseinrichtung 17 dargestellt ist. Diese Vorbehandlungseinrichtung 17kann z.B. als Ätzvorrichtung ausgebildet sein, beispielsweise mit Glühkathoden versehen sein.Die Vorbehandlung kann durch Koronaentladung etc., erfolgen. Vorzugsweise erfolgt einePlasmabehandlung der Oberfläche des Substrats 8, wozu die Vorbehandlungseinrichtung 17z.B. eine Plasmaelektrode umfassen kann, um damit eine Bogenentladung zu erzeugen.

[0065] Andere Vorbehandlungsverfahren, wie z.B. das Sputtercleaning oder das AEGD Verfah¬ren (Arc Enhanced Glow Discharge Verfahren) oder die Vorbehandlung mittels Hohlkathoden¬entladung, sind ebenfalls anwendbar.

[0066] Gegebenenfalls kann vor dieser Oberflächenbehandlung bzw. Aktivierung der Oberflä¬che des Substrates 8 eine weitere Vorbehandlung z.B. in Form einer Entfettung bzw. generellReinigung des Substrates 8 durchgeführt werden.

[0067] Weiter kann vorgesehen sein, dass die Transporteinrichtung 9 und/oder das Substrat 8temperierbar sind. Dazu kann z.B. im Inneren der Transporteinrichtung 9 ein Kühlsystem 18ausgebildet bzw. angeordnet sein, um die Oberfläche der Transporteinrichtung 9 und in weiterer

Folge das Substrat 8 auf einem bestimmten Temperaturniveau zu halten bzw. mit einem defi¬nierten Temperaturverlauf zu beschichten. Dieses Kühlsystem 18 kann z.B. als Kühlmittelleitungausgebildet sein und entsprechende Anschlüsse für einen Zulauf und einen Ablauf aufweisen,die mit einem entsprechenden Versorgungssystem (in Fig. 2 nicht dargestellt) strömungsver¬bunden sind. Zur Kühlung kann beispielsweise Öl, Wasser, Luft, etc. verwendet werden, wobeigegebenenfalls zur Abfuhr von überschüssiger Wärme diesem Kühlsystem 18 zur Energierück¬gewinnung ein Wärmetauscher zugeordnet sein kann. Es ist aber auch möglich, andere Kühl¬systeme 18 vorzusehen. Sollte keine gesonderte Transporteinrichtung 9 vorhanden sein, wiedies voranstehend beschrieben wurde, besteht die Möglichkeit das Substrat 8 selbst direkt mitdem Kühlsystem 18 zu verbinden.

[0068] Es ist mit dem Kühlsystem 18 möglich, das Beschichtungsverfahren mit einer exaktenTemperatursteuerung durchzuführen, sodass aufgrund dieser Beschichtungstemperatur bzw.des Beschichtungstemperaturverlaufes ebenfalls eine homogene dichte Struktur der Gleit¬schicht 3 ausgebildet werden kann.

[0069] Weiter besteht die Möglichkeit, dass das Substrat 8 vor der Abscheidung der Gleit¬schicht 3 mit einer Haftvermittlerschicht versehen wird.

[0070] Zur Herstellung der Gleitschicht 3 wird also ein ebenes Substrat 8 in einem einzigenDurchgang durch die Bedampfungskammer 7 beschichtet, wozu das Substrat 8 kontinuierlichund insbesondere mit gleichmäßiger Geschwindigkeit linear durch die Bedampfungskammer 7bewegt wird. Es können dabei folgende allgemeine Parameter angewandt werden: [0071] Elektronenkanone:

[0072] Beschleunigungsspannung: 20 kV - 35 kV

[0073] Strahlleistung der Elektronenkanone: 60 kW bis 240 kW

[0074] Substrat-Temperatur: 150 °C bis 250 °C

[0075] Prozessdruck: 2x10"4 Pa - 10"1 Pa [0076] Abscheiderate: zumindest 50 pm/rnin, insbesondere von 50 pm/min bis 100 pm/min [0077] Fördergeschwindigkeit des Substrats 8: 0,1 mm/s bis 1 mm/s, vorzugsweise 0,2 mm/sbis 0,5 mm/s [0078] Abstand Substrat 8 von der Oberfläche der Verdampferquelle: 200 mm und 500 mm,insbesondere 250 mm bis 350 mm.

[0079] Nachdem das Substrat 8 mit der Gleitschicht 3 beschichtet ist, also das Vorprodukt 6fertig ist, erfolgt noch die Ausformung des Zweistoff-Gleitlagers 1 durch mechanische Bearbei¬tung. Dazu können gegebenenfalls aus dem Vorprodukt 6, sofern dieses noch nicht die richtigeGröße hat, die für das Zweistoff-Gleitlager 1 richtigen Vorformlinge geschnitten oder gestanztwerden. Danach erfolgt eine Umformung des ebenen Vorproduktes 6 bzw. Vorformlings in diejeweilige Form des Gleitlagers, also beispielsweise eine Halbschale oder eine Buchse. DieseUmformung kann z.B. in einem Gesenk bzw. einer Presse oder durch Rollen erfolgen. Für denFall, dass eine Gleitlagerbuchse hergestellt wird, kann diese - wie dies aus dem Stand derTechnik bekannt ist - verschweißt oder verklammert, etc., werden. Gegebenenfalls kann danachnoch ein Feinbohren der Gleitschicht 3 durchgeführt werden.

[0080] Nach einer bevorzugten Ausführungsvariante weisen die ersten Körner des die Matrixbildenden Metalls mindestens die doppelte maximale Korngröße auf, als die weiteren Körnerdes weiteren Metalls, das in die Matrix eingebettet ist, wie dies bereits voranstehend ausgeführtwurde. Erreicht wird dies durch insbesondere durch höhere Abscheideraten.

[0081] Weiter weisen die ersten und/oder die zweiten Körner vorzugsweise einen globularenHabitus bzw. weist das gesamte Gefüge ein globulares, d.h. nicht stängeliges, Erscheinungsbildauf, wie dies ebenfalls bereits voranstehend ausgeführt wurde. Erreicht wird dies durch einenhöheren Energieeintrag, der insbesondere durch eine hohe Beschichtungsrate und/oder eine hohe Substrattemperatur und/oder durch eine hohe Badtemperatur ermöglicht werden kann.

[0082] Beispiel: [0083] Im Rahmen der Erfindung wurde ein Zweistoff-Gleitlager 1 mit einer Gleitschicht 3 ausAISn20Cu auf einer Stützschicht 2 aus Stahl wie folgt hergestellt.

[0084] Ein Stahlsubstrat wurde einer Vorreinigung in einem Plasma unterzogen (pAr ~ 0,3 Pa,Paegd = 3 kW, UB = -1000V, t * 15 Minuten).

[0085] Die Beschichtung dieses gereinigten Substrates 8 erfolgte mit einem Anfangsdruck inder Bedampfungskammer 7 von weniger als 2.10'4 Pa unter Verwendung einer AISn14Cu5Legierung in einem Behälter 12. Diesem Behälter 12 wurde während der Abscheidung derGleitschicht 3 eine AISn20Cu Legierung zugeführt. Der Abstand zwischen dem Substrat 8 unddem Behälter 12 betrug 300 mm. Das Substrat 8 wurde auf einer ölgekühlten Transportvorrich¬tung 9 (Töl, vorlaut = 145 °C) durch die Bedampfungskammer 7 befördert. Für die Abscheidungwurden folgende weitere Parameter verwendet: [0086] Elektronenstrahlleistung: 100 kW (sodass sich die Oberflächen-Temperatur im Behälter12 auf ca. 1450 °C einstellt) [0087] Fördergeschwindigkeit des Substrats 8: 0,3 mm/s [0088] Abscheiderate Rsta1.: 50 pm/min [0089] Die Schichtdicke der Gleitschicht 3 betrug mit 615 ± 40 pm und die Härte 63 HV(0,025).Für die Prüfung wurde die Gleitschicht 3 feingebohrt, wonach sie eine Schichtdicke von ca. 400pm aufwies. Die maximale Korngröße von Aluminium betrug ca. 0,9 pm, jene von Zinn ca. 0,4pm. Die restlichen Körner hatten eine Korngröße von maximal ca. 1,3 pm. Die Korngrößenwurden optisch mittels Lichtmikroskop bzw. Elektronenmikroskop bestimmt.

[0090] Die Fressgrenzlast wurde mit 74 MPa und der Verschleiß wurde mit 5,2 pm (75 MPa, 15Stunden) bestimmt. Im Vergleich dazu weist ein Zweistoff-Gleitlager mit einer gesputtertenGleitschicht eine Fressgrenzlast von 62 MPa und einen Verschleiß von 3,7 pm auf (jeweilsgleiche Prüfbedingungen).

[0091] Die Ausführungsbeispiele zeigen mögliche Ausführungsvarianten des Zweistoff- Gleitla¬gers 1, wobei an dieser Stelle bemerkt sei, dass auch diverse Kombinationen der einzelnenAusführungsvarianten untereinander möglich sind.

[0092] Der Ordnung halber sei abschließend darauf hingewiesen, dass zum besseren Ver¬ständnis des Aufbaus Zweistoff-Gleitlagers 1 und der Bedampfungsanlage 5 diese bzw. derenBestandteile teilweise unmaßstäblich und/oder vergrößert und/oder verkleinert dargestellt wur¬den.

BEZUGSZEICHENLISTE 1 Zweistoff-Gleitlager 2 Stützschicht 3 Gleitschicht 4 Schichtdicke 5 Bedampfungsanlage 6 Vorprodukt 7 Bedampfungskammer 8 Substrat 9 Transporteinrichtung 10 Elektronenstrahlquelle 11 Gehäuse 12 Behälter 13 Werkstoff 14 Partikelstrom 15 Vorrichtung 16 Stromversorgungsvorrichtung 17 Vorbehandlungseinrichtung 18 Kühlsystem

Claims (13)

1. Patentansprüche 1. Verfahren zur Herstellung eines Zweistoff-Gleitlagers (1) nach dem auf einem ebenen,metallischen Substrat (8), das die Stützschicht (2) des Gleitlagers bildet, aus der Gasphaseeine metallische Gleitschicht (3) aus zumindest zwei unterschiedlichen Partikelarten untervermindertem Druck niedergeschlagen wird, wobei die Partikelarten mit zumindest einemElektronenstrahl aus zumindest einem, eine Verdampfungsquelle bildenden Behälter (12)durch Verdampfen erzeugt werden, und eine erste Partikelart eine Matrix mit ersten Kör¬nern und die zweite Partikelart in der Matrix eingelagerte Körner der metallischen Gleit¬schicht (3) bilden, und wobei nach dem Abscheiden der metallischen Gleitschicht (3) dasbeschichtete Substrat (8) zum Gleitlager umgeformt wird, wobei die metallische Gleit¬schicht (3) mit einer Schichtdicke (4) von mehr als 250 pm sowie mit einer Härte nachVickers von unter 100 HV(0,025) hergestellt wird, dadurch gekennzeichnet, dass die me¬tallische Gleitschicht (3) aus einer einzigen Schicht in nur einem Durchgang und mit einermaximalen Korngröße von zumindest 90 % der die Matrix bildenden ersten Körner sowiemit einer maximalen Korngröße von zumindest 90 % der eingelagerten Körner von maxi¬mal 1 pm und einer maximalen Korngröße der restlichen Körner auf 100 % Gesamtkörnervon maximal 1,5 pm hergestellt wird.
2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Partikel mittels einesPlasmas aktiviert werden.
3. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die metallische Gleit¬schicht (3) mit einer Abscheiderate von zumindest 50 pm/min abgeschieden wird.
4. 4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das metalli¬sche Substrat (8) mit einer linearen Bewegung mit einer Geschwindigkeit ausgewählt auseinem Bereich von 0,1 mm/s bis 1 mm/s über die zumindest eine Verdampfungsquelle be¬wegt wird.
5. 5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das metalli¬sche Substrat (8) in einem Abstand über die zumindest eine Verdampferquelle bewegtwird, der ausgewählt wird aus einem Bereich von 200 mm und 500 mm.
6. 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Ober¬fläche des metallischen Substrats (6) vor der Beschichtung einem Plasma ausgesetzt wird.
7. 7. Zweistoff-Gleitlager (1) umfassend eine metallische Stützschicht (2) und eine darauf ange¬ordnete metallische Gleitschicht (3), wobei die metallische Gleitschicht (3) nach einemElektronenstrahlbedampfungsverfahren hergestellt ist, insbesondere nach einem Verfahrenentsprechend einem der Ansprüche 1 bis 7, und eine Matrix mit ersten Körner sowie in dieMatrix eingelagerte zweite Körner aufweist, und wobei weiter die metallische Gleitschicht (3) eine Schichtdicke (4) von mehr als 250 pm sowie eine Härte nach Vickers von kleiner100 HV(0,025) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass die metallische Gleitschicht (3)aus einer einzigen Schicht besteht und zumindest 90 % der ersten und zweiten Körner dermetallischen Gleitschicht (3) eine maximale Korngröße von maximal 1 pm und die restli¬chen Körner eine maximale Korngröße von maximal 1,5 pm aufweisen.
8. 8. Zweistoff-Gleitlager (1) nach einem der Ansprüche 7, dadurch gekennzeichnet, dass dieMatrix aus einem Basiselement ausgewählt aus einer ersten Gruppe umfassend Alumini¬um, Zinn, Kupfer besteht.
9. 9. Zweistoff-Gleitlager (1) nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die zweitenKörner zumindest ein Element ausgewählt aus einer Gruppe umfassend Zinn, Wismut, Sili¬zium, Magnesium, Mangan, Eisen, Scandium, Zirkonium, Chrom, Kupfer, Aluminium, Anti¬mon, Nickel, Kohlenstoff (Graphit) aufweisen, mit der Maßgabe, dass das weitere Elementungleich dem Basiselement ist.
10. 10. Zweistoff-Gleitlager (1) nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet,dass die metallische Gleitschicht (3) aus einer Legierung besteht, die ausgewählt ist auseiner Gruppe umfassend AlSnxCuy, AlSnxSiy, AIBix, CuSnx, CuBix, CuSnxBiy, SnAIx,SnSbx, SnCuxSby, wobei x und y jeweils ein Wert ist ausgewählt aus einem Bereich miteiner unteren Grenze von 1 und einer oberen Grenze von 30.
11. 11. Zweistoff-Gleitlager (1) nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch gekennzeichnet,dass die Korngröße der zweiten Körner maximal halb so groß ist wie die Korngröße derersten Körner.
12. 12. Zweistoff-Gleitlager (1) nach einem der Ansprüche 7 bis 11, dadurch gekennzeichnet,dass die die Matrix bildenden ersten Körner und/oder die in die Matrix eingelagerten zwei¬ten Körner einen zumindest annähernd globularen Habitus aufweisen.
13. 13. Zweistoff-Gleitlager (1) nach einem der Ansprüche 7 bis 12, dadurch gekennzeichnet,dass die metallische Gleitschicht (3) direkt auf der metallischen Stützschicht (2) angeordnetist. Hierzu 2 Blatt Zeichnungen