DE19723954A1 - Clean room - Google Patents
Clean roomInfo
- Publication number
- DE19723954A1 DE19723954A1 DE19723954A DE19723954A DE19723954A1 DE 19723954 A1 DE19723954 A1 DE 19723954A1 DE 19723954 A DE19723954 A DE 19723954A DE 19723954 A DE19723954 A DE 19723954A DE 19723954 A1 DE19723954 A1 DE 19723954A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- air
- clean room
- chemical
- filter
- area
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
- F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
- F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
- F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Ventilation (AREA)
Abstract
Description
Die Erfindung betrifft einen Reinraum, in dem ein Halblei terbauelement oder dergleichen hergestellt wird.The invention relates to a clean room in which a semi-lead terbauelement or the like is produced.
Halbleiterbauelemente werden herkömmlicherweise in einem Reinraum hergestellt, in dem die Temperatur und die Feuch tigkeit gesteuert bzw. reguliert werden und aus dem Fremd partikel in der Größenordnung von einigen Mikrometern norma lerweise entfernt werden, um eine Abnahme der Produktions ausbeute infolge einer Kontaminierung durch die Umgebung des Reinraums zu verhindern. Semiconductor components are conventionally in one Clean room made in which the temperature and the humidity activity can be controlled or regulated and from outside particles of the order of a few micrometers norma may be removed to decrease production yield due to contamination by the environment of the To prevent clean room.
Fig. 2 zeigt einen herkömmlichen Reinraum. In Fig. 2 hat ein Reinraum 1 ein Frischluft-Klimagerät 2 zum Ansaugen von Außen- bzw. Frischluft, Regeln der Temperatur und Feuchtig keit der Frischluft und Zuführen der Luft zu dem Reinraum 1. Das Frischluft-Klimagerät 2 weist ein Frischluft-Ansaug gebläse, ein Heiz/Kühlgebläse und einen Befeuchter auf. Der Reinraum 1 umfaßt eine Deckenkammer 4, der Luft von dem Frischluft-Klimagerät 2 zugeführt wird, eine Arbeitszone 5, in der Fertigungseinrichtungsteile 6 und 6a, eine Hängetrag einrichtung 7 und eine Lagerungseinrichtung 8 mit einer ein gebauten Umlufteinheit angeordnet sind und Arbeitsgänge aus geführt werden, und eine Versorgungszone 9, in der Einrich tungen zur Versorgung mit Antriebskraft und zur Aufrecht erhaltung der Umgebung angeordnet sind. Fig. 2 shows a conventional clean room. In Fig. 2, a clean room 1 has a fresh air conditioner 2 for drawing in outside or fresh air, regulating the temperature and humidity of the fresh air and supplying the air to the clean room 1 . The fresh air conditioner 2 has a fresh air intake fan, a heating / cooling fan and a humidifier. Is the clean room 1 includes a top chamber 4, the air from the fresh-air air-conditioning unit 2 supplied to a working zone 5, in the production device parts 6 and 6 a, a suspended supporting device 7, and a storage device 8 with a built air circulation unit are arranged, and operations from out are, and a supply zone 9 , in the Einrich lines for supplying power and maintaining the environment are arranged.
Ein Deckenfilter 10, wie etwa ein Hochleistungs-Feinstfilter (HEPA) oder ein Niedrigstpenetrationsfilter (ULPA), zum Ent fernen von Fremdstoffen, wie Staub, in der Größenordnung von wenigen Mikrometern aus der Luft in der Deckenkammer 4 ist zwischen der Deckenkammer 4 und der Arbeitszone 5 angeordnet; die Arbeitszone 5 ist mit der Versorgungszone 9 durch ein Gitter 12 im Boden der Arbeitszone 5 in Kontakt; und ein Umwälzkanal 13 ist in der Versorgungszone 9 angeordnet, der die Luft in der Arbeitszone 5 über einen Umwälzlüfter 14 durch das Gitter 12 ansaugt und die Luft aus der Versor gungszone 9 zu der Deckenkammer 4 umwälzt. Ein Umwälzluft- Temperaturregler 15 ist an dem Umwälzkanal 13 angebracht.A ceiling filter 10 , such as a high-performance ultrafine filter (HEPA) or a low-penetration filter (ULPA), for removing foreign matter, such as dust, on the order of a few micrometers from the air in the ceiling chamber 4 is between the ceiling chamber 4 and the working zone 5 arranged; the working zone 5 is in contact with the supply zone 9 through a grid 12 in the bottom of the working zone 5 ; and a circulation passage 13 is disposed in the supply zone 9 which sucks the air in the working zone 5 through a circulating fan 14 through the grid 12 and the air from the versor constriction zone circulates 9 to the chamber ceiling. 4 A circulation air temperature controller 15 is attached to the circulation channel 13 .
Für die Fertigungseinrichtung 6a, die einen Chemikaliennebel erzeugt, beispielsweise eine Naßbehandlungseinrichtung, die mit Schwefelsäure oder Salzsäure arbeitet, und eine Be schichtungsvorrichtung mit Entwicklungszähler, die ein orga nisches Lösungsmittel verwendet, erfolgt eine Zwangsentlüf tung von Gas zu einer Abluftaufbereitungseinrichtung 6b. Ferner ist ein Trennelement 17, wie etwa ein Vorhang, für den Bereich vorgesehen, in dem die Fertigungseinrichtung 6a ange ordnet ist, die den Chemikaliennebel erzeugt, um ein Ein dringen des Chemikaliennebels, der durch den Einsatz der Chemikalien erzeugt wird, in die Arbeitszone 5 zu verhindern.For the manufacturing facility 6 a, which generates a chemical mist, for example a wet treatment facility that works with sulfuric acid or hydrochloric acid, and a coating device with a development counter that uses an organic solvent, a forced ventilation of gas to an exhaust air treatment facility 6 b. Furthermore, a separating element 17 , such as a curtain, is provided for the area in which the production facility 6 a is arranged, which generates the chemical mist to penetrate the chemical mist that is generated by the use of the chemicals into the working zone 5 to prevent.
Der Luftdruck in dem Reinraum 1 wird höher als der Außen luftdruck gehalten, um zu verhindern, daß Fremdstoffe aus der Außenluft in den Raum 1 eindringen. Der Luftdruck in dem Reinraum 1 wird jedoch dadurch verringert, daß durch das Öffnen oder Schließen einer Tür Luft abgezogen wird. Daher wird der Luftdruck in dem Reinraum 1 so geregelt, daß er um einen bestimmten Wert höher als der der Außenluft gehalten wird, indem der Luftdruck im Reinraum 1 ständig gemessen und die Drehzahl des Sauggebläses des Frischluft-Klimageräts 2 geändert wird.The air pressure in the clean room 1 is kept higher than the outside air pressure to prevent foreign matter from the outside air from entering the room 1 . However, the air pressure in the clean room 1 is reduced in that air is extracted by opening or closing a door. Therefore, the air pressure in the clean room 1 is controlled so that it is kept a certain value higher than that of the outside air by constantly measuring the air pressure in the clean room 1 and changing the speed of the suction fan of the fresh air conditioner 2 .
Mit steigendem Integrationsgrad eines Halbleiterbauelements werden die Strukturgrößen und die schichtdicken immer weiter verringert. Daher wird die chemische Verunreinigung infolge von Chemikaliennebel, der in der Luft in einem Reinraum für die Herstellung von Halbleiterbauelementen enthalten ist, als Problem angesehen. Der eine chemische Verunreinigung verur sachende Chemikaliennebel enthält nicht nur ein Gas, das aus Chemikalien verdampft, die für eine Naßbehandlungsvorrichtung in einem Reinraum verwendet werden, sondern auch Gase auf Schwefel- oder Säurebasis, die in angesaugter Frischluft enthalten sind, sowie Gase, die aus dem Beton des Reinraums sowie dem Farbanstrich von Fertigungseinrichtungen austreten, und diese Gase führen zu den nachstehenden schädlichen Aus wirkungen auf ein Halbleiterbauelement.With increasing degree of integration of a semiconductor component the structure sizes and the layer thicknesses continue to grow decreased. Therefore, chemical contamination is a result of chemical mist that is in the air in a clean room for the manufacture of semiconductor devices is included as Viewed problem. Which causes chemical pollution Appropriate chemical mist doesn't just contain a gas that comes from Chemicals evaporate for a wet treatment device be used in a clean room, but also gases Sulfur or acid based in fresh air drawn in are included, as well as gases from the concrete of the clean room as well as the painting of manufacturing equipment, and these gases lead to the following harmful effects effects on a semiconductor device.
- 1. Gase auf Chlor- und Säurebasis korrodieren das Metall oder dergleichen, das für ein Halbleiterbauelement verwendet wird, und setzen die Zuverlässigkeit des Halbleiterbauelements herab. Insbesondere im Fall von Al-Verdrahtungen wird der Verdrahtungswiderstand aufgrund von Korrosion erhöht, oder die Verdrahtung wird getrennt, so daß dadurch die Charakte ristiken eines Transistors geändert oder seine Funktionen verschlechtert werden.1. Chlorine and acid based gases corrode the metal or the like, which is used for a semiconductor device, and put the reliability of the semiconductor device down. Especially in the case of Al wiring, the Wiring resistance increased due to corrosion, or the wiring is disconnected so that the characters risks of a transistor changed or its functions deteriorate.
- 2. Im Fall der Schichtbildung durch chemisches Bedampfen bzw. CVD erfolgt ein abnormales Aufbringen einer gebildeten dünnen Schicht aufgrund einer Kontaminierung der gebildeten Schicht oberfläche, und dadurch kann leicht eine abnormale Struktur ausbildung erfolgen.2. In the case of layer formation by chemical vapor deposition or CVD is an abnormal application of a formed thin Layer due to contamination of the layer formed surface, and this can easily cause an abnormal structure training.
- 3. Ein Gas auf Fluorbasis führt zu einer Änderung der Eigen schaften eines Oberflächenzustands, Natriumionen breiten sich aus und oxidieren eine Oxidschicht, was zu einer abnormalen Oxidschicht und einer Änderung von Transistorcharakteristiken führt.3. A fluorine-based gas changes the Eigen surface state, sodium ions spread and oxidize an oxide layer, resulting in an abnormal Oxide layer and a change in transistor characteristics leads.
Fig. 3 zeigt einen Fall, in dem chemische Filter 16a, 16b und 16c angeordnet sind, die imstande sind, Chemikaliennebel aus dem Umluftsystem des Reinraums 1 zu entfernen. Ein chemischer Filter 16a ist unter dem Gitter 12 vorgesehen, ein chemischer Filter 16b ist an dem Umwälzkanal 13 für die Luftumwälzung aus der Versorgungszone 9 zu der Deckenkammer 4 vorgesehen, und ein chemischer Filter 16c ist zusätzlich an dem Decken filter 10 vorgesehen. Wenn wenigstens einer der chemischen Filter 16a, 16b und 16c in dem Reinraum 1 angeordnet ist, wird Chemikaliennebel aus der Arbeitszone 5 entfernt. Fig. 3 shows a case in which chemical filters 16 a, 16 b and 16 c are arranged, which are able to remove chemical mists from the air circulation system of the clean room 1 . A chemical filter 16 a is provided under the grid 12 , a chemical filter 16 b is provided on the circulation channel 13 for air circulation from the supply zone 9 to the ceiling chamber 4 , and a chemical filter 16 c is additionally provided on the ceiling filter 10 . If at least one of the chemical filters 16 a, 16 b and 16 c is arranged in the clean room 1 , chemical mist is removed from the working zone 5 .
Ein herkömmlicher Reinraum ist wie oben beschrieben aufge baut, und die chemische Kontaminierung von Halbleiterscheiben bei dem Herstellungsverfahren für Halbleiterbauelemente ist ein Problem. Um zu verhindern, daß Chemikaliennebel aus der Einrichtung 6a, die Chemikaliennebel erzeugt, wie etwa einer Naßbehandlungseinrichtung, die Schwefelsäure oder Salzsäure verwendet, und einer Beschichtungsvorrichtung und einem Entwicklungszähler, die mit einem organischen Lösungsmittel arbeiten, sich ausbreitet, wird die Einrichtung zwangsent lüftet, und außerdem ist der Vorhang 17 für den Bereich vorgesehen, in dem die Fertigungseinrichtung 6a, die Chemikaliennebel erzeugt, angeordnet ist. Es ist jedoch un möglich, eine Ausbreitung von Chemikaliennebel vollständig zu verhindern, und daher gibt es das Problem, daß eine Halb leiterscheibe oder ein Halbleiterwafer chemisch verunreinigt werden, wenn sie transportiert oder gelagert werden.A conventional clean room is constructed as described above, and chemical contamination of semiconductor wafers in the manufacturing process for semiconductor devices is a problem. In order to prevent chemical mists from the device 6 a, which generates chemical mists, such as a wet treatment device that uses sulfuric acid or hydrochloric acid, and a coating device and a development counter that work with an organic solvent, the device is forced vented, and also the curtain 17 is provided for the area in which the manufacturing device 6 a, which generates chemical mist, is arranged. However, it is impossible to completely prevent the spread of chemical mists, and therefore there is a problem that a semiconductor wafer or a semiconductor wafer becomes chemically contaminated when it is transported or stored.
Ferner wird ein Verfahren vorgeschlagen, um Chemikaliennebel aus der Arbeitszone 5 des Reinraums 1 dadurch zu entfernen, daß die chemischen Filter 16a bis 16c angeordnet werden, die imstande sind, Chemikaliennebel aus dem Luftumwälzsystem des Reinraums 1 zu entfernen, und daß die gesamte in dem Reinraum 1 zirkulierende Luft durch die chemischen Filter 16a bis 16c geschickt wird. Das Verfahren ist jedoch mit dem Problem behaftet, daß die Anfangskosten und die Betriebskosten der Klimaanlage steigen.Furthermore, a method is proposed to remove chemical mists from the working zone 5 of the clean room 1 by arranging the chemical filters 16 a to 16 c which are able to remove chemical mists from the air circulation system of the clean room 1 , and that the entire in the clean room 1 circulating air is sent through the chemical filter 16 a to 16 c. However, the method has a problem that the initial cost and the running cost of the air conditioner increase.
Aufgabe der Erfindung ist die Lösung der vorstehend angege benen Probleme und besteht darin, einen Reinraum anzugeben, der imstande ist, die Ausbreitung von Chemikaliennebel von Einrichtungen, die Chemikalien, wie etwa Säure und ein orga nisches Lösungsmittel, bei dem Fertigungsverfahren für Halb leiterbauelemente verwenden, vollständig zu verhindern und eine Aufbereitung der Luft mit niedrigen Kosten je nach Bedarf durchzuführen, um die chemische Kontaminierung einer Halbleiterscheibe bzw. eines Wafers zu verhindern, wenn die Scheibe bzw. der Wafer transportiert oder gelagert wird.The object of the invention is to solve the above problems and consists in specifying a clean room, able to spread chemical mist from Facilities that contain chemicals such as acid and an orga African solvent, in the manufacturing process for half Use ladder components to completely prevent and a treatment of the air at low cost depending on To carry out the need to chemical contamination of a Prevent semiconductor wafer or a wafer if the Disk or the wafer is transported or stored.
Ein Reinraum gemäß der Erfindung ist gekennzeichnet durch eine Vielzahl von Bereichen, die jeweils folgendes aufweisen: eine Deckenkammer, der die Luft, die durch Regelung von Frischluft auf eine vorbestimmte Temperatur und Feuchtigkeit und einen vorbestimmten Staubfreiheitswert in einem Frisch luft-Klimagerät erhalten wird, zugeführt wird; einen Decken filterbereich, in dem ein Hochleistungsfilter angeordnet ist; eine Arbeitszone, der die Luft aus der Deckenkammer nach Reinigung durch den Deckenfilterbereich zugeführt wird; und eine Versorgungszone, die unter dem Gitterboden der Arbeits zone liegt und in der Antriebs-Versorgungsgeräte und Umge bungs-Erhaltungseinrichtungen angeordnet sind; und einen Umwälzkanal zum Umwälzen der Luft von der Arbeitszone zu der Deckenkammer für jeden Bereich durch die Versorgungszone; wobei jeder der Bereiche klimatisiert ist.A clean room according to the invention is characterized by a variety of areas, each with the following: a ceiling chamber that controls the air created by Fresh air to a predetermined temperature and humidity and a predetermined dust-free value in a fresh air conditioner is obtained is supplied; a blanket filter area in which a high-performance filter is arranged; a working zone that the air from the ceiling chamber after Cleaning is supplied through the ceiling filter area; and a supply zone that works under the grid floor zone lies and in the drive supply devices and vice versa exercise maintenance facilities are arranged; and one Circulation duct for circulating the air from the work zone to the Ceiling chamber for each area through the supply zone; each of the areas is air-conditioned.
Dabei ist die Vielzahl von Bereichen durch ein Trennelement einander benachbart.The multitude of areas is separated by a partition adjacent to each other.
Ferner wird der Luftdruck der Bereichsseite, die auf einen höheren Reinheitswert geregelt wird, höher als derjenige eines anderen angrenzenden Bereichs zwischen den aneinander grenzenden Bereichen gehalten.Furthermore, the air pressure of the area side that is on a higher purity value is regulated, higher than that another adjacent area between the one another bordering areas.
Ferner ist eine Vorrichtung, die kaum Chemikalien oder mit guter Wahrscheinlichkeit kaum austretende Chemikalien ver wendet, in der Arbeitszone in einem ersten Bereich angeord net, der einer der genannten Bereiche ist.Furthermore, a device that has hardly any chemicals or with there is a good chance that chemicals will hardly escape applies, arranged in a first area in the work zone net, which is one of the areas mentioned.
Ferner wird eine Klimaanlage zur Zufuhr von Luft, die auf einen Reinheitsgrad geregelt ist, der höher als derjenige von anderen Bereichen in der Arbeitszone ist, für eine vor bestimmte Region in der Arbeitszone in dem ersten Bereich verwendet.Furthermore, an air conditioner for supplying air that is on a degree of purity is regulated which is higher than that of other areas in the work zone is for a front specific region in the work zone in the first area used.
Ferner ist die Luft, die auf eine höhere Reinheit geregelt wird, diejenige Luft, die durch den Hochleistungsfilter des Deckenfilterbereichs und eine Gebläsefiltereinheit, die einen zusätzlich angeordneten chemischen Filter und ein Sauggebläse aufweist, geleitet wird.Furthermore, the air is regulated to a higher purity the air that passes through the high-performance filter of the Ceiling filter area and a blower filter unit, the one additionally arranged chemical filter and a suction fan has, is directed.
Die auf höhere Reinheit geregelte Luft wird von einer sepa raten Zuführeinheit für chemikalienfreie Luft, die mit einem chemischen Filter und einem Hochleistungsfilter ausgestattet ist, zugeführt und direkt auf einer Führungsroute, die in einer Arbeitszone gebildet ist, zu einer vorbestimmten Region gefördert.The air, which is regulated for higher purity, is supplied by a sepa advise supply unit for chemical-free air with a chemical filter and a high-performance filter is fed and directly on a guide route that in a work zone is formed to a predetermined region promoted.
Eine Vorrichtung, die viele chemische Substanzen bzw. Chemi kalien verwendet und bei der die Wahrscheinlichkeit besteht, daß die chemischen Substanzen leicht austreten, ist ferner in der Arbeitszone eines zweiten Bereichs, der einer der Bereiche ist, angeordnet.A device that many chemical substances or Chemi used and where there is a likelihood that the chemical substances easily escape is also in the working zone of a second area, which is one of the Areas is arranged.
Luft mit derselben Reinheit wird ferner der gesamten Arbeits zone des zweiten Bereichs zugeführt, ein chemischer Filter ist zusätzlich an dem Umwälzkanal angeordnet, und die chemi kalienfreie Luft ohne den aus einer Vorrichtung austretenden Chemikaliennebel wird der Arbeitszone zugeführt.Air of the same purity will also work throughout zone of the second area fed a chemical filter is also arranged on the circulation channel, and the chemi free of air without the exiting from a device Chemical mist is fed into the work zone.
Ferner wird die aus der Zuführeinheit für chemikalienfreie Luft und die durch die Gebläsefiltereinheit geleitete Luft auf einem Chemikaliengehalt von 1 ppt bis 1 f gehalten.Furthermore, the feed unit for chemical-free Air and the air passed through the blower filter unit kept at a chemical content of 1 ppt to 1 f.
Die Erfindung wird nachstehend, auch hinsichtlich weiterer Merkmale und Vorteile, anhand der Beschreibung von Ausfüh rungsbeispielen und unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert. Die Zeichnungen zeigen in:The invention is set out below with respect to others Features and advantages, based on the description of exec example and with reference to the enclosed Drawings explained in more detail. The drawings show in:
Fig. 1 eine schematische Ansicht, die den Reinraum gemäß einer Ausführungsform der Erfindung zeigt; Fig. 1 is a schematic view showing the clean room according to an embodiment of the invention;
Fig. 2 eine schematische Ansicht, die einen Typ eines herkömmlichen Reinraums zeigt; und Fig. 2 is a schematic view showing one type of conventional clean room; and
Fig. 3 eine schematische Ansicht, die einen anderen Typ eines herkömmlichen Reinraums zeigt. Fig. 3 is a schematic view showing another type of a conventional clean room.
Der Reinraum einer Ausführungsform gemäß der Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben.The clean room of an embodiment according to the invention will below with reference to the accompanying drawings described.
Fig. 1 ist eine schematische Ansicht, die den Reinraum zeigt. Fig. 1 is a schematic view showing the clean room.
In Fig. 1 hat ein Reinraum 1 einen ersten Reinraum 1a und einen zweiten Reinraum 1b, die jeweils eine Klimaanlage haben, sowie eine Frischluft-Klimaanlage 2, die Außen- bzw. Frischluft ansaugt, Temperatur und Feuchtigkeit der Frisch luft regelt und die Luft dann dem Reinraum 1 zuführt, und eine Zuführeinheit 3 für chemikalienfreie Luft, in der ein chemischer Filter und ein Hochleistungs- oder Feinstfilter angeordnet sind. Der Reinraum 1 umfaßt eine Deckenkammer 4, der Luft von der Frischluft-Klimaanlage 2 zugeführt wird, eine Arbeitszone 5, in der Teile von Fertigungseinrichtungen 6 und 6a, Transportvorrichtungen 7a und 7b und Lagerungsvor richtungen 8a und 8b angeordnet sind und Arbeitsgänge ausge führt werden, sowie eine Versorgungszone 9, in der Antriebs einrichtungen und Einrichtungen zur Aufrechterhaltung der Umgebung angeordnet sind.In Fig. 1, a clean room 1 has a first clean room 1 a and a second clean room 1 b, each having an air conditioner, and a fresh air conditioner 2 , which sucks in outside or fresh air, regulates the temperature and humidity of the fresh air and that Air then supplies the clean room 1 , and a supply unit 3 for chemical-free air, in which a chemical filter and a high-performance or ultra-fine filter are arranged. The clean room 1 comprises a ceiling chamber 4 , the air from the fresh air conditioning system 2 is supplied, a working zone 5 , in the parts of manufacturing facilities 6 and 6 a, transport devices 7 a and 7 b and Lagerungsvor devices 8 a and 8 b are arranged and Operations are carried out, and a supply zone 9 , in the drive devices and devices for maintaining the environment are arranged.
Ein Deckenfilter 10, wie etwa ein Hochleistungsfilter (HEPA) oder ein Feinstfilter (ULPA), ist zwischen der Deckenkammer 4 und der Arbeitszone 5 angeordnet. Der Deckenfilter 10 liefert an die Arbeitszone 5 die Reinluft, die durch Entfernen von Fremdstoffen bis zu 0,1 µm oder größer aus der Luft in der Deckenkammer 4 bis zu 99,99% oder mehr erhalten wird. Eine Gebläsefiltereinheit 11 weist einen chemischen Filter und ein Sauggebläse auf, das zusätzlich an dem Deckenfilter 10 je nach Erfordernis angeordnet ist und die reine, chemikalien freie Luft ohne Chemikaliennebel einer vorbestimmten Region in der Arbeitszone 5 zuführt.A ceiling filter 10 , such as a high-performance filter (HEPA) or a fine filter (ULPA), is arranged between the ceiling chamber 4 and the working zone 5 . The ceiling filter 10 delivers the clean air to the working zone 5 , which is obtained by removing foreign matter up to 0.1 μm or larger from the air in the ceiling chamber 4 up to 99.99% or more. A blower filter unit 11 has a chemical filter and a suction fan, which is additionally arranged on the ceiling filter 10 as required and supplies the pure, chemical-free air without chemical mist to a predetermined region in the working zone 5 .
Ein Umwälzkanal 13 saugt die Luft in der Arbeitszone 5 durch einen Umlüfter 14, der für die Versorgungszone 9 vorgesehen ist, durch das Gitter 12 an und wälzt die Luft von der Ver sorgungszone 9 zu der Deckenkammer 4 um. Ein Umwälzluft-Tem peraturregler 15 ist an dem Umwälzkanal 13 angebracht. Ein chemischer Filter 16 ist an dem Umwälzkanal 13 angeordnet. Der chemische Filter 16 liefert die chemikalienfreie Luft ohne Chemikaliennebel durch den Umwälzkanal 13 an die Decken kammer 4. Die chemikalienfreie Luft ist diejenige Luft, in der die Konzentration von Chemikaliennebel, der zu chemischer Kontaminierung führt, in einem Bereich zwischen 1 ppt und 1 f geregelt ist.A circulation channel 13 sucks the air in the working zone 5 through a fan 14 , which is provided for the supply zone 9 , through the grille 12 and circulates the air from the supply zone 9 to the ceiling chamber 4 . A Umwälzluft-Tem temperature controller 15 is attached to the circulation channel 13 . A chemical filter 16 is arranged on the circulation channel 13 . The chemical filter 16 delivers the chemical-free air without chemical mist through the circulation channel 13 to the ceiling chamber 4th The chemical-free air is the air in which the concentration of chemical mist that leads to chemical contamination is regulated in a range between 1 ppt and 1 f.
In dem Reinraum 1 sind Klimatisierungssysteme, wie etwa der erste Reinraum 1a, in dem die Transportvorrichtungen 7a und 7b, die Lagerungsvorrichtungen 8a und 8b und die Fertigungs einrichtung 6, die kaum Chemikalien verwendet oder bei der die Wahrscheinlichkeit einer Abgabe daraus gering ist, ange ordnet, und der zweite Reinraum 1b, in dem die Fertigungs einrichtung 6b, die viele Chemikalien verwendet und bei der die Wahrscheinlichkeit eines Austritts daraus besteht, ange ordnet ist, in jeweils selbständigen Bereichen voneinander getrennt, und ein Klimatisierungssystem wird entsprechend einer geforderten Reinheit und einer Region, die die Reinheit erfordert, ausgewählt.In the clean room 1 are air conditioning systems, such as the first clean room 1 a, in which the transport devices 7 a and 7 b, the storage devices 8 a and 8 b and the manufacturing device 6 , which hardly uses chemicals or in which the likelihood of delivery from them is small, is arranged, and the second clean room 1 b, in which the manufacturing device 6 b, which uses a lot of chemicals and in which there is a likelihood of an escape, is arranged in separate areas, and an air conditioning system selected according to a required purity and a region that requires the purity.
Der Luftdruck in dem Reinraum 1 wird so geregelt, daß er um einen bestimmten Wert höher als der Außenluftdruck gehalten wird, indem der Luftdruck in dem Reinraum 1 ständig gemessen wird, so daß der Luftdruck durch das Öffnen oder Schließen einer Tür oder das Absaugen nicht gesenkt wird, um so den Eintritt von Fremdstoffen aus der Außenluft in den Reinraum 1 zu verhindern. Außerdem wird der Luftdruck derjenigen Bereichsseite, die auf eine höhere Reinheit geregelt wird, höher als derjenige des angrenzenden anderen Bereichs zwi schen den Bereichen gehalten, die jeweils ein in dem Reinraum 1 ausgebildetes Klimatisierungssystem haben. The air pressure in the clean room 1 is controlled so that it is kept higher than the outside air pressure by a certain value by continuously measuring the air pressure in the clean room 1 so that the air pressure is not lowered by opening or closing a door or suction is, so as to prevent the entry of foreign matter from the outside air into the clean room 1 . In addition, the air pressure of that area side which is regulated to a higher purity is kept higher than that of the adjacent other area between the areas which each have an air conditioning system formed in the clean room 1 .
Der erste Reinraum 1a, in dem die Transportvorrichtungen 7a und 7b, die Lagerungsvorrichtungen 8a und 8b und die Ein richtung 6, die kaum Chemikalien verwendet und aus der kaum solche Substanzen austreten, angeordnet sind, verwendet ein Klimatisierungssystem zur lokalen Zuführung von reiner, chemikalienfreier Luft, wobei die Gebläsefiltereinheit 11 zusätzlich an dem Deckenfilter 10 in der Region der Arbeits zone 5 vorgesehen ist, die die Zuführung von Chemikalien freier Luft verlangt, so daß reine chemikalienfreie Luft zu der Hängetransportvorrichtung 7a und dem offenen Reservoir 8a zugeführt wird oder die chemikalienfreie Luft, die von der Zuführeinheit 3 für chemikalienfreie Luft geliefert wird, der Transportvorrichtung 7b, die eine hermetisch ausgebildete Transportroute hat, und dem Reservoir 8b mit hermetischer Konstruktion durch ein Rohr zugeführt wird.The first clean room 1 a, in which the transport devices 7 a and 7 b, the storage devices 8 a and 8 b and the device 6 , which uses hardly any chemicals and from which hardly any substances escape, are arranged, uses an air conditioning system for local supply of pure, chemical-free air, wherein the blower filter unit 11 is additionally provided on the ceiling filter 10 in the region of the work zone 5 , which requires the supply of chemicals free air, so that pure chemical-free air to the hanging transport device 7 a and the open reservoir 8 a is supplied or the chemical-free air, which is supplied from the supply unit 3 for chemical-free air, the transport device 7 b, which has a hermetically formed transport route, and the reservoir 8 b with hermetic construction is fed through a pipe.
Der zweite Reinraum 1b, in dem die Einrichtungen 6a angeord net sind, die viele Chemikalien verwenden und eine hohe Wahrscheinlichkeit aufweisen, daß diese daraus austreten, verwendet ein Luftklimatisierungssystem, bei dem der chemi sche Filter 16 an dem Umwälzkanal 13 angeordnet ist, so daß die chemikalienfreie Luft ohne den in der Arbeitszone 5 erzeugten Chemikaliennebel zu der Deckenkammer 4 umgewälzt wird. Der chemische Filter 16 kann zwar auch dann Chemika liennebel entfernen und der Deckenkammer 4 chemikalienfreie Luft zuführen, wenn er in irgendeiner Position des Umwälz kanals 13 angeordnet ist, aber der Filter 16 ermöglicht es, zu verhindern, daß die Kanalwand kontaminiert wird, wenn er am Einlaß des Umwälzkanals 13 angeordnet wird.The second clean room 1 b, in which the devices 6 a are angeord net, which use many chemicals and have a high probability that they escape from it, uses an air conditioning system in which the chemical filter 16 is arranged on the circulation channel 13 , so that the chemical-free air is circulated to the ceiling chamber 4 without the chemical mist generated in the working zone 5 . The chemical filter 16 can also remove chemical mist and supply chemical-free air to the ceiling chamber 4 if it is arranged in any position of the circulation duct 13 , but the filter 16 makes it possible to prevent the duct wall from being contaminated when it is on Inlet of the circulation channel 13 is arranged.
Ferner wird der Luftdruck in dem zweiten Reinraum 1b niedri ger als der Luftdruck in dem ersten Reinraum 1a gehalten, um eine Kontaminierung des ersten Reinraums 1a zu verhindern, und er wird höher als der Außenluftdruck gehalten, um eine Kontaminierung des Reinraums 1b durch Außenluft zu verhin dern. Furthermore, the air pressure in the second clean room 1 b is kept lower than the air pressure in the first clean room 1 a in order to prevent contamination of the first clean room 1 a, and it is kept higher than the outside air pressure in order to contaminate the clean room 1 b to prevent it from outside air.
Gemäß der vorstehend beschriebenen Ausführungsform ist es möglich, die Ausbreitung von Chemikaliennebel bzw. -tröpfchen in einen Bereich, der ein anderes Klimatisierungssystem hat, dadurch zu vermeiden, daß der Reinraum 1 in eine Vielzahl von Bereichen aufgeteilt ist, die jeweils ein Klimatisierungs system haben, und daß die Fertigungseinrichtungen 6a, die viele Chemikalien verwenden und Chemikaliennebel erzeugen, im zweiten Reinraum 1b gemeinsam angeordnet werden. Außerdem ist es möglich, im Fall des ersten Reinraums 1a, in dem die Transportvorrichtungen 7a und 7b und die Lagerungsvorrich tungen 8a und 8b angeordnet sind, die Kosten der Klimatisie rungseinrichtung dadurch zu senken, daß dem Reinraum 1a je nach Bedarf chemikalienfreie Reinluft lokal zugeführt wird.According to the embodiment described above, it is possible to prevent the spread of chemical mist or droplets into an area that has a different air conditioning system by dividing the clean room 1 into a plurality of areas, each of which has an air conditioning system, and that the manufacturing facilities 6 a, which use many chemicals and generate chemical mists, are arranged together in the second clean room 1 b. In addition, it is possible, in the case of the first clean room 1 a, in which the transport devices 7 a and 7 b and the storage devices 8 a and 8 b are arranged, to reduce the costs of the air-conditioning device in that the clean room 1 a depending on Chemical-free clean air is supplied locally.
Wie vorstehend beschrieben ist, ermöglicht es die Erfindung, eine Kreuzkontaminierung oder wechselseitige Kontaminierung zwischen Bereichen zu verhindern, indem ein Reinraum in eine Vielzahl von Bereichen unterteilt wird, die jeweils ein Kli matisierungssystem haben, und eine minimale Luftmenge, die auf eine höhere Reinheit geregelt ist, bedarfsweise nur einem entsprechenden Bereich durch ein geeignetes Klimatisierungs system zuzuführen. Es ist daher möglich, die Kosten der Klimaanlage zu verringern.As described above, the invention enables cross-contamination or cross-contamination prevent between areas by placing a clean room in a Variety of areas is divided, each a Kli system and a minimal amount of air regulated to a higher purity, only one if necessary appropriate area by a suitable air conditioning feed system. It is therefore possible to reduce the cost of the Reduce air conditioning.
Claims (12)
- - eine Vielzahl von Bereichen, die jeweils folgendes auf
weisen: eine Deckenkammer (4), der die Luft, die durch
Regelung von Frischluft auf eine vorbestimmte Tempera
tur und Feuchtigkeit und einen vorbestimmten Staubfrei
heitswert in einem Frischluft-Klimagerät erhalten wird,
zugeführt wird;
einen Deckenfilterbereich (10), in dem ein Hochlei stungsfilter angeordnet ist;
eine Arbeitszone (5), der die Luft aus der Deckenkammer nach Reinigung durch den Deckenfilterbereich (10) zuge führt wird; und
eine Versorgungszone (9), die unter dem Gitterboden der Arbeitszone (5) liegt und in der Antriebs-Versorgungs geräte und Umgebungs-Erhaltungseinrichtungen angeordnet sind; und - - einen Umwälzkanal (13) zum Umwälzen der Luft von der Arbeitszone (5) zu der Deckenkammer (4) für jeden Be reich durch die Versorgungszone (9); wobei
- - jeder der Bereiche konditioniert bzw. klimatisiert ist.
- - A plurality of areas, each having the following: a ceiling chamber ( 4 ), the air obtained by regulating fresh air to a predetermined temperature and humidity and a predetermined dust-free value in a fresh air conditioner;
a ceiling filter area ( 10 ) in which a Hochlei stungsfilter is arranged;
a working zone ( 5 ), which leads the air from the ceiling chamber after cleaning through the ceiling filter area ( 10 ); and
a supply zone ( 9 ), which lies under the grid floor of the working zone ( 5 ) and in the drive supply devices and environmental conservation devices are arranged; and - - A circulation channel ( 13 ) for circulating the air from the work zone ( 5 ) to the ceiling chamber ( 4 ) for each loading area through the supply zone ( 9 ); in which
- - each of the areas is conditioned or air-conditioned.
daß Luft gleicher Reinheit der gesamten Arbeitszone des zweiten Bereichs zugeführt wird, daß ein chemischer Filter (16) zusätzlich an dem Umwälz kanal (13) angeordnet ist,
und daß die chemikalienfreie Luft ohne den aus einer Vor richtung austretenden Chemikaliennebel der Arbeitszone zugeführt wird. 9. Clean room according to one of claims 1 to 8, characterized in
that air of the same purity is supplied to the entire working zone of the second area, that a chemical filter ( 16 ) is additionally arranged on the circulation channel ( 13 ),
and that the chemical-free air is supplied to the working zone without the chemical mist emerging from a device.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8249529A JPH1096332A (en) | 1996-09-20 | 1996-09-20 | Clean room |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE19723954A1 true DE19723954A1 (en) | 1998-03-26 |
Family
ID=17194345
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19723954A Withdrawn DE19723954A1 (en) | 1996-09-20 | 1997-06-06 | Clean room |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1096332A (en) |
| KR (1) | KR19980024008A (en) |
| CN (1) | CN1135331C (en) |
| DE (1) | DE19723954A1 (en) |
| TW (1) | TW365641B (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10029200A1 (en) * | 2000-02-21 | 2001-08-23 | Data Disc Robots Gmbh | Production line for manufacturing optical data media has process climate control with conditioned air fed to limited region of production line and only air free of particles to other regions |
| EP1645813A2 (en) * | 2004-10-11 | 2006-04-12 | Alfred Reinicke | Process and installation of a clean room ventilation |
| EP2071248A1 (en) * | 2007-12-14 | 2009-06-17 | GE-Hitachi Nuclear Energy Americas LLC | Air Filtration and Handling for Nuclear Reactor Habitability Area |
| DE102007062813A1 (en) | 2007-12-21 | 2009-06-25 | Khs Ag | Partition, in particular for housing packaging machines for food |
| DE102008005606B3 (en) * | 2008-01-22 | 2010-04-15 | Khs Ag | Device for sealing vertical joints between plate-shaped wall elements |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2951949B1 (en) * | 1998-07-03 | 1999-09-20 | 富士電機総設株式会社 | Local air conditioning system for clean room |
| JP3375294B2 (en) * | 1998-12-17 | 2003-02-10 | 東京エレクトロン株式会社 | Processing apparatus, processing system, and method for supplying clean air in the apparatus |
| JP3287337B2 (en) * | 1999-07-14 | 2002-06-04 | 日本電気株式会社 | Fan filter unit |
| JP3476395B2 (en) * | 1999-09-24 | 2003-12-10 | Ｎｅｃエレクトロニクス株式会社 | Clean room and clean room air conditioning method |
| JP2002147811A (en) | 2000-11-08 | 2002-05-22 | Sharp Corp | Cleanroom |
| JP3631993B2 (en) * | 2001-11-21 | 2005-03-23 | 株式会社織部精機製作所 | Disaster prevention shelter system |
| JP2005340435A (en) * | 2004-05-26 | 2005-12-08 | Alps Electric Co Ltd | Clean sheet |
| CN100434642C (en) * | 2005-12-05 | 2008-11-19 | 亚翔系统集成科技（苏州）有限公司 | Modularized mfg. process factory building for liquid crystal display |
| JP4378652B2 (en) * | 2007-01-10 | 2009-12-09 | 株式会社ダイフク | Purified air ventilation-type goods storage facility |
| JP5408909B2 (en) * | 2008-06-05 | 2014-02-05 | 株式会社竹中工務店 | Clean room |
| CN104748265B (en) * | 2015-03-10 | 2017-09-26 | 芜湖锐进医疗设备有限公司 | Medical electric Ju Zuan clean rooms air cleaning system |
| CN105666528B (en) * | 2016-03-29 | 2018-12-07 | 威格气体纯化科技（苏州）股份有限公司 | Dust free room circulation filter, dust free room and glove box |
| CN106760700A (en) * | 2016-11-28 | 2017-05-31 | 中国铁塔股份有限公司长春市分公司 | A kind of base station machine room |
| CN106760675B (en) * | 2017-01-22 | 2019-01-18 | 中联西北工程设计研究院有限公司 | The high precision temperature control room in ultra-clean space and temperature control method |
| JP6911799B2 (en) * | 2018-03-15 | 2021-07-28 | 信越半導体株式会社 | Clean booth for silicon polycrystalline filling work |
| CN110469160A (en) * | 2019-08-12 | 2019-11-19 | 中国电子工程设计院有限公司 | A kind of toilet's arragement construction and clear production workshop with secondary humidifying system |
| KR20220012361A (en) * | 2019-07-23 | 2022-02-03 | 차이나 일렉트로닉스 엔지니어링 디자인 인스티튜트 컴퍼니 리미티드 | Partition Mode Controllable Clean Workshop |
| EP4071415A4 (en) * | 2019-12-04 | 2023-08-02 | Hitachi Global Life Solutions, Inc. | Air conditioning system |
-
1996
- 1996-09-20 JP JP8249529A patent/JPH1096332A/en active Pending
-
1997
- 1997-04-09 TW TW086104483A patent/TW365641B/en not_active IP Right Cessation
- 1997-04-18 KR KR1019970014470A patent/KR19980024008A/en not_active Application Discontinuation
- 1997-06-06 DE DE19723954A patent/DE19723954A1/en not_active Withdrawn
- 1997-07-21 CN CNB971154422A patent/CN1135331C/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10029200A1 (en) * | 2000-02-21 | 2001-08-23 | Data Disc Robots Gmbh | Production line for manufacturing optical data media has process climate control with conditioned air fed to limited region of production line and only air free of particles to other regions |
| EP1645813A2 (en) * | 2004-10-11 | 2006-04-12 | Alfred Reinicke | Process and installation of a clean room ventilation |
| EP1645813A3 (en) * | 2004-10-11 | 2006-08-16 | Alfred Reinicke | Process and installation of a clean room ventilation |
| EP2071248A1 (en) * | 2007-12-14 | 2009-06-17 | GE-Hitachi Nuclear Energy Americas LLC | Air Filtration and Handling for Nuclear Reactor Habitability Area |
| US9435552B2 (en) | 2007-12-14 | 2016-09-06 | Ge-Hitachi Nuclear Energy Americas Llc | Air filtration and handling for nuclear reactor habitability area |
| DE102007062813A1 (en) | 2007-12-21 | 2009-06-25 | Khs Ag | Partition, in particular for housing packaging machines for food |
| DE102007062813B4 (en) * | 2007-12-21 | 2009-11-12 | Khs Ag | Partition, in particular for housing packaging machines for food |
| DE102008005606B3 (en) * | 2008-01-22 | 2010-04-15 | Khs Ag | Device for sealing vertical joints between plate-shaped wall elements |
| US9175773B2 (en) | 2008-01-22 | 2015-11-03 | Khs Gmbh | Sealing device for sealing a vertical gap between adjacent wall panels, such as glass panes, which form part of a machine enclosure |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1135331C (en) | 2004-01-21 |
| TW365641B (en) | 1999-08-01 |
| JPH1096332A (en) | 1998-04-14 |
| KR19980024008A (en) | 1998-07-06 |
| CN1177709A (en) | 1998-04-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE19723954A1 (en) | Clean room | |
| DE19720663A1 (en) | Clean room for semiconductor mfr. obtained by particle filters | |
| DE69634687T2 (en) | AIR FILTER | |
| DE60013869T2 (en) | ATMOSPHERIC WAFER TRANSPORT MODULE WITH A CONTROLLED ENVIRONMENT | |
| EP1907761B1 (en) | Device and method for cooling and dehumidifying room air | |
| EP0978691B1 (en) | Clean room | |
| DE60033427T2 (en) | MUG, SPINNING, RINSING AND DRYING DEVICE AND METHOD FOR LOADING A SEMI-FINISHED WINDOW ON A SPIN, RINSE AND DRYING DEVICE | |
| DE102017126978A1 (en) | Apparatus and method for tempering workpieces | |
| DE19932735A1 (en) | Microelectronics manufacturing system cleaning method | |
| DE10213007A1 (en) | Method and device for controlling the indoor climate in a spinning process | |
| EP2418431B1 (en) | Air conditioning system with air conditioning device | |
| EP2568793A2 (en) | Assembly and method for air conditioning a room | |
| EP2244839B2 (en) | Painting system | |
| DE2036260A1 (en) | Pressure compensation system for hermetically sealed window units | |
| DE69727322T2 (en) | METHOD AND DEVICE FOR REDUCING NOISE FROM A FILTER FAN UNIT | |
| EP3023705B1 (en) | Production site comprising a closed building and a ventilation system and method for air-conditioning such a building | |
| EP0750529B1 (en) | Treatment cubicle and a method of ventilating a treatment cubicle | |
| DE4205347A1 (en) | Wet nitrogen process and assembly - used to generate ultra-clean conditions within a chemical process space | |
| DE10113548A1 (en) | Air cleaning device for air conditioning or cooling system has silver coating on exterior of evaporator and at least one gas ionizer, active carbon filter and fan | |
| DE3240842C2 (en) | Device for introducing large amounts of supply air into a room | |
| DE19913886A1 (en) | Plant for the production of semiconductor products | |
| DE624296C (en) | Process for obtaining allergen-free, low-germ air | |
| DE4209297C2 (en) | Treatment facility for the clean room area | |
| DE10023501C2 (en) | Method and device for air conditioning a room | |
| CH660910A5 (en) | Method for floods of a wall of an area surrounded with a gas. |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
| 8130 | Withdrawal |