DE19810584A1 - Verfahren zur Herstellung einer optischen Wellenleiter-Vorrichtung - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer optischen Wellenleiter-VorrichtungInfo
- Publication number
- DE19810584A1 DE19810584A1 DE19810584A DE19810584A DE19810584A1 DE 19810584 A1 DE19810584 A1 DE 19810584A1 DE 19810584 A DE19810584 A DE 19810584A DE 19810584 A DE19810584 A DE 19810584A DE 19810584 A1 DE19810584 A1 DE 19810584A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- optical
- metal
- waveguide
- optical polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 50
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 28
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 10
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 4
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 35
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000013047 polymeric layer Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
- G02B6/1221—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths made from organic materials
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B2006/12035—Materials
- G02B2006/12069—Organic material
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B2006/12035—Materials
- G02B2006/12069—Organic material
- G02B2006/12071—PMMA
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B2006/12166—Manufacturing methods
- G02B2006/12173—Masking
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B2006/12166—Manufacturing methods
- G02B2006/12176—Etching
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine optische Wellenleiter(Lichtwellenleiter)-Vorrichtung,
sie betrifft insbesondere ein Verfahren zur Herstellung einer optischen Wellen
leiter(Lichtwellenleiter)-Vorrichtung unter Verwendung eines optischen Poly
mers, mit dessen Hilfe das Verfahren durch Bestrahlung der Rückseite mit ul
traviolettem Licht (UV-Licht) vereinfacht werden kann.
Zur Herstellung einer optischen Wellenleiter-Vorrichtung unter Verwendung
eines optischen Polymers wird im allgemeinen ein RIE (reactives Ionenätz)-
Verfahren, Photobleich-Verfahren oder durch Umpolen induziertes Verfahren
zur Herstellung eines Wellenleiters angewendet. Diese Verfahren erfordern
jedoch eine zusätzliche Vakuum-Apparatur und bringen eine Erhöhung der
Behandlungsdauer und eine Komplexität des Verfahrens mit sich, wodurch die
Produktausbeute herabgesetzt wird.
Ein Ziel der vorliegenden Erfindung ist es daher, ein Verfahren zur Herstellung
einer optischen Wellenleiter(Lichtwellenleiter)-Vorrichtung zu schaffen, das
durch Verwendung eines durch UV-Strahlung härtbaren optischen Polymers
erheblich vereinfacht ist.
Ein weiteres Ziel der Erfindung besteht darin, ein Verfahren zur Herstellung
einer optischen Wellenleiter(Lichtwellenleiter)-Vorrichtung anzugeben, mit
dessen Hilfe die Prozeßdauer verkürzt werden kann ohne Verwendung einer
zusätzlichen Vakuumapparatur für die Herstellung einer optischen Wellenlei
ter-Vorrichtung.
Die obengenannten Ziele werden erreicht mit einem Verfahren zur Herstellung
einer optischen Wellenleiter(Licht-Wellenleiter)-Vorrichtung gemäß der vorlie
genden Erfindung. Zur Herstellung einer optischen Wellenleiter-Vorrichtung
wird auf der Oberfläche eines Glassubstrats eine untere Plattierungsschicht
erzeugt, auf der unteren Plattierungsschicht wird eine Metallschicht gebildet
und durch selektives Ätzen der Metallschicht wird ein Metallmuster (Leiterbild)
erzeugt für die Bildung eines Wellenleiter-Kerns darin. Dann wird eine opti
sche Polymerschicht in dem Metallmuster erzeugt, die optische Polymerschicht
in einem metallfreien Abschnitt des Metallmusters wird durch Bestrahlen der
unteren Oberfläche des Substrats mit UV-Licht gehärtet und der Wellenleiter-Kern
(die Wellenleiterseele) wird durch Entfernen des übrigen Abschnitts der
optischen Polymerschicht mit Ausnahme des gehärteten Abschnitts derselben
und der Metallschicht erzeugt. Schließlich wird eine obere Plattierungsschicht
auf die untere Plattierungsschicht und den Wellenleiterkern (die Wellenleiter
seele) aufgebracht.
Die obengenannten Ziele und Vorteile der Erfindung gehen aus der nachste
henden detaillierten Beschreibung einer bevorzugten Ausführungsform dersel
ben unter Bezugnahme auf die bei liegenden Zeichnungen hervor, wobei die
Fig. 1 bis 9 aufeinanderfolgende Schnittansichten darstellen, die das Verfah
ren zur Herstellung einer optischen Wellenleiter-Vorrichtung gemäß einer be
vorzugten Ausführungsform der Erfindung erläutern.
Eine bevorzugte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird nachste
hend unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen näher beschrie
ben. Eine detaillierte Beschreibung einer verwandten bekannten Funktion oder
Struktur der vorliegenden Erfindung wird weggelassen, wenn angenommen
wird, daß dadurch der Gegenstand der vorliegenden Erfindung unklar wird.
Die Fig. 1 bis 9 zeigen aufeinanderfolgende Schnittansichten, die ein Verfah
ren zur Herstellung einer optischen Wellenleiter(Lichtwellenleiter)-Vorrichtung
gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung erläutern.
In der Fig. 1 wird eine untere Plattierungsschicht 102 erzeugt durch Abschei
dung eines Plattierungsmaterials auf einem transparenten Glassubstrat 100. In
diesem Fall wird das Substrat 100, das UV-Licht 108 hindurchlassen kann zum
Aushärten einer optischen Polymerschicht 110, aus einem Deckglas oder ei
nem Polymerglas aus Polycarbonat oder Polymethylmethacrylat hergestellt.
Die untere Plattierungsschicht 102 weist einen niedrigeren Brechungsindex
auf als ein optisches Polymermaterial für die Bildung eines Wellenleiter-Kerns
114 und ist in dem angewendeten optischen Wellenlängenbereich transparent.
In der Fig. 2 ist eine Metallschicht 104 auf der unteren Plattierungsschicht 102
abgeschieden und ein Photoresist (Abdeckung) 106 ist durch Schleuderbe
schichtung auf der Metallschicht 104 abgeschieden, um den Wellenleiterkern
114 darin einzubetten.
Dann wird ein Metallmuster W, das dem Wellenleiterkern 114 entspricht, er
zeugt, wie in Fig. 4 dargestellt, durch Bestrahlung der Metallschicht 104, die
das darauf aufgebrachte Photoresist 106 aufweist, mit dem UV-Licht 108 durch
eine Maske hindurch, wie in Fig. 3 dargestellt. Anschließend wird das Photo
resist (die Abdeckung) 106 entwickelt durch Eintauchen des Photoresists 106
in eine Entwicklungslösung und gebrannt. Auf diese Weise wird in der Metall
schicht 104 ein Metallmuster W erzeugt, wie in Fig. 5 dargestellt.
In Fig. 6 wird zur Erzeugung des Wellenleiterkerns 114 die optische Polymer
schicht 110 erzeugt durch Abscheidung eines durch das UV-Licht 108 härtba
ren optischen Polymers auf der Metallschicht 104 durch Schleuderbeschich
ten. Hier ist das optische Polymer für die optische Polymerschicht 110 linear
oder nicht-linear und es weist einen höheren Brechungsindex auf als die unte
re Plattierungsschicht 102 und eine obere Plattierungsschicht 116 und es
weist eine verlustarme optische Durchlässigkeit in dem angewendeten opti
schen Wellenlängenbereich auf. Dann wird die untere Oberfläche des
Substrats 100, auf dem die optische Polymerschicht 110 gebildet worden ist,
mit dem UV-Licht 108 bestrahlt. Als Folge davon, daß die Metallschicht 104 als
Maske verwendet wird, wird nur ein Teil der optischen Polymerschicht 110 in
dem Metallmuster W gehärtet, während der andere Teil derselben auf der
Metallschicht 104 ungehärtet bleibt.
In der Fig. 7 wird dann, wenn die optische Polymerschicht 110 mittels einer
geeigneten Ätzlösung abgewaschen wird, der ungehärtete Teil der optischen
Polymerschicht 110 geätzt, während der gehärtete Teil derselben in dem Me
tallmuster W nicht geätzt wird, und daraus entsteht der Wellenleiterkern 114.
Dann wird die als Maske fungierende Metallschicht 104 mittels einer geeigne
ten Ätzlösung geätzt, wie in Fig. 8 dargestellt.
In der Fig. 9 wird die obere Plattierungsschicht 116 gebildet aus einem Plattie
rungsmaterial mit einem niedrigeren Brechungsindex als der Wellenleiterkern
114 auf der unteren Plattierungsschicht 102, auf der sich der Wellenleiterkern
114 befindet, wodurch das Verfahren zur Herstellung des optischen Wellenlei
ters vervollständigt wird.
Hier kann das Umpolen, das durch das elektrische Feld eines nicht-linearen
optischen Polymers hervorgerufen wird, angewendet werden durch Anbringen
von transparenten Elektroden auf dem Substrat 100 und die Elektroden kön
nen zur Herstellung einer Vorrichtung, die auf elektrooptischen Effekten ba
siert, angewendet werden. Außerdem kann auf der oberen Plattierungsschicht
116 eine Metallelektroden-Heizeinrichtung oder eine Metall-Elektrode erzeugt
werden zur Herstellung einer Vorrichtung, in der thermooptische oder elektro
optische Effekte ausgenutzt werden.
Wie vorstehend beschrieben, kann bei dem Verfahren zur Herstellung einer
optischen Wellenleiter-Vorrichtung gemäß der beschriebenen Ausführungs
form der Erfindung eine Vereinfachung des Verfahrens erzielt werden durch
Verwendung eines durch UV-Strahlung härtbaren optischen Polymers für die
Herstellung einer optischen Wellenleiter-Vorrichtung. Außerdem kann eine
Kontamination der optischen Polymerschicht und Photomaske, die durch einen
direkten Kontakt zwischen einer Photomaske und der optischen Polymer
schicht hervorgerufen wird, verhindert werden durch Bestrahlung mit UV-Licht
von hinten. Durch die Bildung der Metallschicht, die als Maske gegenüber dem
UV-Licht wirkt, mit dem die untere Oberfläche eines Substrats bestrahlt wird,
wird die Notwendigkeit vermieden, die Photomaske auf das Substrat auszu
richten, was zu einem Selbstausrichtungseffekt führt.
Die Erfindung wurde zwar vorstehend unter Bezugnahme auf eine bestimmte
bevorzugte Ausführungsform näher beschrieben, es ist jedoch für den Fach
mann selbstverständlich, daß sie darauf nicht beschränkt ist, sondern daß ver
schiedene Änderungen in Form und Details vorgenommen werden können,
ohne daß dadurch der Schutzbereich der Erfindung, wie er durch die nachste
henden Patentansprüche definiert wird, verlassen wird.
Claims (5)
1. Verfahren zur Herstellung einer optischen Wellenleiter(Lichtwellen
leiter)-Vorrichtung, dadurch gekennzeichnet, daß es die folgenden Stufen
umfaßt:
Erzeugung einer unteren Plattierungsschicht auf der Oberfläche eines Glas substrats;
Bildung einer Metallschicht auf der unteren Plattierungsschicht;
Erzeugung eines Metallmusters durch selektives Ätzen der Metallschicht unter Bildung eines Wellenleiter-Kerns darin;
Erzeugung einer optischen Polymerschicht in dem Metallmuster;
Härtung der optischen Polymerschicht in einen metallfreien Abschnitt des Me tallmusters durch Bestrahlung der unteren Oberfläche des Substrats mit UV-Licht;
Bildung des Wellenleiterkerns durch Entfernen des übrigen Abschnitts der op tischen Polymerschicht mit Ausnahme des gehärteten Abschnitts desselben und der Metallschicht; und
Erzeugung einer oberen Plattierungsschicht auf der unteren Plattierungs schicht und dem Wellenleiterkern.
Erzeugung einer unteren Plattierungsschicht auf der Oberfläche eines Glas substrats;
Bildung einer Metallschicht auf der unteren Plattierungsschicht;
Erzeugung eines Metallmusters durch selektives Ätzen der Metallschicht unter Bildung eines Wellenleiter-Kerns darin;
Erzeugung einer optischen Polymerschicht in dem Metallmuster;
Härtung der optischen Polymerschicht in einen metallfreien Abschnitt des Me tallmusters durch Bestrahlung der unteren Oberfläche des Substrats mit UV-Licht;
Bildung des Wellenleiterkerns durch Entfernen des übrigen Abschnitts der op tischen Polymerschicht mit Ausnahme des gehärteten Abschnitts desselben und der Metallschicht; und
Erzeugung einer oberen Plattierungsschicht auf der unteren Plattierungs schicht und dem Wellenleiterkern.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat
aus einem Deckglas, Polycarbonat und/oder Polymethylmethacrylat hergestellt
ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die optische
Polymerschicht in dem angewendeten optischen Wellenlängenbereich optisch
transparent ist und aus einem nicht-linearen Polymermaterial mit einem höhe
ren Brechungsindex als die obere Plattierungsschicht und die untere Plattie
rungsschicht hergestellt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die optische
Polymerschicht in dem angewendeten optischen Wellenlängenbereich optisch
transparent ist und aus einem linearen Polymermaterial mit einem höheren
Brechungsindex als die obere Plattierungsschicht und die untere Plattierungs
schicht hergestellt worden ist.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die optische
Polymerschicht und die Metallschicht mittels einer Ätzlösung entfernt werden.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019970008200A KR100288742B1 (ko) | 1997-03-12 | 1997-03-12 | 광도파로소자의제조방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19810584A1 true DE19810584A1 (de) | 1998-09-24 |
Family
ID=19499400
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19810584A Ceased DE19810584A1 (de) | 1997-03-12 | 1998-03-11 | Verfahren zur Herstellung einer optischen Wellenleiter-Vorrichtung |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6037105A (de) |
JP (1) | JP2968508B2 (de) |
KR (1) | KR100288742B1 (de) |
CN (1) | CN1101001C (de) |
DE (1) | DE19810584A1 (de) |
FR (1) | FR2760851A1 (de) |
GB (1) | GB2323182B (de) |
RU (1) | RU2151412C1 (de) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1090546A (ja) * | 1996-09-17 | 1998-04-10 | Toyota Motor Corp | 平面導波路の製造方法及び平面導波路 |
CA2269872A1 (en) * | 1998-04-23 | 1999-10-23 | Nec Corporation | A method of manufacturing a semiconductor optical waveguide array and an array-structured semiconductor optical device |
JP2000035524A (ja) * | 1998-07-21 | 2000-02-02 | Sony Corp | 光導波路およびその製造方法 |
DE69940577D1 (de) * | 1998-11-09 | 2009-04-23 | Seiko Instr Inc | Nahfeld Abtastkopf und Herstellungsverfahren dafür |
KR100319299B1 (ko) * | 1999-04-14 | 2002-01-05 | 윤종용 | 광통신용 폴리이미드 |
US6649715B1 (en) | 2000-06-27 | 2003-11-18 | Clemson University | Fluoropolymers and methods of applying fluoropolymers in molding processes |
US6489420B1 (en) | 2000-06-27 | 2002-12-03 | Dyneon Llc | Fluoropolymers with improved characteristics |
US6625366B2 (en) | 2001-02-20 | 2003-09-23 | Ramot At Tel-Aviv University Ltd. | Polymer on substrate waveguide structure and corresponding production method |
US7265174B2 (en) | 2001-03-22 | 2007-09-04 | Clemson University | Halogen containing-polymer nanocomposite compositions, methods, and products employing such compositions |
US6953653B2 (en) | 2001-08-30 | 2005-10-11 | Clemson University | Fluoropolymer compositions, optical devices, and methods for fabricating optical devices |
US6740474B2 (en) * | 2001-11-06 | 2004-05-25 | Eastman Kodak Company | Technique for making deep microstructures in photoresist |
EP1372005A3 (de) * | 2002-06-07 | 2004-11-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Integrierte optische Schaltung und Verfahren zu seiner Herstellung |
US7218812B2 (en) * | 2003-10-27 | 2007-05-15 | Rpo Pty Limited | Planar waveguide with patterned cladding and method for producing the same |
JP4468843B2 (ja) * | 2005-03-09 | 2010-05-26 | 日東電工株式会社 | 光導波路の製造方法 |
US8529993B2 (en) * | 2006-05-01 | 2013-09-10 | Zetta Research andDevelopment LLC—RPO Series | Low volatility polymers for two-stage deposition processes |
DE102008013073B4 (de) * | 2008-03-06 | 2011-02-03 | Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines Folienelements und Folienelement |
KR100972894B1 (ko) * | 2008-05-26 | 2010-07-28 | 주식회사 두산 | 광회로기판의 제조방법 |
US8173045B2 (en) | 2008-05-28 | 2012-05-08 | University Of Washington | Diels-Alder crosslinkable dendritic nonlinear optic chromophores and polymer composites |
KR101211757B1 (ko) | 2011-12-29 | 2012-12-12 | 성균관대학교산학협력단 | Spp 신호 스위치 소자 |
TW201602666A (zh) * | 2014-07-03 | 2016-01-16 | 道康寧公司 | 製備物件之方法及由彼所製備之相關物件 |
CN104505471B (zh) * | 2014-12-22 | 2017-12-29 | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 | 一种高开口率掩膜板的制备方法及掩膜板 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2131450B2 (de) * | 1971-06-24 | 1973-09-13 | Siemens Ag, 1000 Berlin U. 8000 Muenchen | Verfahren zur Herstellung passiver, integrierter, optischer Bauelemente |
DE2658400A1 (de) * | 1976-12-23 | 1978-06-29 | Ibm Deutschland | Verfahren zur herstellung einer negativen maske auf einem substrat |
US4609252A (en) * | 1979-04-02 | 1986-09-02 | Hughes Aircraft Company | Organic optical waveguide device and method of making |
GB2170923A (en) * | 1985-02-07 | 1986-08-13 | Tektronix Inc | Optical waveguide structures and their fabrication |
JPS61236506A (ja) * | 1985-04-12 | 1986-10-21 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 高分子導光路の製造方法 |
US4783136A (en) * | 1986-04-16 | 1988-11-08 | Gte Laboratories Incorporated | Optical waveguides and methods for making same |
CA1294470C (en) * | 1986-07-26 | 1992-01-21 | Toshihiro Suzuki | Process for the production of optical elements |
JPS63223712A (ja) * | 1987-03-13 | 1988-09-19 | Hitachi Ltd | 光導波路およびその製造方法 |
GB2205767B (en) * | 1987-06-18 | 1991-04-17 | Gen Electric Plc | Organic-optical waveguides. |
JPS63316805A (ja) * | 1987-06-19 | 1988-12-26 | Matsushita Electric Works Ltd | 光回路板の製法 |
KR920005445B1 (ko) * | 1989-08-10 | 1992-07-04 | 한국과학기술원 | 광도파로 제작방법 및 구조 |
DE69013165T2 (de) * | 1989-12-26 | 1995-02-16 | Allied Signal Inc | Verfahren zur herstellung von optisch aktiven wellenleitern. |
US5054872A (en) * | 1990-03-16 | 1991-10-08 | Ibm Corporation | Polymeric optical waveguides and methods of forming the same |
JPH04107403A (ja) * | 1990-08-28 | 1992-04-08 | Brother Ind Ltd | 光導波路アレイ及びその製造方法 |
JPH05273426A (ja) * | 1991-12-06 | 1993-10-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光導波膜の作製方法およびこれを用いた光導波路の作製方法 |
DE4206328A1 (de) * | 1992-02-29 | 1993-09-02 | Sel Alcatel Ag | Verfahren zur herstellung optoelektronischer bauelemente |
US5317082A (en) * | 1992-12-22 | 1994-05-31 | Amoco Corporation | Photodefinable optical waveguides |
EP0616234B1 (de) * | 1993-03-18 | 1999-06-02 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Herstellungsverfahren von optischen Wellenleitern aus Polyimid |
US5613995A (en) * | 1993-04-23 | 1997-03-25 | Lucent Technologies Inc. | Method for making planar optical waveguides |
JPH0792337A (ja) * | 1993-09-27 | 1995-04-07 | Hitachi Cable Ltd | ポリマコア光導波路およびその製造方法 |
EP0689094A1 (de) * | 1994-06-23 | 1995-12-27 | Akzo Nobel N.V. | Bleichmaske |
-
1997
- 1997-03-12 KR KR1019970008200A patent/KR100288742B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-03-04 JP JP10051193A patent/JP2968508B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-03-11 DE DE19810584A patent/DE19810584A1/de not_active Ceased
- 1998-03-11 RU RU98104449/28A patent/RU2151412C1/ru not_active IP Right Cessation
- 1998-03-11 GB GB9805128A patent/GB2323182B/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-03-12 FR FR9803051A patent/FR2760851A1/fr active Pending
- 1998-03-12 CN CN98105599A patent/CN1101001C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1998-03-12 US US09/038,960 patent/US6037105A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2760851A1 (fr) | 1998-09-18 |
KR100288742B1 (ko) | 2001-05-02 |
JPH10293224A (ja) | 1998-11-04 |
CN1194381A (zh) | 1998-09-30 |
US6037105A (en) | 2000-03-14 |
GB2323182B (en) | 1999-05-26 |
KR19980073082A (ko) | 1998-11-05 |
CN1101001C (zh) | 2003-02-05 |
RU2151412C1 (ru) | 2000-06-20 |
GB9805128D0 (en) | 1998-05-06 |
GB2323182A (en) | 1998-09-16 |
JP2968508B2 (ja) | 1999-10-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE19810584A1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer optischen Wellenleiter-Vorrichtung | |
DE69733880T2 (de) | Herstellungsverfahren für farbfilter | |
DE69425831T2 (de) | Organische optische komponenten und herstellung davon | |
EP0002795B1 (de) | Verfahren zum Erzeugen von Masken für lithographische Prozesse unter Verwendung von Photolack | |
DE69527260T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines polymeren optischen Wellenleiters | |
DE602005005268T2 (de) | Herstellungsverfahren für einen filmartigen optischen Wellenleiter | |
DE602005004675T2 (de) | Optischer Wellenleiter und Herstellungsmethode | |
DE69032277T2 (de) | Optisches Nahfeld-Verfahren für Mikrolithographie und Mikrolithographie-Vorrichtungen unter Verwendung desselben | |
DE602006001008T2 (de) | Herstellungsverfahren für einen optischen Wellenleiter | |
EP0307874A2 (de) | Verfahren zum Erzeugen einer Kennzeichnung und/oder Markierung auf einer Brillenlinse | |
DE69032140T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Beugungsgitters für optische Elemente | |
DE2522548C3 (de) | Verfahren zum Erzeugen eines Oberflächen-Reliefmusters | |
EP0559040A1 (de) | Verfahren zur Herstellung optoelektronischer Bauelemente | |
DE69933651T2 (de) | Herstellung von diffraktionsgittern für optisches signal vorrichtungen und diese enthaltende optische signal vorrichtungen | |
DE10219122B4 (de) | Verfahren zur Herstellung von Hartmasken | |
DE19537716C2 (de) | Verfahren zur Erzeugung von Photoresistmustern | |
DE2614871A1 (de) | Verfahren zur herstellung von lichtleiterstrukturen mit dazwischenliegenden elektroden | |
DE69119931T2 (de) | Polarisatoren, Verfahren zu ihrer Herstellung und Flüssigkristall-Anzeigevorrichtungen | |
DE102016125771A1 (de) | Herstellung von Luftspaltbereichen in Mehrkomponenten-Linsensystemen | |
DE3011166A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer optischen wellenleiteranordnung | |
DE2322012A1 (de) | Verfahren zur herstellung dielektrischer wellenleitervorrichtungen | |
EP0551118A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von nicht linearen optischen Mikro-Bauelementen | |
DE19712297A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von lichtführenden Strukturen | |
DE60118474T2 (de) | Optisches Element und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE2931293C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Flüssigkristallanzeige |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8131 | Rejection |