DE19718799A1 - Abbildende und/oder in einem Rastermodus abtastende Vorrichtung mit einer Einrichtung zur Kompensation von Abbildungsverschlechterungen, die durch Umgebungseinflüsse verursacht werden - Google Patents
Abbildende und/oder in einem Rastermodus abtastende Vorrichtung mit einer Einrichtung zur Kompensation von Abbildungsverschlechterungen, die durch Umgebungseinflüsse verursacht werdenInfo
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Family Cites Families (8)
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|---|---|---|---|---|
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Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0922929A1 (de) * | 1997-12-10 | 1999-06-16 | Peter Heiland | In einem Rastermodus abtastende Vorrichtung mit einer Kompensation des Störeinflusses von mechanischen Schwingungen auf dem Abtastvorgang |
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| US7468836B2 (en) | 1999-10-29 | 2008-12-23 | Cytyc Corporation | Cytological imaging systems and methods |
| US7667890B2 (en) | 1999-10-29 | 2010-02-23 | Cytyc Corporation | Cytological imaging systems and methods |
| WO2002037158A3 (en) * | 2000-11-03 | 2003-01-30 | Cytyc Corp | Cytological imaging systems and methods |
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