DE19743800C1 - Vakuumbeschichtungsanlage im Durchlaufbetrieb - Google Patents
Vakuumbeschichtungsanlage im DurchlaufbetriebInfo
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- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vakuumbeschichtungsanlage im
Durchlaufbetrieb, mit hintereinander angeordneten Vakuumkam
mern, durch die zu beschichtende Substrate mittels eines Trä
gers bewegbar und in Arbeitspositionen fahrbar sind. Dabei ist
der Träger mit Medienanschlüssen und damit verbundenen Medien
leitungen versehen, an die eine Medienanschlußkupplung eines
Andocksystems zur Verbindung mit externen Medienversorgungen
anschließbar ist.
Es ist bekannt, in Vakuumanlagen zu beschichtende Substrate
auf einem Träger anzuordnen und diesen durch die Anlage über
Schleusensysteme ein- und aus zubringen und dabei je nach dem
Prozeß durch mehrere Vakuumkammern, die durch Ventile vonein
ander getrennt sind, zu bewegen. Da es erforderlich ist, die
Substrate zu kühlen, muß dem Träger das Kühlwasser zu- und
abgeführt werden.
Bei diskontinuierlich arbeitenden Anlagen erfolgt die Zufüh
rung des Kühlwassers zu dem Träger mittels einer am Träger
angeordneten Schubstange, die zugleich die Kühlwasserführung
übernimmt. Diese Ausführung hat den Nachteil, daß die Schub
stange, die über eine Vakuumdurchführung nach außen geführt
ist, welches das Abschließen der durchfahrenen Kammern durch
die Ventile verhindert. Der jeweiligen Arbeitsposition
vor- und nachgeschaltete Arbeitspositionen bleiben außerdem solange
blockiert, wie sich der Träger noch in einer Arbeitsposition
befindet.
Aus der deutschen Patentschrift 195 37 092 C1 ist eine Elek
tronenstrahlbedampfungsanlage im Durchlaufbetrieb für ther
misch hochbelastete Substrate bekannt. Diese Bedampfungsanlage
besteht aus mehreren Kammern, wie Schleusenkammer, Heizkammer
und Bedampfungskammer. Auch hier ist eine Substrattransport
einrichtung vorgesehen. Die Kammern sind in Transportrichtung
des Substrats mittels einer Trennwand in zwei Teilkammern
längs geteilt. Diese Trennwand weist einen Schlitz auf, durch
den eine Substrathalterung zur Aufnahme der Substrate auf der
einen Seite der Trennwand ragt. Auf der anderen Seite der
Trennwand ist die Substrathalterung mit einem längsverfahr
barem Transportwagen verbunden. Substrathalterung und
Transportwagen bilden zusammen die Substrattransportvorrich
tung.
Notwendige Heizelemente und die Bedampfungsstation dieser
Elektronenstrahlbedampfungsanlage sind in dem Teil der jewei
ligen Kammer angeordnet, der von den Substraten durchlaufen
wird. Der Transportwagen hingegen wird in dem anderen ther
misch nur wenig belasteten Teil der jeweiligen Kammer bewegt.
Dort sind auch die Transporteinrichtungen für den Transportwa
gen angeordnet.
Der Transportwagen weist einen oder mehrere Kühlkreise auf,
die mittels eines leckfreien Andocksystems in Heiz- und Be
schichtungskammern sowie in der Ausgabeschleuse an den jewei
ligen Arbeitspositionen mit äußeren Kreisläufen koppelbar
sind. Darüberhinaus ist die Substrathalterung mit einem An
trieb für Rotations- und Schwenkbewegungen der Substrate ver
sehen, der hydraulisch arbeitet. Die Hydraulikkreisläufe wer
den in den jeweiligen Arbeitspositionen des Transportwagens
ebenfalls über ein leckfreies Andocksystem angekoppelt. Es ist
auch möglich, daß über dieses Andocksystem Elektroenergie
übertragen wird.
Durch diese Lösung wird eine kontinuierliche Arbeit ermöglicht
und insbesondere der einem Substrattransport mittels Schub
stange anhaftende Mangel beseitigt. Nachteilig ist allerdings,
daß auch bei einem leckfreien Andocksystem stets eine Restmen
ge der Medien freigesetzt wird. Dies kann beispielsweise da
durch geschehen, daß das Andocksystem selbst zwar leckfrei
ist, aber nach Auftrennung der Medienverbindung die Oberfläche
der Kupplungselemente noch mit Flüssigkeit benetzt ist.
Durch das Freisetzen der Medienrestmengen, insbesondere Rest
mengen von Wasser, ist diese Technik in Vakuumanlagen, wo
insbesondere Wasserdampf den Prozeßablauf erheblich stört,
nicht anwendbar. Absolut trockene Kupplungen für Flüssigkeiten
sind nicht bekannt.
Somit ist es Aufgabe der Erfindung, während einer kontinuier
lichen Prozeßdurchführung in Vakuumbeschichtungsanlagen ein
flüssiges, gas- oder granulatförmiges Medium oder mehrere
dieser Medien von der Atmosphäre in eine Vakuumkammer zu über
tragen, wobei nach der Übertragung Prozeßkontaminationen ver
mieden werden sollen.
Gemäß der Erfindung wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß an
einer Arbeitsposition eine erste Zwischenkammer angeordnet
ist, die eine Außenwand einer der Arbeitsposition entsprechen
den Vakuumkammer durchdringt. Innerhalb der Vakuumkammern ist
eine zweite Zwischenkammer zusammen mit dem Träger längs be
wegbar angeordnet. Die Medienanschlüsse sind innerhalb der
zweiten Zwischenkammer angeordnet.
Die erste und die zweite Zwischenkammer sind gegenüber der
Vakuumkammer vakuumdicht verschließbar, wobei Durchtrittsöff
nungen der Zwischenkammern in der Arbeitsposition einander
gegenüberstehend angeordnet sind. Die erste und/oder die zwei
te Zwischenkammer sind in der Arbeitsposition relativ zuein
ander bewegbar ausgeführt. Auf den Seiten der Zwischenkammern,
die in der Arbeitsposition aufeinanderzu weisen, sind die
Zwischenkammern mit Dichtungsmitteln versehen. Diese Dich
tungsmittel sind die Durchtrittsöffnungen gegenüber der Vaku
umkammer unter gegenseitiger Wirkung vakummdichtend ausge
führt. In der Arbeitsposition ist die Medienanschlußkupplung
und/oder sind die Medienanschlüsse durch die geöffneten Durch
trittsöffnungen hindurch relativ zueinander bewegbar ausge
führt.
Zusammen mit dem Träger wird die zweite Zwischenkammer in der
Vakuumkammer längs bewegt. In einer Arbeitsposition steht die
zweite Zwischenkammer der ersten Zwischenkammer gegenüber.
Insbesondere stehen sich dabei die Durchtrittsöffnungen gegen
über. Durch die Relativbewegung, daß heißt entweder einer
Bewegung der ersten Zwischenkammer in Richtung zur zweiten
Zwischenkammer oder umgekehrt oder eine Bewegung beider Zwi
schenkammern aufeinander zu, berühren sich beide Kammern.
Dabei werden die Durchtrittsöffnungen durch die Dichtungs
mittel zur Vakuumkammer hin gedichtet, obwohl die Durch
trittsöffnungen zunächst noch geschlossen sind. Ist die Berüh
rung beider Kammern hergestellt, so können beide Durchtritts
öffnungen geöffnet werden. Nach dem Öffnen der Durchtrittsöff
nungen wird entweder die Medienanschlußkupplung oder es werden
die Medienanschlüsse oder beide Teile aufeinanderzu bewegt.
Dabei tritt entweder die Medienanschlußkupplung oder es treten
die Medienanschlüsse durch die geöffneten Durchtrittsöffnungen
hindurch in die jeweils andere Zwischenkammer. Somit kann eine
Verbindung zwischen der Medienanschlußkupplung und den Medien
anschlüssen erfolgen und der Träger mit Medien oder mit Elek
troenergie versorgt werden. Insbesondere kann damit der Kühl
kreislauf innerhalb des Trägers mit Kühlwasser versorgt wer
den. Beide Kammern können unter atmosphärischem Druck stehen,
da sie zu den Vakuumkammern hin abgedichtet sind. Folglich
erfolgt die Medienversorgung über die Medienkupplung und die
Medienanschlüsse unter atmosphärischem Druck.
Nach Beendigung der Arbeit in der Arbeitsposition wird die
Medienanschlußkupplung wieder von den Medienanschlüssen ge
trennt. Dabei ist es unerheblich, ob an der Medienanschluß
kupplung noch Restmengen des Mediums verbleiben oder nicht, da
nach dem Trennen beide Durchtrittsöffnungen in den Zwischen
kammern wieder geschlossen werden und die Zwischenkammern
voneinander gelöst werden. Eventuell verbleibende Restmengen
an Medium, an der Medienanschlußkupplung oder an den Medien
anschlüssen haben keinen störenden Einfluß auf die Prozeß
durchführung, da sie in den nunmehr von der Vakuumkammer ge
trennten Zwischenkammern verbleiben.
In einer Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, daß die
erste Zwischenkammer in der Außenwand quer zur Bewegungsrich
tung des Transportwagens vakuumdicht bewegbar ist. Da die
erste Zwischenkammer auf ihrer der Vakuumkammer abgewandten
Seite vollständig belüftet sein kann, bietet sich diese Ausge
staltung an, da in Normalatmosphäre der Bewegungsmechanismus
für die Relativbewegung, das heißt in diesem Falle für die
Bewegung der ersten Zwischenkammer, angeordnet sein kann.
In einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen,
daß die zweite Zwischenkammer dadurch gebildet wird, daß der
Träger unter Bildung der zweiten Zwischenkammer hohl ausge
bildet ist. Durch diese Ausgestaltung werden zusätzliche Bau
teile vermieden. Insbesondere ist diese Ausgestaltung vorteil
haft, da innerhalb des Trägers die Medienleitungen in der
Regel ohnehin geführt werden.
In einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist an einer
Seite einer Durchtrittsöffnung eine Verschlußplatte verschieb
bar gelagert. Die Verschlußplatte weist eine die Durchtritts
öffnung überdeckende Dichtfläche auf. Dabei ist der die Durch
trittsöffnung überragende Rand der Dichtfläche mit geeigneten
Dichtungsmitteln versehen. Ein Schließen dieser Durch
trittsöffnung geschieht durch Verschieben der Verschlußplatte
vor die Durchtrittsöffnung.
Zur Verbesserung der Dichtwirkung der Verschlußplatte ist es
zweckmäßig, diese an der Innenseite der jeweils ersten oder
zweiten Zwischenkammer anzuordnen. Da der Druck in den Zwi
schenkammern regelmäßig höher ist als in der Vakuumkammer,
wird diese Druckdifferenz eine Schließkraft auf die Verschluß
platte ausüben, so daß diese vakuumdicht schließt.
In einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist eine ventil
gesteuerte Vakuumleitung vorgesehen, die in einer Öffnung
mündet. Dabei ist die Öffnung in den Seiten der Zwischenkam
mern, die in der Arbeitsposition aufeinanderzu weisen, zwi
schen der Durchtrittsöffnung und den Dichtungsmitteln einge
bracht.
Wenn sich beide Kammern aufeinanderzu bewegen und infolge
dessen dichtend berühren, wird in praxi zwischen beiden Zwi
schenkammern ein Abstand verbleiben, der beispielsweise allei
ne durch die Dicke von Ringdichtungen, sofern diese verwendet
werden, bedingt ist. Der durch den Abstand hervorgerufene
Zwischenraum wird während des Andockvorgangs beim Öffnen der
Durchtrittsöffnungen mit belüftet. Würden die beiden Zwischen
kammern anschließend wieder voneinander gelöst, würde das
darin befindliche Volumen in die Vakuumkammer einströmen und
somit das Vakuum belasten. Um dies zu verhindern, wird über
die ventilgesteuerte Vakuumleitung vor dem Auseinanderbewegen
der beiden Zwischenkammern der Zwischenraum evakuiert.
Es ist zweckmäßig, die ventilgesteuerte Vakuumleitung dadurch
auszuführen, daß sie aus einem durch die erste Zwischenkammer
hindurchgeführten Rohr besteht.
In einer zweckmäßigen Ausführung der Erfindung ist vorgesehen,
daß die Dichtungsmittel aus einer Ringdichtung in der ersten
oder zweiten Zwischenkammer und einer Dichtfläche an der je
weils anderen Zwischenkammer bestehen.
Die Erfindung soll nachfolgend anhand eines Ausführungsbei
spieles näher erläutert werden. In der zugehörigen Zeichnung
ist ein Teil einer Vakuumbeschichtungsanlage im Schnitt dar
gestellt.
Zwei Vakuumkammern 1; 1' sind über ein Ventil 2' derart verbun
den, daß ein Träger 3 durch diese bewegt werden kann. Die
Vakuumkammer 1 ist als Schleusenkammer ausgeführt. Vor der
Schleusenkammer 1, die auch als Heizkammer zum Aufheizen der
Substrate durch Heizer 22 dienen kann, ist ein Ventil 2 zum
Einbringen des Trägers 3 angeordnet. An die Vakuumkammer 1'
schließt sich über ein Ventil 2' eine weitere nicht näher
dargestellte Vakuum- oder Schleusenkammer an. Der Träger 3 ist
als vakuumdicht geschlossener Kasten ausgebildet, in dem Atmo
sphärendruck herrscht.
Jede Vakuumkammer 1 hat folgenden Aufbau:
In die Vakuumkammern 1; 1' ragt eine erste Zwischenkammer 4, die mittels einer vakuumdichten Schiebedurchführung 5 in Rich tung x zum Träger 3 bewegbar ist. Auf der dem Träger zugewand ten Seite ist eine Verschlußplatte 6 angeordnet, die eine Durchtrittsöffnung 7 vakuumdicht verschließt. In der ersten Zwischenkammer 4 ist zentrisch zu der Durchtrittsöffnung 7 eine dazu axial bewegliche Medienanschlußkupplung 8 an geordnet. Die Medienanschlußkupplung 8 dient der Übergabe der Medien und von Elektroenergie. In der ersten Zwischenkammer 4 ist weiterhin ein Rohr 9 angeordnet, welches durch die Wand der ersten Zwischenkammer 4 auf der dem Träger 3 zugewandten Seite führt und bündig mit der Seite abschließt. In seinem Verlauf ist das Rohr 9 mittels eines Ventils 10 verschlossen und an eine nicht näher dargestellte Vakuumpumpe und ein nicht näher dargestelltes Belüftungsventil angeschlossen. An dem Träger 3, der durch die Vakuumkammern 1; 1' auf Rollen 12 fahr bar ist, sind Halterungen 13 für die Aufnahme von zu beschich tenden Substraten 14 angeordnet. Ein Heizer 22, innerhalb der Vakuumkammer 1, dient dem Vorheizen der Substrate 14. In der Vakuumkammer 1' sind Verdampfer 15 zur Beschichtung der Sub strate 14 angeordnet.
In die Vakuumkammern 1; 1' ragt eine erste Zwischenkammer 4, die mittels einer vakuumdichten Schiebedurchführung 5 in Rich tung x zum Träger 3 bewegbar ist. Auf der dem Träger zugewand ten Seite ist eine Verschlußplatte 6 angeordnet, die eine Durchtrittsöffnung 7 vakuumdicht verschließt. In der ersten Zwischenkammer 4 ist zentrisch zu der Durchtrittsöffnung 7 eine dazu axial bewegliche Medienanschlußkupplung 8 an geordnet. Die Medienanschlußkupplung 8 dient der Übergabe der Medien und von Elektroenergie. In der ersten Zwischenkammer 4 ist weiterhin ein Rohr 9 angeordnet, welches durch die Wand der ersten Zwischenkammer 4 auf der dem Träger 3 zugewandten Seite führt und bündig mit der Seite abschließt. In seinem Verlauf ist das Rohr 9 mittels eines Ventils 10 verschlossen und an eine nicht näher dargestellte Vakuumpumpe und ein nicht näher dargestelltes Belüftungsventil angeschlossen. An dem Träger 3, der durch die Vakuumkammern 1; 1' auf Rollen 12 fahr bar ist, sind Halterungen 13 für die Aufnahme von zu beschich tenden Substraten 14 angeordnet. Ein Heizer 22, innerhalb der Vakuumkammer 1, dient dem Vorheizen der Substrate 14. In der Vakuumkammer 1' sind Verdampfer 15 zur Beschichtung der Sub strate 14 angeordnet.
In dem hohlen Träger 3 ist eine Durchtrittsöffnung 16 einge
bracht, die in der dargestellten Arbeitsposition deckungs
gleich mit der Durchtrittsöffnung 7 in der ersten Zwischenkam
mer 4 ist. Diese Durchtrittsöffnung 16 ist mit einer Ver
schlußplatte 17 vakuumdicht verschließbar. Zentrisch zu der
Durchtrittsöffnung 16 und in der dargestellten Arbeitsposition
auch zentrisch zu der Durchtrittsöffnung 7 ist ein Medien
anschlußstück 18 angeordnet, so daß sich bei geöffneten
Verschlußplatten 6 und 16 die Medienanschlußkupplung 8 mit dem
Medienanschlußstück 18 verbinden läßt, um die Medien zu überge
ben.
Am Träger 3 sind Dichtungen 19 angeordnet, um die Durchtritts
öffnungen 7 und 16 im angedockten Zustand gegenüber der Vaku
umkammer 1 und 1' vakuumdicht zu verschließen. Diese als Ring
dichtung ausgebildete Dichtung 19 nutzt die der ersten Zwi
schenkammer zugewandte Seite des Trägers 3 als Dichtfläche.
Die Dicke der Dichtung 19 bewirkt, daß ein Zwischenraum 21
gebildet wird. Dieser ist bei geschlossenen Verschlußplatten
6 und 17 vakuumdicht.
Die Arbeitsweise der Einrichtung ist folgende:
Der Träger 3 wird außerhalb der Anlage bestückt. Auf den ro tierbaren Halterungen 13 sind die Substrate 14 angeordnet. Durch das Ventil 2 wird der außerhalb der Anlage bestückte Träger 3 in y-Richtung in die Schleusenkammer 1 auf Rollen 12 eingefahren. Das Ventil 2' ist dabei geschlossen. Nach dem Einschleusen wird die Schleusenkammer 1 evakuiert und das Ventil 2' geöffnet. Nach dem Evakuieren der Schleusenkammer 1 werden dort die Substrate mittels der Heizer 22 vorgeheizt. Das Vorheizen geschieht im Vakuum, um Oxidationsprozesse an den Substraten zu vermeiden. Hierbei ist bereits eine Kühlung erforderlich, wozu dem Träger 3 Kühlwasser zuzuführen ist. Zur Herstellung der Kühlwasserverbindung wird die erste Zwischen kammer 4 wird bei geschlossener Verschlußplatte 6 auf den Träger 3, dessen Durchtrittsöffnung 16 durch die Ver schlußplatte 17 verschlossen ist, aufgesetzt. Danach wird der Zwischenraum 21 durch das Rohr 9 und das Ventil 10 belüftet. Die Verschlußplatten 6 und 17 werden geöffnet und die Medien anschlußkupplung 8 wird in x-Richtung bewegt und stellt die Verbindung mit dem Medienanschlußstück 18 her, um das für die Kühlung der Halterungen 13 erforderliche Kühlwasser zu- und abzuführen. Ebenso wird die Elektroenergie zugeführt, die zur Rotation der Halterungen 13 erforderlich ist.
Der Träger 3 wird außerhalb der Anlage bestückt. Auf den ro tierbaren Halterungen 13 sind die Substrate 14 angeordnet. Durch das Ventil 2 wird der außerhalb der Anlage bestückte Träger 3 in y-Richtung in die Schleusenkammer 1 auf Rollen 12 eingefahren. Das Ventil 2' ist dabei geschlossen. Nach dem Einschleusen wird die Schleusenkammer 1 evakuiert und das Ventil 2' geöffnet. Nach dem Evakuieren der Schleusenkammer 1 werden dort die Substrate mittels der Heizer 22 vorgeheizt. Das Vorheizen geschieht im Vakuum, um Oxidationsprozesse an den Substraten zu vermeiden. Hierbei ist bereits eine Kühlung erforderlich, wozu dem Träger 3 Kühlwasser zuzuführen ist. Zur Herstellung der Kühlwasserverbindung wird die erste Zwischen kammer 4 wird bei geschlossener Verschlußplatte 6 auf den Träger 3, dessen Durchtrittsöffnung 16 durch die Ver schlußplatte 17 verschlossen ist, aufgesetzt. Danach wird der Zwischenraum 21 durch das Rohr 9 und das Ventil 10 belüftet. Die Verschlußplatten 6 und 17 werden geöffnet und die Medien anschlußkupplung 8 wird in x-Richtung bewegt und stellt die Verbindung mit dem Medienanschlußstück 18 her, um das für die Kühlung der Halterungen 13 erforderliche Kühlwasser zu- und abzuführen. Ebenso wird die Elektroenergie zugeführt, die zur Rotation der Halterungen 13 erforderlich ist.
In dem Zwischenraum 21 zwischen der ersten Zwischenkammer 4
und dem Träger 3 herrscht bei geöffnetem Ventil 10 atmosphäri
scher Druck, wie auch im Träger 3.
Nach dem Vorheizen in der Schleusenkammer 1 fährt der Träger
3 in die Vakuumkammer 1'.
In der Arbeitsposition in der Vakuumkammer 1' findet die Be
schichtung mittels der Verdampfer 15 statt. Hierbei erfolgt
der Medienanschluß in der dargestellten Art und Weise.
Nach Beendigung des Beschichtungsprozesses wird die Medien
anschlußkupplung 8 hochgefahren und die Verschlußplatten 6 und
17 werden geschlossen. Der Zwischenraum 21 wird über das Rohr
9 auf den in der Vakuumkammer 1' herrschenden Arbeitsdruck
evakuiert und das Ventil 10 wird geschlossen. Nun kann die
erste Zwischenkammer 4 entgegen der x-Richtung angehoben wer
den. Danach kann der Träger 3 durch das Ventil 2' in y-Rich
tung in die nächste nicht näher dargestellte Vakuumkammer
gefahren oder ausgeschleust werden.
1
Vakuumkammer, Schleusenkammer
1
' Vakuumkammer
2
Ventil
2
' Ventil
2
'' Ventil
3
Träger zugleich zweite Zwischenkammer
4
erste Zwischenkammer
5
Schiebedurchführung
6
Verschlußplatte
7
Durchtrittsöffnung
8
Medienanschlußkupplung
9
Rohr
10
Ventil
12
Rolle
13
Halterung
14
Substrat
15
Verdampfer
16
Durchtrittsöffnung
17
Verschlußplatte
18
Medienanschlußstück
19
Dichtung
21
Zwischenraum
22
Heizer
x Bewegungsrichtung
y Bewegungsrichtung
x Bewegungsrichtung
y Bewegungsrichtung
Claims (8)
1. Vakuumbeschichtungsanlage im Durchlaufbetrieb mit hinter
einander angeordneten Vakuumkammern, durch die zu beschichten
den Substrate mittels eines Trägers bewegbar und in Arbeits
positionen fahrbar sind, wobei der Träger mit Medienanschlüs
sen und damit verbundenen Medienleitungen versehen ist, an die
eine Medienanschlußkupplung eines Andocksystems zur Verbindung
mit externen Medienversorgungen anschließbar ist, da
durch gekennzeichnet,
daß an einer Arbeitsposition eine erste Zwischenkammer (4) eine Außenwand einer der Arbeitsposition entsprechenden Vaku umkammer (1, 1') durchdringend angeordnet ist,
daß eine zweite Zwischenkammer (3) innerhalb der Vakuumkammern (1, 1') zusammen mit dem Träger (3) längs bewegbar angeordnet ist, innerhalb der die Medienanschlüsse (18) angeordnet sind,
daß die erste Zwischenkammer (4) und die zweite Zwischenkammer (3) vakuumdicht verschließbar sind, wobei Durch trittsöffnungen (7; 16) der Zwischenkammern (3; 4) in der Ar beitsposition einander gegenüberstehend angeordnet sind,
daß in der Arbeitsposition die erste (4) und/oder die zweite Zwischenkammer (3) relativ zueinander bewegbar ausgeführt sind,
daß die Zwischenkammern (3; 4) auf den Seiten, die in der Ar beitsposition aufeinander zu weisen mit die Durch trittsöffnungen (7; 16) gegenüber der Vakuumkammer (1; 1') unter gegenseitiger Wirkung vakuumdichtenden Dichtungsmitteln (19) versehen sind,
daß in der Arbeitsposition die Medienanschlußkupplung (8) und/oder die Medienanschlüsse (18) durch die geöffneten Durch trittsöffnungen (7; 16) hindurch relativ zueinander bewegbar ausgeführt sind.
daß an einer Arbeitsposition eine erste Zwischenkammer (4) eine Außenwand einer der Arbeitsposition entsprechenden Vaku umkammer (1, 1') durchdringend angeordnet ist,
daß eine zweite Zwischenkammer (3) innerhalb der Vakuumkammern (1, 1') zusammen mit dem Träger (3) längs bewegbar angeordnet ist, innerhalb der die Medienanschlüsse (18) angeordnet sind,
daß die erste Zwischenkammer (4) und die zweite Zwischenkammer (3) vakuumdicht verschließbar sind, wobei Durch trittsöffnungen (7; 16) der Zwischenkammern (3; 4) in der Ar beitsposition einander gegenüberstehend angeordnet sind,
daß in der Arbeitsposition die erste (4) und/oder die zweite Zwischenkammer (3) relativ zueinander bewegbar ausgeführt sind,
daß die Zwischenkammern (3; 4) auf den Seiten, die in der Ar beitsposition aufeinander zu weisen mit die Durch trittsöffnungen (7; 16) gegenüber der Vakuumkammer (1; 1') unter gegenseitiger Wirkung vakuumdichtenden Dichtungsmitteln (19) versehen sind,
daß in der Arbeitsposition die Medienanschlußkupplung (8) und/oder die Medienanschlüsse (18) durch die geöffneten Durch trittsöffnungen (7; 16) hindurch relativ zueinander bewegbar ausgeführt sind.
2. Vakuumbeschichtungsanlage nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die erste Zwischenkammer (4)
in der Außenwand quer zur Bewegungsrichtung (y) des Trägers
(3) vakuumdicht bewegbar ist.
3. Vakuumbeschichtungsanlage nach Anspruch 1 oder 2, da
durch gekennzeichnet, daß die zweite Zwi
schenkammer dadurch gebildet wird, daß der Träger (3) unter
Bildung der zweiten Zwischenkammer hohl ausgebildet ist.
4. Vakuumbeschichtungsanlage nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß an einer
Seite der Durchtrittsöffnung (7; 16) eine Verschlußplatte
(6; 17) verschiebbar gelagert ist, die eine die Durchtrittsöff
nung (7; 16) überdeckende Dichtfläche aufweist.
5. Vakuumbeschichtungsanlage nach Anspruch 4, dadurch
gekennzeichnet, daß die Verschlußplatte (6; 17) an
einer Innenseite der jeweils ersten (4) oder zweiten Zwischen
kammer (3) verschiebbar gelagert ist.
6. Vakuumbeschichtungsanlage nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet, daß eine ventil
gesteuerte Vakuumleitung (9) vorgesehen ist, die in einer
Öffnung mündet, die in den Seiten der Zwischenkammern (3; 4),
die in der Arbeitsposition aufeinanderzu weisen, zwischen der
Durchtrittsöffnung (7; 16) und den Dichtungsmitteln (19) einge
bracht ist.
7. Vakuumbeschichtungsanlage nach Anspruch 6, dadurch
gekennzeichnet, daß die Vakuumleitung aus einem
durch die erste Zwischenkammer (4) hindurchgeführten Rohr (9)
besteht.
8. Vakuumbeschichtungsanlage nach einem der Ansprüche 1 bis 7,
dadurch gekennzeichnet, daß die Dich
tungsmittel aus einer Ringdichtung (19) in der ersten (4) oder
zweiten Zwischenkammer (3) mit einer Dichtfläche an der je
weils anderen Zwischenkammer bestehen.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1997143800 DE19743800C1 (de) | 1997-10-02 | 1997-10-02 | Vakuumbeschichtungsanlage im Durchlaufbetrieb |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1997143800 DE19743800C1 (de) | 1997-10-02 | 1997-10-02 | Vakuumbeschichtungsanlage im Durchlaufbetrieb |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19743800C1 true DE19743800C1 (de) | 1999-02-04 |
Family
ID=7844533
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1997143800 Expired - Fee Related DE19743800C1 (de) | 1997-10-02 | 1997-10-02 | Vakuumbeschichtungsanlage im Durchlaufbetrieb |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19743800C1 (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19850415C1 (de) * | 1998-11-02 | 2000-02-03 | Ardenne Anlagentech Gmbh | Substrathalter für Mehrkammer-Vakuumbeschichtungsanlagen |
DE19913802C1 (de) * | 1999-03-26 | 2000-09-07 | Ardenne Anlagentech Gmbh | Behandlungsverfahren für thermisch hoch belastete Substrate in Elektronenstrahl-Bedampfungsanlagen |
DE102004006419A1 (de) * | 2004-02-09 | 2005-09-08 | Applied Films Gmbh & Co. Kg | Energie- und Medienanschluss für eine aus mehreren Kammern bestehende Beschichtungsanlage |
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-
1997
- 1997-10-02 DE DE1997143800 patent/DE19743800C1/de not_active Expired - Fee Related
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