DE19757706A1 - Vorrichtung und Verfahren zur schnellen Auswertung von Bindungsreaktionen in strukturierten interferometrischen Mikrotiterplatten - Google Patents
Vorrichtung und Verfahren zur schnellen Auswertung von Bindungsreaktionen in strukturierten interferometrischen MikrotiterplattenInfo
- Publication number
- DE19757706A1 DE19757706A1 DE19757706A DE19757706A DE19757706A1 DE 19757706 A1 DE19757706 A1 DE 19757706A1 DE 19757706 A DE19757706 A DE 19757706A DE 19757706 A DE19757706 A DE 19757706A DE 19757706 A1 DE19757706 A1 DE 19757706A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- carrier substrate
- substrate according
- carrier
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
- B01L3/00—Containers or dishes for laboratory use, e.g. laboratory glassware; Droppers
- B01L3/50—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes
- B01L3/508—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes rigid containers not provided for above
- B01L3/5085—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes rigid containers not provided for above for multiple samples, e.g. microtitration plates
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/75—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated
- G01N21/77—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated by observing the effect on a chemical indicator
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/48—Biological material, e.g. blood, urine; Haemocytometers
- G01N33/50—Chemical analysis of biological material, e.g. blood, urine; Testing involving biospecific ligand binding methods; Immunological testing
- G01N33/53—Immunoassay; Biospecific binding assay; Materials therefor
- G01N33/543—Immunoassay; Biospecific binding assay; Materials therefor with an insoluble carrier for immobilising immunochemicals
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Hematology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Pathology (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Urology & Nephrology (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Biotechnology (AREA)
- Cell Biology (AREA)
- Microbiology (AREA)
- Clinical Laboratory Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung und
ein Verfahren zur schnellen Auswertung von Bindungsreak
tionen in strukturierten interferometrischen Mikrotiter
platten, insbesondere eine Vorrichtung und ein Verfahren
zum Bestimmen der Änderung der optischen Dicke einer
Schicht mittels Lichtinterferenz.
Eine Reihe von immunologischen Tests setzt voraus, daß
entweder das Antigen oder der Antikörper an eine Fest
körperoberfläche gekoppelt werden. Dazu werden Festkör
perträger wie Latexkugeln, Plastikröhrchen etc. verwen
det. Der bei weitem erfolgreichste und am weitesten
verbreitete Träger ist allerdings die Mikrotiterplatte.
Techniken wie der ELISA- (enzyme-linked immunosorbent
assay) Test oder radiologische Immun-Tests werden stan
dardmäßig in wegwerfbaren Mikrotiterplatten durchge
führt. Mikrotiterplatten sind Plastiktabletts aus
transparenten Kunststoffen (Polystyrol, Polypropylene
etc.) mit einer Anzahl (typischerweise 96) kleiner Reak
tionstöpfchen. Proteine, wie beispielsweise Antikörper,
können in den hydrophoben Behältern durch Physisorption
gebundenen werden. Die Zugabe der zu testenden Lösungen
und die folgenden Waschzyklen werden häufig durch auto
matisierte Pippettierautomaten ausgeführt. Auch das
Auslesen der Platten kann automatisiert werden. Für
ELISA-Tests wird dabei die Farbreaktion anhand der opti
schen Absorption der Lösung gemessen, bei radiologischen
Tests die Menge radioaktiv markierter Substanzen. Al
lerdings sind für diese Art Tests erstens Fluoreszenz-
oder radioaktive Markierungen notwendig und zweitens
insbesondere ELISA-Tests nicht immer quantitativ, d. h.
weisen lediglich das Vorhandensein, nicht aber die exak
te Menge einer Substanz nach.
Im Gegensatz dazu stehen Biosensoren, welche exakte Wer
te, beispielsweise der optischen Schichtdicke eines Ad
sorbates oder der Massenbelegung einer Oberfläche lie
fern. Biosensoren sind reversibel und kontinuierlich
arbeitende Meßaufnehmer zum Nachweis von Proteinen, Nu
kleinsäuren oder Polyzuckern. Solche hochempfindlichen
Meßwandler spielen dann eine große Rolle, wenn außer dem
Vorhandensein eines Liganden auch noch dessen Konzentra
tion bestimmt werden soll. Quantitative Meßaufnehmer
können insbesondere dazu dienen, die Bindungskonstante
eines Liganden zu bestimmen. Neben der Entwicklung ge
eigneter Substrate und chemischer Ankopplungsverfahren
ist die Automatisierung der quantitativen Bestimmung der
Rezeptor-Ligand Bindung nach wie vor zu optimieren.
Zu den bekanntesten quantitativen Oberflächentechniken,
welche optische Schichtdicken bestimmen, gehören die
Oberflächen-Plasmonen-Resonanz (Liedberg, et al. 1983;
Surface Plasmon Resonance for Gas Detection and Biosen
sing, Sensors and Actuators, 4: 299-304), die reflektome
trische Interferenz-Spektroskopie (Brecht et al. 1993;
Interferometric immunoasay in a FIA-system: a sensitive
and rapid approach in lable-free immunosensing. Biosen
sors & Bioelectronics. 8: 387-392), sowie Quarzwaagen.
Die ersten beiden Techniken messen optische Schichtdic
ken mit einer Auflösung im Ångström-Bereich, während die
Quarzwaage Massenbelegungen mit einer Nachweisgrenze im
µg-Bereich mißt.
In Rädler, et al. 1993, Imaging optical thicknesses and
separation distances of phospholipid vesicles at solid
surfaces, J. Physics II France 3: 727-748, wird gezeigt,
daß die Reflexions-interferenz-Contrast-Mikroskopie
(RICM) für einfache Schichtsysteme quantitativ auswert
bare Interferenzintensitäten abbildet. Es werden insbe
sondere planare Systeme von aufgedampften Magnesiumflu
orit mit adhärierenden Vesikeln, gespreiteten Membranen
oder durch Langmuir-Blodgett Technik übertragenen Lipid-
Monolagen abgebildet. Es wird gezeigt, daß die (bei
spielsweise in Fig. 1b dargestellte) Intensitätsänderung
bei Proteinadsoprtion an eine Interferenzschicht von
konstanter Dicke D (in diesem Fall 48 nm) meßbar bzw. mit
RICM auf eine CCD Kamera abbildbar ist. Bei der Messung
von Schichtdickenänderungen liefert eine planare Inter
ferenzschicht jedoch lediglich ein Signal, welches zahl
reichen Störungen unterworfen ist.
Demgegenüber liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde,
eine Vorrichtung, ein Verfahren und ein Verfahren zum
Herstellen der Vorrichtung bereitzustellen, welche(s)
erlaubt, die Änderung der optischen Dicke einer Schicht,
vorzugsweise einer Adsorbatschicht in Mikrotiterplatten
zu bestimmen. Diese Aufgabe wird mit den Merkmalen der
Ansprüche gelöst.
Bei der Lösung geht die Erfindung von dem Grundgedanken
aus, daß sich aufgrund von Variationen im Abstand von
Oberseite und Unterseite einer Schicht, beispielsweise
einer Adsorbatschicht, bei einer Bestrahlung mit Licht
variierende Interferenzmuster ergeben, wenn sich die op
tische Dicke der Schicht ändert. Dazu werden in oder auf
einen Träger einer biofunktionalisierten Mikrotiterplat
te mikrostrukturierte Interferenzschichten ein- bzw.
aufgebracht.
Die optische Reflexions-Interferenz der Platte wird ab
gebildet und mit Hilfe von Bildverarbeitung ausgewertet.
Dabei wird die mittlere quadratische Differenz der no
mierten Intensitäten der Interferenzmuster vor und nach
Adsorption zum Bestimmen der Änderung der optischen
Schichtdicke des Adsorbats genutzt. Die erfindungsgemäße
Vorrichtung/das erfindungsgemäße Verfahren basiert auf
optischer Interferenz, wobei die Dicke der interferenz
fähigen Beschichtung variiert. Diese wird durch opti
sche Abbildung aufgelöst und durch ein einfaches Bild
verarbeitungsverfahren ausgewertet.
Die Vorteile der Erfindung sind vielfältig:
- 1. Die nachzuweisenden Liganden müssen nicht vorbehan delt oder markiert werden.
- 2. Die Auswertung einer Platte mit einer großen Anzahl Tests ist in einem Schritt möglich und mit Hilfe eines schnellen Rechners in Sekunden zu bewerkstel ligen.
- 3. Die Bestimmung der Änderung der optischen Schicht dicke des Adsorbats aus der mittleren quadratischen Differenz der nomierten Intensitäten hat eine hohe Empfindlichkeit mit einer Schichtdickenauflösung von einem Ångström (1 Å).
- 4. Das Verfahren ist robust gegen äußere Schwankungen der Beleuchtungsintensität, als auch gegen Unregel mäßigkeiten in der genauen Mikrostrukturierung der Platte.
- 5. Da der beschriebene Mikrotitertest auf einem bild gebendem Verfahren beruht, können durch weitere in telligente Bildverarbeitung oder durch visuelle Kontrolle offensichtliche Störungen, wie das Aus fällen von Reagenzien oder die Anlagerung eines Staubkorns, leicht bemerkt werden.
- 6. Das bildgebende Verfahren läßt sich leicht mit Fluoreszenztechniken kombinieren.
Das Verfahren sollte daher Anwendung als interferometri
scher Immunoassay finden, wobei die Vorteile insbesonde
re in automatisierten Anlagen mit hohem Durchsatz von
Mikrotiterplatten zum Tragen kommen. Es wird daher im
folgenden auch erläutert, wie strukturierte Mikrotiter
platten kostengünstig auf Kunststoffbasis hergestellt
werden können.
Die Erfindung wird nachstehend mit Bezug auf die beige
fügten Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1a eine Darstellung einer integrierten Interferenz
schicht mit lateral variierender Schichtdicke D,
wobei die Adsorbatschicht δ Rezeptoren trägt und
eine optische Schichtdickenänderung Δδ gemessen
wird;
Fig. 1b eine Simulation der Reflektivität als Funktion
der ortsabhängigen Schichtdicke D der Interferenz
schicht; die Kurven entsprechen Adsorbatschichtdic
ken von δ = 10, 20 und 30 Å;
Fig. 1c eine Darstellung der mittleren quadratischen
Differenz der normierten Intensitäten S als Funkti
on der optischen Schichtdickenänderung Δδ;
Fig. 2a eine Darstellung einer Mikrotiterplatte mit 12
Reaktionstöpfchen;
Fig. 2b eine in jedes Töpfchen integrierte (und mit dem
Kunststoff 2 aufgefüllte) interferierende Vertie
fung;
Fig. 2c eine Darstellung eines Interferenzmusters einer
Vertiefung, wie es in der abbildenden Reflexions-
Interferenz-Mikroskopie sichtbar wird;
Fig. 3 einen Aufbau zur optischen Abbildung der Reflek
tivität der Mikrotiterplatte mittels Reflexions-
Interferenz-Kontrast-Mikroskopie; und
Fig. 4 einen Aufbau zur optischen Abbildung der Reflek
tivität der Mikrotiterplatte mittels Laser-Abtastung.
Die Grundlage des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht
darin, eine biofunktionalisierte Schicht unmittelbar auf
ein interferenzfähiges Substrat auf zutragen. Im einfach
sten Fall wird auf einen Abschnitt eines Trägers 1 (z. B.
Glas oder Kunststoff) mit Brechungsindex n1 (beispiels
weise n1=1,5) eine erste dünne (vorzugsweise heterogene)
Schicht 2 mit einem zu n1 unterschiedlichem Brechungsin
dex n2 aufgetragen (siehe Fig. 1a), mit n2 vorzugsweise
im Bereich von 1,3 bis 1,4. Diese erste Schicht ist mit
einer biokompatiblen Adsorbatschicht 3 mit Berechnungs
index n3, vorzugsweise einer Polymerschicht versehen,
welche Antikörper oder Rezeptoren enthält. Die optische
Schichtdicke δ dieser biokompatiblen Schicht 3 nimmt bei
der Bindung von Liganden 4 aus einer wäßrigen Lösung 17
mit Berechnungsindex n4 zu. Zur Detektion der Schicht
dickenzunahme wird das Substrat von unten, d. h. von der
der biofunktionalisierten Schicht 3 abgewandten Seite,
mit vorzugsweise monochromatischem Licht beleuchtet und
das entstehende Interferenzmuster auf eine Kamera abge
bildet. Die Intensität des reflektierten Lichts be
stimmt sich aus der Überlagerung aller reflektierter
Teilstrahlen (siehe: Azzam, R. et al. 1975; Ellipsome
trie and polarized light, Amsterdam, North Holland).
Dabei geht sowohl die Dicke D der Interferenzschicht 2,
als auch die Dicke δ des Adsorbatfilms 3 ein. Zur ge
nauen Bestimmung einer Schichtdickenänderung Δδ wird nun
ausgenutzt, daß die Dicke D der Interferenzschicht 2 la
teral variiert, so daß eine Vielzahl von Interferenz-
Maxima und -Minima entsteht.
Fig. 1a zeigt eine erste Ausführungsform. Darin ist bei
spielsweise eine dreiecksförmige Vertiefung und damit
eine lineare Veränderung der Dicke D entsprechend dem
schrägen Verlauf der Dreiecksflächen vom Ort darge
stellt. Das Verhältnis der entsprechenden Interferenzin
tensitäten Irefl/I0 ist in Fig. 1b gezeigt. Hier ist zu
erkennen, daß sich die Lage der Maxima mit einer Zunahme
der Dicke δ der Adsorbatschicht verschiebt. Die Inter
ferenzbilder werden nun auf eine Weise verarbeitet, daß
die Schichtdickenänderung Δδ lediglich aus der mittleren
quadratischen Phasenverschiebung bestimmt wird. Dies
entspricht der Verschiebung der in Fig. 1b dargestellten
Reflektivitätskurven. Durch diese Verarbeitung wird die
Bestimmung der Dickenänderung der Adsorbatschicht 3 un
abhängig sowohl von Schwankungen des einfallenden
Lichts, als auch von der genauen Form und Güte der mi
krostrukturierten Interferenzschicht. Zur Auswertung
werden vorzugsweise eine Anzahl von Maxima und gleich
vielen Minima verwendet.
Der Darstellung in Fig. 1b liegen folgende Brechungsin
dizes zugrunde: Träger 1 = Glas, n1 = 1,51; erste
Schicht 2 = Interferenzschicht, n2 = 1,38; zweite
Schicht 3 = Adsorbat (Protein), n3 = 1,55; wäßrige Lö
sung 17, n4 = 1,33.
In einer weiteren Ausführungsform wird auf dem Träger 1
nur die erste Schicht 2 aufgebracht, so daß eine Anlage
rung an die Schicht 2 stattfindet.
Als weitere Ausführungsform weist die erste Schicht 2
bzw. zweite Schicht 3 nicht die Rezeptoren auf, an die
sich Liganden binden, sondern umgekehrt die Liganden, an
die sich die Rezeptoren binden. Es wird hierbei die
wechselseitige Bindungswirkung von Rezeptoren und Ligan
den genutzt.
In einer weiteren Ausführungsform wird anstelle eines
Trägers mit Ausnehmungen ein ebener bzw. glatter Träger
verwendet, auf den die Schicht 2 derart aufgebracht
wird, daß der Abstand zwischen Ober- und Unterseite va
riiert. Auf diese Weise wird in dieser Ausführungsform
erreicht, daß die Dicke D der Schicht 2 variiert. Vor
zugsweise wird die Schicht 2 in Form von Tropfen oder
Tröpfchen aufgebracht (beispielsweise aufgespritzt oder
mit einer Pipette aufgetragen). Diese läßt man eintrock
nen oder polymerisieren. Alternativ wird eine ebene
Schicht 2 aufgetragen, der anschließend eine Struktur
aufgedruckt wird.
Für die zweite Schicht 3 wird vorzugsweise ein quellfä
higes Material verwendet, das im trockenen Zustand eine
Dicke von etwa 5 bis 200 Å, vorzugsweise etwa 10 bis 20
Å hat, während sie im gequollenen Zustand Dicken zwi
schen 10 und 100000 Å, vorzugsweise 10000 Å aufweist. In
diesem gequollenen Zustand weist diese Schicht vorzugs
weise einen Brechungsindex n3 von 1,31 auf.
Die zu bestimmende Änderung der optischen Dicke der
Schicht kann beispielsweise auf folgende Arten erfolgen.
Zum einen ändert sich aufgrund von Anlagerungen die phy
sikalische Dicke und somit auch die optische Dicke der
Schicht, zum anderen kann eine Änderung der optischen
Dicke auf einer Änderung des Brechungsindexes beruhen,
die sich aufgrund von Einlagerungen in die Schicht er
gibt.
Es wird jeweils ein Interferenzbild vor und nach (bzw.
während) der Zugabe des Liganden aufgenommen und folgen
de Operationen über der Fläche des Interferenzmusters
ausgeführt. (Im Falle eines Vielfachtest, wie der wei
ter unten gezeigten Mikrotiterplatte, werden diese Ope
rationen natürlich für jede Bindungsfläche getrennt
durchgeführt.) Zunächst werden die Intensitäten nor
miert:
Wobei die << die Mittelung über alle N×M Bildpunkte be
deutet. Dann wird die Differenz der normierten Intensi
täten IV,N der Bilder vor und nach der Bindung gebildet
und quadratisch gemittelt:
wobei die Mittelung über alle N×M Bildpunkte eines Bild
ausschnitts durchgeführt wird, welcher vorzugsweise
gleich groß oder aber kleiner als das Interferenzmuster
am Boden eines Mikrotiter-Töpfchens ist. Vorzugsweise
wird über eine quadratische Fläche gemittelt. S wird
bezeichnet als die "mittlere quadratische Differenz der
normierten Intensitäten" zweier Interferenzmuster (Iv,
IN vor bzw. nach der Adsorption. Für den auf diese
Weise erhaltenen Wert S gilt:
wobei λ die verwendete Lichtwellenlänge bezeichnet und
ni die jeweiligen Brechungsindizes, wie oben definiert.
Gleichung (3) wird in vielen praktischen Fällen, in de
nen die Adsorbatschicht klein gegenüber λ/4 ist genügen,
um die optische Schichtdickenzunahme Δδ aus dem gemes
senen Wert für S direkt zu bestimmen. Die jeweilige Ge
nauigkeit der Gleichung (3) läßt sich durch Vergleich
mit den numerischen Werten für gegebene Brechungsindizes
und Schichtdicken δ bestimmen. Somit ist für kleine
Schichtdickenänderungen S proportional zur Schichtdic
kenänderung Δδ. Die exakte Beziehung kann numerisch be
stimmt und tabellarisch abgelegt werden. Für den Grenz
fall, daß die Adsorbatschicht vor der Adsorption exakt
Null ist, läßt sich obige Beziehung (3) unter Vernach
lässigung von Vielfachreflexion herleiten. Fig. 1c
zeigt die Größe S einer simulierten Probe, welche nach
Gleichung (1) und (2) berechnet wurde als Funktion der
Schichtdickenänderung Δδ. Dabei wurde angenommen, daß
die Adsorbatschicht δ homogen, also nicht vom Ort abhän
gig ist.
Optisch hochwertige, lateral strukturierte Interferenz
schichten können durch standardmäßiges Aufdampfen die
lektrischer Schichten auf Glas hergestellt werden. Die
Strukturierung würde in diesem Fall durch Masken, welche
zwischen den einzelnen Aufdampfzyklen entweder verscho
ben oder ausgetauscht werden, erfolgen.
Erfindungsgemäß werden gemäß der ersten Ausführungsform
Plastikplatten bzw. die Trägersubstanz strukturiert.
Dies ist einfach und kostengünstig. Ein optisch niedrig
oder nicht-doppelbrechendes Polymer (Polycarbonat, zy
klische Olefine) kann beispielsweise im Spritzgußverfah
ren auf eine Mikrotiterplattenform gebracht werden (Fig.
2a) . Diese besteht aus einer Anordnung kleiner Pla
stiktöpfchen mit flachem Boden. In einem zweiten
Schritt wird mit Hilfe eines Stempels in jedem Töpfchen
eine Vertiefung 5 von einigen wenigen Mikrometern Tiefe
gepreßt (Fig. 2b) . Beispielsweise ist die Vertiefung
zwischen 5 und 2000 Nanometer tief. Für die exakte Form
der Vertiefung 5 sind mehrere Möglichkeiten denkbar.
Beispielsweise monoton ansteigende, vorzugsweise stetige
Formen, wie konkave, konvexe, konische oder dachförmige
Vertiefungen stellen einfache Lösungen dar. Im letzten
Schritt wird ein zweites Polymer (Schicht 2) mit unter
schiedlichem Brechungsindex im Gießverfahren aus der Lö
sung auf die Vertiefung 5 aufgetragen, kann aber - wie
in Fig. 1a gezeigt - über die Vertiefung 5 hinaus ver
laufen. Da der Durchmesser des Stempels konstant ist,
läßt sich durch Auftragen einer definierten Menge Lö
sungsmittel die Schichtdicke D sehr reproduzierbar her
stellen. Der zweite Kunststoff 2 soll in einem Lösungs
mittel lösbar sein, welches den Kunststoff 1 nicht an
greift. Durch Eintrocknen der Schicht 2 kann sich an der
Oberfläche ein Meniskus ausbilden.
Die Reflektivität der Mikrotiterplatte kann mit Hilfe
von Reflexions-Mikroskopie unter Auflichtbeleuchtung ab
gebildet werden (siehe Fig. 3). Wird mit Hilfe eines
schmalbandigen Interferenzfilters monochromatisches
Licht erzeugt, werden die Interferenzen in den oben be
schriebenen lateral strukturierten Vertiefungen 5 sicht
bar. In der Praxis läßt sich weiterhin das Verhältnis
von Interferenzsignal zu Hintergrundhelligkeit verbes
sern, indem die Antiflex-Technik nach Pluta (Pluta, M;
Advanced Light Microscopy, Elsevier, Amsterdam 1989) be
nutzt wird. Fig. 3 zeigt den Strahlengang eines solchen
Reflexions-Interferenz-Kontrast-Mikroskops nach Pluta.
Wird die Probenkammer durch Immersionsöl direkt auf die
λ/4-Platte 7 aufgebracht, so ist die erste reflektieren
de Grenzfläche die Glas-Magnesiumfluorid 2 Grenzschicht
(Fig. 1a).
Fig. 3 zeigt einen Aufbau zur optischen Abbildung der
Reflektivität der Mikrotiterplatte mittels Reflexions-
Interferenz-Kontrast-Mikroskopie. Der Träger 1 mit der
eingebrachten Interferenzschicht 2 wird über einer λ/4-
Platte 7 (optional) angeordnet. Dazwischen befindet sich
ein Medium 6 mit gleichem Brechungsindex wie der Träger
1 und die λ/4-Platte 7 zur reflexionsfreien Ankopplung.
Dieses Medium ist vorzugsweise ein Immersionsöl oder Si
likon. Das von einer Quecksilberdampflampe 14 ausge
strahlte Licht wird über ein Bandpass-Filter 13, das mo
nochromatisches Licht erzeugt, über einen Polarisator 12
(optional), einen halbdurchlässigen Spiegel 9 und ein
Objektiv 8 auf die zu messende Schicht gerichtet. Das
reflektierte Licht durchdringt den halbdurchlässigen
Spiegel 9 und gelangt über einen Analysator 10 (optio
nal) zu einer Kamera 11. Diese kann eine CCD-Kamera
sein.
Ein zweites mögliches Ausleseverfahren (Auslesevorrich
tung) besteht in der Abtastung der Mikrotiterplatte mit
einem Laser bzw. einer Laserdiode. Das reflektierte
Licht wird mit einem eindimensionalen Detektor aufgenom
men. Wird die Platte abgerastert, entsteht wiederum ein
Interferenzsignal, wie in Fig. 1b dargestellt, und die
Auswertung erfolgt analog zur abbildenden Reflexions-
Interferenz.
Fig. 4 zeigt eine Ausführungsform mit Laserabtastung.
Eine Abtastung der Mikrotiterplatte mit einem Laser 19
ist vorteilhaft in Anwendungen, bei denen die Geschwin
digkeit des Ausleseprozeßes kritisch ist. In dieser Aus
führungsform wird auf abbildende Optik verzichtet und
die Mikrotiterplatte von einem Laserstrahl abgetastet,
wobei die Intensität des reflektierten Strahls gemessen
wird. In Fig. 4 wird der Laserstrahl durch einen drehba
ren Spiegel 20 so umgelenkt, daß er die Probe über
streicht und auf einen eindimensionalen Detektor 21
(vorzugsweise CCD) reflektiert wird. Die Vertiefungen
der Mikrotiterplatte in dieser Ausführung der Abtastung
sind vorzugsweise dach- oder keilförmige Vertiefungen,
also lediglich in einer, der Abtastrichtung entsprechen
den, Richtung variiert. Die Mittelungen nach Formel (1)
und (2) entsprechen in diesem Fall der Mittelung entlang
einer Linie. Bezugszeichen 18 bezeichnet einen Glasblock
mit Antireflexbeschichtung.
Claims (53)
1. Trägersubstrat zum Bestimmen der Änderung der opti
schen Dicke einer Schicht mittels Lichtinterferenz
mit
einem Träger (1) und
einer auf mindestens einem Abschnitt des Trägers (1) angeordneten ersten Schicht (2), die in mindestens einem Abschnitt eine sich ändernde Dicke aufweist.
einem Träger (1) und
einer auf mindestens einem Abschnitt des Trägers (1) angeordneten ersten Schicht (2), die in mindestens einem Abschnitt eine sich ändernde Dicke aufweist.
2. Trägersubstrat nach Anspruch 1, wobei die Variation
der Dicke monoton ist.
3. Trägersubstrat nach Anspruch 1 oder 2, wobei die
Dicke linear oder nicht-linear variiert.
4. Trägersubstrat nach Anspruch 2 oder 3, wobei die
Oberseite und/oder Unterseite eines Abschnitts der
ersten Schicht (2) eine konvexe oder konkave oder
konische oder dachförmige Form aufweist.
5. Trägersubstrat nach Anspruch 1, wobei der Träger
(1) mindestens eine Ausnehmung (16) aufweist.
6. Trägersubstrat nach Anspruch 1 oder 5, wobei der
Träger, vorzugsweise im Bereich der Ausnehmung (16)
mindestens eine Vertiefung (5) aufweist.
7. Trägersubstrat nach Anspruch 6, wobei die erste
Schicht (2) die Vertiefung (5) mindestens teilweise
ausfüllt.
8. Trägersubstrat nach Anspruch 6 oder 7, wobei die
Vertiefung (5) eine monotone Wandung aufweist.
9. Trägersubstrat nach Anspruch 8, wobei die Wandung
eine lineare oder nicht-lineare Form aufweist.
10. Trägersubstrat nach Anspruch 8 oder 9, wobei die
Wandung eine konvexe oder konkave oder konische oder
dachförmige Form aufweist.
11. Trägersubstrat nach einem der Ansprüche 1 bis 10,
wobei die erste Schicht (1) heterogen ist.
12. Trägersubstrat nach einem der Ansprüche 1 bis 11,
wobei die erste Schicht (2) einen Brechungsindex n2
aufweist, der von dem Brechungsindex n1 des Trägers
(1) verschieden ist.
13. Trägersubstrat nach Anspruch 12, wobei n2 kleiner
als n1 ist.
14. Trägersubstrat nach einem der Ansprüche 1 bis 13,
ferner mit mindestens einer zweiten Schicht (3), die
auf der von dem Träger (1) abgewandten Seite der er
sten Schicht (2) angeordnet ist.
15. Trägersubstrat nach Anspruch 14, wobei die zweite
Schicht (3) eine bindende Eigenschaft für einen
Stoff aufweist.
16. Trägersubstrat nach einem der Ansprüche 1 bis 15,
wobei die erste Schicht (2) eine bindende Eigen
schaft für einen Stoff aufweist.
17. Trägersubstrat nach Anspruch 15 oder 16, wobei die
bindende Eigenschaft eine Bindungswirkung zwischen
Rezeptor und Ligand ist.
18. Trägersubstrat nach einem der Ansprüche 1 bis 17,
wobei die Änderung der optischen Dicke durch eine
Änderung der physikalischen Dicke der zweiten
Schicht erfolgt.
19. Trägersubstrat nach einem der Ansprüche 1 bis 18,
wobei die Änderung der optischen Dicke durch eine
Änderung des Brechungsindexes der zweiten Schicht
erfolgt.
20. Trägersubstrat nach einem der Ansprüche 14 bis 19,
wobei die zweite Schicht (3) einen zu n2 unter
schiedlichen Brechungsindex n3 aufweist, wobei vor
zugsweise n2 kleiner als n3 ist.
21. Trägersubstrat nach einem der Ansprüche 14 bis 20,
wobei die zweite Schicht (3) eine quellfähige
Schicht ist.
22. Trägersubstrat nach einem der Ansprüche 14 bis 21,
wobei die zweite Schicht (3) im trockenen Zustand
eine Dicke von 5 bis 200 Å aufweist.
23. Trägersubstrat nach einem der Ansprüche 14 bis 22,
wobei die zweite Schicht (3) im gequollenen Zustand
eine Dicke von 10 bis 100000 Å aufweist.
24. Trägersubstrat nach einem der Ansprüche 6 bis 10,
wobei die Vertiefung (5) zwischen 1 und 10000 Nano
meter tief ist.
25. Trägersubstrat nach Anspruch 24, wobei die Vertie
fung (5) zwischen 5 und 2000 Nanometer tief ist.
26. Trägersubstrat nach Anspruch 25, wobei die Vertie
fung (5) 600 Nanometer tief ist.
27. Trägersubstrat nach einem der Ansprüche 5 bis 10,
wobei die Vertiefung (5) eine Tiefe entsprechend ei
nem ganzzahligen Vielfachen der halben Lichtwellen
länge in der ersten Schicht (2) aufweist.
28. Sensor zum Bestimmen der Änderung der optischen Dic
ke einer Schicht mittels Lichtinterferenz mit einem
Trägersubstrat nach einem der Ansprüche 1 bis 27.
29. Vorrichtung zum Bestimmen der Änderung der optischen
Dicke einer Schicht mittels Lichtinterferenz mit ei
nem Trägersubstrat nach einem der Ansprüche 1 bis 27
und einer Lichtquelle (14), einem halbdurchlässigem
Spiegel (9), einem Objektiv (8) und einer Kamera.
30. Vorrichtung nach Anspruch 29, ferner mit einem Pola
risator (12).
31. Vorrichtung nach Anspruch 29 oder 30, ferner mit ei
nem Analysator (10).
32. Vorrichtung nach Anspruch 29, 30 oder 31, ferner mit
einer λ/4-Platte (7).
33. Verfahren zum Bestimmen der Änderung der optischen
Dicke einer Schicht mittels Lichtinterferenz, ge
kennzeichnet durch die Schritte:
- a) Bereitstellen eines Trägersubstrates mit einem Träger (1) und einer ersten Schicht (2), wobei die Dicke eines Abschnitts der ersten Schicht (2) vari iert,
- b) Abbilden der Reflexions-Interferenz des Träger substrates zum Ermitteln eines Referenzwertes,
- c) Bindung eines Stoffes an die erste Schicht (2),
- d) Abbilden der Reflexions-Interferenz des Träger substrates zum Ermitteln eines Meßwertes,
- e) Normieren der abgebildeten Intensitäten gemäß
- f) Bestimmen der mittleren quadratischen Intensi tätsdifferenz der normierten Bilder, und
- g) Bestimmen der optischen Schichtdickenzunahme aus dem in Schritt e) ermittelten Wert.
34. Verfahren zum Bestimmen der Änderung der optischen
Dicke einer Schicht mittels Lichtinterferenz, ge
kennzeichnet durch die Schritte:
- a) Bereitstellen eines Trägersubstrates mit einem Träger (1), einer ersten Schicht (2), wobei die Dic ke eines Abschnitts der ersten Schicht (2) variiert, und einer auf der von dem Träger (1) abgewandten Seite der ersten Schicht (2) angeordneten zweiten Schicht (3),
- b) Abbilden der Reflexions-Interferenz des Träger substrates zum Ermitteln eines Referenzwertes,
- c) Bindung eines Stoffes an die zweite Schicht (3),
- d) Abbilden der Reflexions-Interferenz des Träger substrates zum Ermitteln eines Meßwertes,
- e) Normieren der abgebildeten Intensitäten gemäß
- f) Bestimmen der mittleren quadratischen Intensi tätsdifferenz der normierten Bilder, und
- g) Bestimmen der optischen Schichtdickenzunahme aus dem in Schritt e) ermittelten Wert.
35. Verfahren nach Anspruch 33 oder 34, wobei die Pha
senverschiebung aus der mittleren quadratischen Dif
ferenz der normierten Intensitäten der Interferenz
bilder vor und nach der Zugabe der Schicht bestimmt
wird.
36. Verfahren nach Anspruch 33, 34 oder 35, wobei die
Oberseite und/oder Oberseite eines Abschnitts der
ersten Schicht (2) eine konvexe oder konkave oder
konische oder dachförmige Form aufweist.
37. Verfahren nach einem der Ansprüche 33 bis 36, wobei
die zweite Schicht (3) biofunktional ist.
38. Verfahren nach einem der Ansprüche 33 bis 37, wobei
monochromatisches Licht verwendet wird.
39. Verfahren nach einem der Ansprüche 33 bis 38, wobei
die Interferenzmuster vor, während und nach der Zu
gabe des Stoffes bestimmt werden.
40. Verfahren zum Bestimmen der Änderung der optischen
Dicke einer Schicht mittels Lichtinterferenz, da
durch gekennzeichnet, daß der Träger der sensitiven
Oberfläche durch integrierte, lateral variierende
Interferenz schichten abbildbare Interferenzmuster
erzeugt.
41. Verfahren nach Anspruch 40, wobei die Bestimmung in
einem Trägersubstrat erfolgt, das aus zwei optisch
transparenten Kunststoffen mit unterschiedlichem
Brechungsindex hergestellt und mit gedruckten, auf
gespritzten, gepreßten oder gegossenen interferenz
fähigen Strukturen versehen ist.
42. Verfahren nach Anspruch 40 oder 41, wobei der struk
turierte Träger der sensitiven Oberfläche mittels
Reflexions-Interferenz-Kontrast-Mikroskopie abgebil
det wird.
43. Verfahren nach Anspruch 40 oder 41, wobei der struk
turierte Träger der sensitiven Oberfläche mittels
Laserlicht und Photodetektoren abgerastert wird.
44. Verfahren nach einem der Ansprüche 33 bis 43, wobei
zur Bestimmung der Änderung der optischen Dicke der
Schicht eine Bindungswirkung zwischen Rezeptor und
Ligand verwendet wird.
45. Verfahren zum Herstellen eines Trägersubstrates zum
Bestimmen der Änderung der optischen Dicke einer
Schicht mittels Lichtinterferenz, gekennzeichnet
durch die Schritte:
- a) Bereitstellen eines Trägers (1) und
- b) Aufbringen einer ersten Schicht (2) auf minde stens einen Abschnitt des Trägers (1), wobei die Dicke eines Abschnitts der ersten Schicht (2) vari iert.
46. Verfahren nach Anspruch 45, ferner mit dem Schritt:
- c) Aufbringen einer zweiten Schicht (3).
47. Verfahren nach Anspruch 45 oder 46, wobei die Varia
tion der Dicke monoton ist.
48. Verfahren nach Anspruch 45, 46 oder 47, wobei die
Dicke linear oder nicht-linear variiert.
49. Verfahren nach Anspruch 47 oder 48, wobei die Ober
seite und/oder Unterseite eines Abschnitts der er
sten Schicht (2) eine konvexe oder konkave oder ko
nische oder dachförmige Form aufweist.
50. Verfahren nach Anspruch 45 oder 46, ferner mit dem
Schritt:
Bereitstellen mindestens einer Ausnehmung (16) in dem Träger (1) und vorzugsweise
Bereitstellen einer Vertiefung (5) im Träger, vor zugsweise am Boden der Ausnehmung (16).
Bereitstellen mindestens einer Ausnehmung (16) in dem Träger (1) und vorzugsweise
Bereitstellen einer Vertiefung (5) im Träger, vor zugsweise am Boden der Ausnehmung (16).
51. Verfahren nach Anspruch 50, wobei die Vertiefung
(5) eine konvexe oder konkave oder konische oder
dachförmige Form aufweist.
52. Verfahren nach einem der Ansprüche 45 bis 51, wobei
die erste Schicht (1) heterogen ist.
53. Verwendung des Trägersubstrates nach einem der An
sprüche 1 bis 27 in dem Verfahren nach einem der An
sprüche 33 bis 44.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19757706A DE19757706C2 (de) | 1997-12-23 | 1997-12-23 | Substrat, Vorrichtung und Verfahren zur schnellen Auswertung von Bindungsreaktionen durch interferometrische Schichtdickenmessung |
AU22752/99A AU2275299A (en) | 1997-12-23 | 1998-12-21 | Device and method for rapid evaluation of bonding reactions in structured interferometric microtitre plates |
EP98966390A EP1129336A1 (de) | 1997-12-23 | 1998-12-21 | Vorrichtung und verfahren zur schnellen auswertung von bindungsreaktionen in strukturierten interferometrischen mikrotiterplatten |
PCT/EP1998/008390 WO1999034196A1 (de) | 1997-12-23 | 1998-12-21 | Vorrichtung und verfahren zur schnellen auswertung von bindungsreaktionen in strukturierten interferometrischen mikrotiterplatten |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19757706A DE19757706C2 (de) | 1997-12-23 | 1997-12-23 | Substrat, Vorrichtung und Verfahren zur schnellen Auswertung von Bindungsreaktionen durch interferometrische Schichtdickenmessung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19757706A1 true DE19757706A1 (de) | 1999-07-01 |
DE19757706C2 DE19757706C2 (de) | 2002-01-24 |
Family
ID=7853276
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19757706A Expired - Fee Related DE19757706C2 (de) | 1997-12-23 | 1997-12-23 | Substrat, Vorrichtung und Verfahren zur schnellen Auswertung von Bindungsreaktionen durch interferometrische Schichtdickenmessung |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1129336A1 (de) |
AU (1) | AU2275299A (de) |
DE (1) | DE19757706C2 (de) |
WO (1) | WO1999034196A1 (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111389473B (zh) * | 2020-03-25 | 2021-05-04 | 武汉大学 | 一种垂直沟道可调谐高通量声流控分选芯片及其制备方法 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0011723A1 (de) * | 1978-12-04 | 1980-06-11 | International Business Machines Corporation | Verfahren und Einrichtung zur interferometrischen Messung von sich ändernden Schichtdicken |
DE3103082A1 (de) * | 1980-02-08 | 1982-01-14 | RCA Corp., 10020 New York, N.Y. | "schichtdickenmonitor und verfahren zum messen oder ueberwachen der dicke eines duennschichtfilms" |
DE3509512A1 (de) * | 1985-03-16 | 1986-09-18 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 8000 München | Vorrichtung zur interferometrischen pruefung der optischen homogenitaet von transparenten plattenfoermigen werkstuecken |
US4824230A (en) * | 1985-12-13 | 1989-04-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Visualization device |
DE4013180A1 (de) * | 1989-04-25 | 1990-10-31 | Olympus Optical Co | Verfahren zum automatischen chemischen analysieren und reaktionsgeraet fuer die durchfuehrung des verfahrens |
DE3915920A1 (de) * | 1989-05-16 | 1990-11-22 | Messerschmitt Boelkow Blohm | Mikromechanische struktur |
US5129724A (en) * | 1991-01-29 | 1992-07-14 | Wyko Corporation | Apparatus and method for simultaneous measurement of film thickness and surface height variation for film-substrate sample |
DE4115414A1 (de) * | 1991-05-10 | 1992-11-12 | Meinhard Prof Dr Knoll | Verfahren zur herstellung von miniaturisierten chemo- und biosensorelementen mit ionenselektiver membran sowie von traegern fuer diese elemente |
DE4200088A1 (de) * | 1992-01-04 | 1993-07-15 | Nahm Werner | Verfahren und vorrichtung zum nachweis physikalisch-chemischer oder biochemischer wechselwirkungen |
FR2694809A1 (fr) * | 1992-08-11 | 1994-02-18 | Mikralgen | Dispositif réactionnel pour identifier un produit, et son procédé d'obtention. |
WO1996003615A1 (en) * | 1994-07-26 | 1996-02-08 | C.I. Systems (Israel) Ltd. | Film thickness mapping using interferometric spectral imaging |
US5555471A (en) * | 1995-05-24 | 1996-09-10 | Wyko Corporation | Method for measuring thin-film thickness and step height on the surface of thin-film/substrate test samples by phase-shifting interferometry |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5541057A (en) * | 1989-09-18 | 1996-07-30 | Biostar, Inc. | Methods for detection of an analyte |
-
1997
- 1997-12-23 DE DE19757706A patent/DE19757706C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-12-21 EP EP98966390A patent/EP1129336A1/de not_active Withdrawn
- 1998-12-21 AU AU22752/99A patent/AU2275299A/en not_active Abandoned
- 1998-12-21 WO PCT/EP1998/008390 patent/WO1999034196A1/de not_active Application Discontinuation
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0011723A1 (de) * | 1978-12-04 | 1980-06-11 | International Business Machines Corporation | Verfahren und Einrichtung zur interferometrischen Messung von sich ändernden Schichtdicken |
DE3103082A1 (de) * | 1980-02-08 | 1982-01-14 | RCA Corp., 10020 New York, N.Y. | "schichtdickenmonitor und verfahren zum messen oder ueberwachen der dicke eines duennschichtfilms" |
DE3509512A1 (de) * | 1985-03-16 | 1986-09-18 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 8000 München | Vorrichtung zur interferometrischen pruefung der optischen homogenitaet von transparenten plattenfoermigen werkstuecken |
US4824230A (en) * | 1985-12-13 | 1989-04-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Visualization device |
DE4013180A1 (de) * | 1989-04-25 | 1990-10-31 | Olympus Optical Co | Verfahren zum automatischen chemischen analysieren und reaktionsgeraet fuer die durchfuehrung des verfahrens |
DE3915920A1 (de) * | 1989-05-16 | 1990-11-22 | Messerschmitt Boelkow Blohm | Mikromechanische struktur |
US5129724A (en) * | 1991-01-29 | 1992-07-14 | Wyko Corporation | Apparatus and method for simultaneous measurement of film thickness and surface height variation for film-substrate sample |
DE4115414A1 (de) * | 1991-05-10 | 1992-11-12 | Meinhard Prof Dr Knoll | Verfahren zur herstellung von miniaturisierten chemo- und biosensorelementen mit ionenselektiver membran sowie von traegern fuer diese elemente |
DE4200088A1 (de) * | 1992-01-04 | 1993-07-15 | Nahm Werner | Verfahren und vorrichtung zum nachweis physikalisch-chemischer oder biochemischer wechselwirkungen |
FR2694809A1 (fr) * | 1992-08-11 | 1994-02-18 | Mikralgen | Dispositif réactionnel pour identifier un produit, et son procédé d'obtention. |
WO1996003615A1 (en) * | 1994-07-26 | 1996-02-08 | C.I. Systems (Israel) Ltd. | Film thickness mapping using interferometric spectral imaging |
US5555471A (en) * | 1995-05-24 | 1996-09-10 | Wyko Corporation | Method for measuring thin-film thickness and step height on the surface of thin-film/substrate test samples by phase-shifting interferometry |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JP 63-78051 A.,In: Patents Abstracts of Japan, P-747,Aug. 22,1988,Vol.12,No.307 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19757706C2 (de) | 2002-01-24 |
WO1999034196A1 (de) | 1999-07-08 |
AU2275299A (en) | 1999-07-19 |
EP1129336A1 (de) | 2001-09-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69929075T2 (de) | Biochip mit einer mehrzahl von bereichen zur molekularen erkennung, und dazu geeignete auslesevorrichtung | |
EP1259796B1 (de) | Spr-sensorsystem | |
DE4024476C1 (de) | ||
DE69805756T2 (de) | Verfahren und vorrichtung zur analyse | |
DE69017947T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Messen der Dicke dünner Filme. | |
EP2137514B1 (de) | Integriert-optischer sensor | |
EP0226604B1 (de) | Optischer sensor zum selektiven nachweis von substanzen und zum nachweis von brechzahländerungen in messubstanzen | |
DE69505749T2 (de) | Dickenmessverfahren für transparentes material | |
EP0617273A2 (de) | Optisches Verfahren und Vorrichtung zur Analyse von Substanzen an Sensoroberflächen | |
EP3428622A1 (de) | Diffraktiver biosensor | |
DE19615366A1 (de) | Verfahren und Einrichtung zum Nachweis physikalischer, chemischer, biologischer oder biochemischer Reaktionen und Wechselwirkungen | |
EP2044420A2 (de) | Analytisches system mit einer anordnung zur zeitlich veränderbaren räumlichen lichtmodulation und damit ausführbares nachweisverfahren | |
DE19955556A1 (de) | Meßanordnung zum parallelen Auslesen von SPR-Sensoren | |
EP1466164A1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur untersuchung dünner schichten | |
EP3824272A1 (de) | Diffraktiver biosensor | |
DE4200088C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum optischen Nachweis einer An- oder Einlagerung mindestens einer stofflichen Spezies in oder an mindestens einer dünnen Schicht | |
DE3719524C2 (de) | ||
DE102010037207B3 (de) | Rauheits-Messvorrichtung und -Messverfahren | |
WO1993001487A1 (de) | Optisches verfahren zum selektiven nachweis von spezifischen substanzen in chemischen, biochemischen und biologischen messproben | |
DE69817329T2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Identifikation einer Substanz durch Oberflächenwechselwirkungen | |
DE19757706C2 (de) | Substrat, Vorrichtung und Verfahren zur schnellen Auswertung von Bindungsreaktionen durch interferometrische Schichtdickenmessung | |
DE102008014335A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung einer Brechzahl eines Messobjekts | |
DE19837437A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Bestimmen von Abständen und ein zugehöriges Nanodosiersystem | |
DE10052165A1 (de) | SPR-Sensorsystem | |
DE102010038718B4 (de) | Messvorrichtung und Verfahren zum Bestimmen eines eine elektrische Eigenschaft einer Dünnschicht auf einem Träger beschreibenden ersten Parameters |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: BIOTUL AG, 80339 MUENCHEN, DE |
|
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: JANDRATEK GMBH, 96346 WALLENFELS, DE |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee | ||
8370 | Indication of lapse of patent is to be deleted | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |