DE19703691A1 - Abtastvorrichtung - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft eine Abtastvorrichtung, die z. B. in einem Laserstrahldrucker o. ä. verwendet wird, insbesondere die Einstellung einer solchen Abtastvorrichtung.

Eine Abtastvorrichtung enthält eine Laserquelle z. B. einen Halbleiterlaser, einen Polygonspiegel zum Ablenken der Laser­ strahlung und ein fθ-Linsensystem, die die Laserstrahlung auf eine Bildfläche, z. B. eine Fotoleitertrommel richtet, um Ab­ tastzeilen zu erzeugen. Allgemein sind die Elemente der opti­ schen Abtastvorrichtung auf einer horizontalen Fläche ange­ ordnet und befinden sich in einem flachen Gehäuse relativ ge­ ringer Höhe. In einem Laserstrahldrucker o. ä. befindet sich das Gehäuse über der Fotoleitertrommel, und die Laserstrah­ lung aus dem fθ-Linsensystem wird unter dem Gehäuse zur Foto­ leitertrommel mit einem Spiegel reflektiert.

Die Positionstoleranz der optischen Elemente der Abtastvor­ richtung wird mit zunehmender gewünschter Auflösung kleiner. Bei höherer Auflösung müssen die optischen Elemente also nach der Montage im Gehäuse fein eingestellt werden. Dies wird mit einer Prüfung der Neigung und Krümmung oder Wölbung der Bild­ ebene durch Messen der Größe des Strahlpunktes an der Stelle verbunden, wo sich die Bildfläche befinden wird, d. h. die Oberfläche der Fotoleitertrommel.

Die Neigung und die Wölbung der Bildebene kann durch Einstel­ len der optischen Elemente der Abtastoptik korrigiert werden. Allgemein sind viele Einstellungen und wiederholte Überprü­ fungen nötig.

Während der Prüfungen muß eine Prüfvorrichtung genau an der Position angeordnet sein, an der die Bildfläche liegen wird. Deshalb ist an dieser Stelle ein Träger für die Prüfvorrich­ tung erforderlich.

Da aber der vertikale Abstand zwischen dem Gehäuse und der Position der Fotoleitertrommel groß ist, verglichen mit der Vertikalabmessung des Gehäuses, ist auch der Träger für die Prüfvorrichtung groß.

Es ist Aufgabe der Erfindung, eine verbesserte optische Abta­ stvorrichtung anzugeben, die nach der Montage der optischen Elemente im Gehäuse leicht und effizient auf kleinem Raum eingestellt werden kann.

Die Erfindung löst diese Aufgabe durch die Merkmale des Pa­ tentanspruchs 1. Vorteilhafte Weiterbildungen sind Gegenstand der Unteransprüche.

Die Erfindung wird im folgenden an Hand der Zeichnungen näher erläutert. Darin zeigen:

Fig. 1 die perspektivische Darstellung einer optischen Ab­ tastvorrichtung,

Fig. 2 die Draufsicht der Abtastvorrichtung nach Fig. 1 in Hauptabtastrichtung,

Fig. 3 den Querschnitt der Abtastvorrichtung nach Fig. 1 in Nebenabtastrichtung,

Fig. 4 den optischen Aufbau der Abtastvorrichtung nach Fig. 1 in Hauptabtastrichtung,

Fig. 5 eine beispielsweise Darstellung der Anordnung von Lichtwellenleitern,

Fig. 6 eine beispielsweise Darstellung der Anordnung von Strahlpunkten auf einer Fotoleitertrommel,

Fig. 7 die Seitenansicht der Abtastvorrichtung bei dem Einstellprozeß, und

Fig. 8 eine perspektivische Darstellung eines fθ- Linsensystems sowie der resultierenden Bildebene.

Unter dem Begriff "Licht" ist im folgenden ein Strahlungs­ spektrum zu verstehen, das im sichtbaren und im unsichtbaren Bereich liegt.

Wie in den Fig. 3 und 4 gezeigt, enthält die Abtastvorrich­ tung eine Lichtübertragungseinheit 100, einen Polygonspiegel 180 und ein fθ-Linsensystem 190 (Abtastoptik). Im Betrieb werden acht Laserstrahlen von der Lichtübertragungseinheit 100 abgestrahlt, vom Polygonspiegel abgelenkt (abtastend) und durch das fθ-Linsensystem 190 geleitet, um acht Abtastzeilen auf einer fotoleitenden Oberfläche zu erzeugen, zum Beispiel auf einer Fotoleitertrommel 210.

In dieser Beschreibung ist eine "Hauptabtastrichtung" als ei­ ne Richtung definiert, in welcher ein Laserstrahl eine Ab­ tastbewegung über die Oberfläche eines fotoleitenden Elements ausführt, und eine "Nebenabtastrichtung" ist eine Richtung, in welcher das fotoleitende Element bewegt oder gedreht wird, um es für eine folgende Hauptabtastbewegung zu positionieren. Die Hauptabtastrichtung und die Nebenabtastrichtung sind senkrecht zueinander, und beide sind senkrecht zur optischen Achse der die Laserstrahlen übertragenden Linsen. Da ein La­ serstrahl gewöhnlich mehrere Male bei der Übertragung von der Lichtquelle zu einem fotoleitenden Element reflektiert oder "gefaltet" wird, sind die Hauptabtastrichtung und die Neben­ abtastrichtung nicht absolut, sondern bezogen auf die opti­ sche Achse an einem speziellen Punkt des optischen Weges.

In dieser Beschreibung ist in der Fig. 1 bis 4 ein XYZ-Koor­ dinatensystem definiert. Die X-Achse ist eine Achse parallel zur optischen Achse des fθ-Linsensystem 190, und die Y- und die Z-Achsen liegen rechtwinklig zueinander in der Ebene senkrecht zur X-Achse. Die Y-Achse liegt parallel zur Hauptabtastrichtung, und die Z-Achse liegt parallel zur Ne­ benabtastrichtung.

Wie in Fig. 1 gezeigt, enthält die Abtastvorrichtung weiter­ hin ein offenes Gehäuse l. Im Betriebszustand ist die obere Öffnung des Gehäuses 1 durch einen Gehäusedeckel 2 verschlos­ sen.

Wie in Fig. 4 gezeigt, enthält die Lichtübertragungseinheit 100 acht Halbleiterlaser 101 bis 108, acht Laserblöcke 310a bis 310h (jeder auf einem Träger 300 befestigt), die jeweils einem der Laser 101 bis 108 zugeordnet sind, acht optische Lichtwellenleiter (z. B. Lichtleitfaserbündel) 121 bis 128 aus Hartglas (Silikaglas), die jeweils einem der Laser 101 bis 108 zugeordnet sind, und einen Lichtwellenleiter-Ausricht­ block 130. Jeder Laser 101 bis 108 ist in dem zugehörigen La­ serblock 310a bis 310h so befestigt, daß sein Laserstrahl in den jeweils zugehörigen Lichtwellenleiter 121 bis 138 ein­ tritt. Außerdem werden die Eintrittsendabschnitte der opti­ schen Lichtwellenleiter 121 bis 128 von Lichtwellenleiter- Halteelementen 319a bis 319h an den jeweiligen Laserblöcken 310a bis 310h festgehalten. Der Lichtwellenleiter-Ausricht­ block 130 hält die Austrittsendabschnitte der optischen Lichtwellenleiter 121 bis 128 zum Ausrichten derart, daß acht Punktlichtquellen auf einer Geraden erzeugt werden.

Ein vom Lichtwellenleiter-Ausrichtblock 130 abgestrahltes di­ vergierendes Lichtbündel wird mit Hilfe einer Sammellinse 140 gebündelt, die durch einen zylindrischen Sammellinsentubus 340 gehalten wird, und durch eine Blende 142 hindurchgerich­ tet. Die Blende 142 hat eine rechteckige Durchtrittsöffnung, die in der Hauptabtastrichtung länger ist und -in der Hauptab­ tastrichtung und der Nebenabtastrichtung das aus der Sammel­ linse 140 austretende Lichtbündel begrenzt.

Das durch die Blende 142 hindurchtretende Lichtbündel wird auf einen Strahlteiler 144 gerichtet. Der Strahlteiler 144 teilt die Strahlung in einen Steuerstrahl und in einen Haupt­ strahl, der reflektiert wird. Die Durchlässigkeit des Strahl­ teilers 144 (d. h. die Menge des als Steuerstrahl hindurchge­ lassenen Lichtes) beträgt zum Beispiel zwischen 5 und 10 Pro­ zent als Mittelwert des S-polarisierten Lichtes und des P-po­ larisierten Lichtes.

Der Steuerstrahl wird in ein automatisches Leistungssteue­ rungs-Sensorsystem (ALS-Sensorsystem) 150 gerichtet. Dieses enthält eine Sammellinse 151 zum Bündeln des Steuerstrahls, einen Polarisationsstrahlteiler 153, der den Steuerstrahl in zwei linear polarisierte Komponenten aufteilt, die ortogonal zueinander sind, einen ersten ALS-Lichtsensor 155 und einen zweiten ALS-Lichtsensor 157.

Der erste und der zweite ALS-Lichtsensor 155 und 157 erfassen die Lichtenergie der entsprechenden linearen Polarisations­ komponente, und die Ausgangssignale der Lichtsensoren 155 und 157 werden für eine Regelung der Ausgangsleistung der Halb­ leiterlaser 101 bis 108 genutzt.

Der am Strahlteiler 144 reflektierte Hauptstrahl tritt durch ein dynamisches Prisma 160 hindurch. Das dynamische Prisma 160 ist in Richtung einer zur optischen Achse rechtwinkligen Achse drehbar gelagert, um die Lage des Auftreffpunktes in der Nebenabtastrichtung auf der Bildebene zu steuern. Das dy­ namische Prisma 160 ist vorzugsweise ein Keilprisma, das um die Hauptabtastrichtung drehbar gelagert ist, um den Haupt­ strahl in Richtung der Nebenabtastrichtung abzulenken. Das dynamische Prisma 160 berichtigt Änderungen der Lage der Bildpunkte (in der Nebenabtastrichtung) auf der Abtastebene, welche durch Neigungsfehler der reflektierenden Flächen des Polygonspiegels 180 und/oder durch eine ungleichmäßige Dre­ hung der Fotoleitertrommel 210 entstehen (vgl. Fig. 3 und die später folgenden Erläuterungen).

Der durch das dynamische Prisma 160 hindurchtretende Haupt­ strahl bildet mit Hilfe einer Zylinderlinse 170 ein lineares Bild in der Umgebung der Spiegeloberfläche des Polygonspie­ gels 180. Die Zylinderlinse 170 hat nur in der Nebenabta­ strichtung eine positive Brechkraft. Wie in den Fig. 1 und 2 gezeigt, wird die Zylinderlinse 170 durch einen zylindrischen Linsentubus 361 gehalten und besteht aus zwei Linsen 171, 173 mit positiver bzw. negativer Brechkraft in der Nebenabta­ strichtung.

Der Polygonspiegel 180 wird, wie in Fig. 3 gezeigt, durch ei­ nen Spiegelmotor 371 angetrieben (befestigt im Gehäuse 1) und rotiert im Uhrzeigersinn in der Darstellung der Fig. 2 (dargestellt durch einen Pfeil). Außerdem ist der Poly­ gonspiegel 180, wie in Fig. 1 gezeigt, von der Umgebung durch eine haubenartige Polygonabdeckung 373 getrennt, um Drehge­ räusche zu dämpfen und um Beschädigungen der Spiegeloberflä­ che durch Staub oder Schmutz in der Luft zu vermeiden.

Eine Lichtweg-Durchtrittsöffnung 373e befindet sich an der Seite der Polygonabdeckung 373, und ein Abdeckglas 375 ist in die Lichtweg-Durchtrittsöffnung 373e eingepaßt. Der durch die Zylinderlinse 170 hindurchtretende Hauptstrahl tritt in die Polygonabdeckung 373 durch das Abdeckglas 375 ein, wird durch den Polygonspiegel 180 abgelenkt und nach außen gerichtet, wobei er wieder durch das Abdeckglas 375 hindurchtritt. Auf der Oberseite des Polygonspiegels 180 ist weiterhin ein Kenn­ zeichen M befestigt oder einmarkiert, und ein Sensorblock 376 an der Oberseite der Polygonabdeckung 373 enthält einen Sen­ sor zum Erfassen des Kennzeichens M.

Ein Polygonspiegel kann Flächenfehler (Formfehler) auf den reflektierenden Flächen haben, die während der Herstellung entstanden sind. Diese Herstellungsfehler sind meist für die verschiedenen reflektierenden Flächen unterschiedlich (d. h. für die Seiten des Polygonspiegels). Um diese Flächenfehler auszugleichen, kann der Fehlerbetrag jeder Fläche des Poly­ gonspiegels 180 gemessen und in einem Speicher (nicht darge­ stellt) während der Herstellung der Abtastvorrichtung gespei­ chert werden. Durch Unterscheiden, welche Reflexionsfläche des Polygonspiegels 180 gerade für die Abtastbewegung verwen­ det wird, zum Beispiel mit dem Ausgangssignal des Sensors im Sensorblock 376, kann zumindest die Strahlposition und die Strahlintensität abhängig von dem Fehlerbetrag korrigiert werden, welcher jeder reflektierenden Fläche des Polygonspie­ gels 180 eigen ist.

Wie in Fig. 3 gezeigt, tritt der am den Polygonspiegel 180 reflektierte Hauptstrahl durch das fθ-Linsensystem 190 hin­ durch (ein optisches System zur Bilderzeugung) und wird an einem Faltungsspiegel 200 zur Fotoleitertrommel 210 reflek­ tiert, wobei acht Strahlpunkte entstehen. Die Strahlpunkte führen eine Abtastbewegung gemäß der Drehung des Polygonspie­ gel 180 aus, wobei acht Abtastzeilen pro Abtastbewegung auf der Fotoleitertrommel 210 entstehen. Die Fotoleitertrommel 210 wird angetrieben und rotiert in der Richtung eines Pfei­ les R synchron mit der Abtastbewegung der Strahlpunkte, um ein elektrostatisches latentes Bild auf der Fotoleitertrommel 210 zu erzeugen. Das latente Bild wird dann mit Hilfe eines bekannten elektrofotographischen Verfahrens entwickelt und auf ein Papierblatt (nicht dargestellt) übertragen.

Das fθ-Linsensystem 190 enthält eine erste, eine zweite, eine dritte und eine vierte Linse 191, 193, 194, 197, die in die­ ser Reihenfolge von der dem Polygonspiegel 180 zugewandten Seite zu der dem Faltungsspiegel 200 zugewandten Seite nega­ tive, positive, positive und negative Brechkraft sowohl in der Hauptabtastrichtung als auch in der Nebenabtastrichtung haben. Sie sind auf einem Linsenträger 380 angeordnet. Ihre Kombination in dem fθ-Linsensystem 190 bewirkt, daß der Lichtstrahl, der als Bild eine lineare Form in der Nebenabta­ strichtung auf dem Polygonspiegel 180 hatte, auf der Fotolei­ tertrommel 210 als Bild eine elliptische Form hat.

Die erste Linse 191 des fθ-Linsensystem 190 ist eine negative Linse mit einer konkaven sphärischen Oberfläche auf der dem Polygonspiegel 180 zugewandten Seite und einer zylindrischen Oberfläche mit negativer Brechkraft nur in der Nebenabta­ strichtung auf der dem Faltungsspiegel 200 zugewandten Seite. Die Oberflächen der Linse sind so entworfen, daß die erste Linse 191 eine vergleichsweise große negative (d. h. größere negative) Brechkraft in der Nebenabtastrichtung und eine ver­ gleichsweise geringe negative Brechkraft in der Hauptabta­ strichtung hat.

Die zweite Linse 193 des fθ-Linsensystem 190 ist eine menis­ kusförmige torische Linse mit einer konvexen sphärischen Oberfläche auf der dem Polygonspiegel 180 zugewandten Seite und einer konvexen torischen Oberfläche auf der dem Faltungs­ spiegel 200 zugewandten Seite. Die Oberflächen der Linse sind so gestaltet, daß die zweite Linse 193 eine vergleichsweise große positive (d. h. größere positive) Brechkraft in der Ne­ benabtastrichtung und eine vergleichsweise kleine positive Brechkraft in der Hauptabtastrichtung hat.

Die dritte Linse 195 ist eine positive Meniskuslinse mit zwei sphärischen Oberflächen.

Die vierte Linse 197 ist eine negative Meniskuslinse mit zwei sphärischen Oberflächen.

Der durch das fθ-Linsensystem 190 übertragene Hauptlichtfluß wird durch ein Synchronisations-Sensorsystem 220 bei jeder Abtastbewegung erfaßt (d. h. für jede Fläche des Polygonspie­ gels 180). Das Synchronisations-Sensorsystem 220 ist im opti­ schen Weg zwischen der vierten Linse 197 des fθ-Linsensystems 190 und dem Faltungsspiegel 200 angeordnet. Das Synchronisa­ tions-Sensorsystem 220 enthält einen ersten, einen zweiten und einen dritten Spiegel 221, 223, 225 und einen Synchroni­ sations-Lichtsensor 230, der die an den Spiegeln 221, 223, 225 reflektierte Strahlen empfängt. Der erste Spiegel 221 ist im optischen Weg vom Polygonspiegel 180 zum Faltungsspiegel 200 an einem Rand des Hauptabtastbereichs angeordnet, jedoch außerhalb des vorgegebenen Bilderzeugungsbereichs (nicht dar­ gestellt). Der zweite und der dritte Spiegel 223 und 225 sind außerhalb des optischen Weges auf der dem ersten Spiegel 221 abgewandten Seite angeordnet. Der Synchronisations-Lichtsen­ sor 230 ist in einer Position angeordnet, die der Position auf der Oberfläche der Fotoleitertrommel 210 optisch äquiva­ lent ist, auf der die Abtastung erfolgt. Somit werden die acht Lichtstrahlen bei jeder Hauptabtastbewegung nacheinander am ersten, zweiten und dritten Spiegel 221, 223, 225 reflek­ tiert und treffen auf den Synchronisations-Lichtsensor 230. Ein Ausgangssignal oder Ausgangssignale des Synchronisations- Lichtsensors 230 werden dann zur Synchronisation der Übertra­ gung der Bilddaten für eine Abtastbewegung von einer Steuerschaltung (nicht dargestellt) zum Ansteuern der Halbleiterlaser 101 bis 108 mit den Bilddaten verwendet.

Eine Abbildungsöffnung 11 im Gehäuse 1 ermöglicht, den am Faltungsspiegel 200 reflektierten Hauptstrahl (einschließlich der acht einzelnen Lichtstrahlen) zur Fotoleitertrommel 210 zu übertragen. Ein Abdeckglas 201 ist an der Abbildungsöff­ nung 11 befestigt.

Eine Inspektionsöffnung 12 ist hinter dem Faltungsspiegel 200 angeordnet. Diese wird beim Einstellen der optischen Elemente verwendet, nachdem (ausschließlich des Faltungsspiegels 200) sie montiert sind. Wie in Fig. 3 gezeigt ist die Inspektions­ öffnung 12 durch eine Abdeckplatte 13 beim normalen Gebrauch abgedeckt.

Wie Fig. 5 zeigt, sind die Austrittsendflächen 121b bis 128b der Lichtwellenleiter 121 bis 128 in dem Lichtwellenleiter- Ausrichtblock 130 mit vorbestimmten gegenseitigen Abständen längs einer geraden Linie angeordnet, die unter einem vorbe­ stimmten Winkel γ1 gegenüber der Hauptabtastrichtung geneigt ist, so daß sich eine Reihe Punktlichtquellen ergibt. Wie Fig. 6 zeigt, erzeugen diese Punktlichtquellen eine Reihe Strahlpunkte unter einem vorbestimmten Winkel γ2 auf einer Bildfläche, z. B. einer Fotoleitertrommel (die Bildfläche F ist in Fig. 8 gezeigt).

Die Einstellung der Abtastvorrichtung wird nun im einzelnen beschrieben. Wie Fig. 3 zeigt, sind eine Abbildungsöffnung 11 und eine Inspektionsöffnung 12 am Boden bzw. an der Seite des Gehäuses 1 angeordnet. Beim Betrieb wird die aus dem fθ-Lin­ sensystem 190 (d. h. Abbildungsoptik) austretende Strahlung an dem Faltungsspiegel 200 reflektiert und tritt durch die Ab­ bildungsöffnung 11, so daß sie auf die Oberfläche der Foto­ leitertrommel 210 (die Bildebene) trifft. Die Abbildungsöff­ nung 11 hat Rechteckform und ist größer als der Abtastbe­ reich, so daß die von dem Faltungsspiegel 200 kommende Strah­ lung die Fotoleitertrommel 210 erreichen kann.

Bei der Einstellung kann der Spiegel 200 vom Gehäuse 1 ent­ fernt werden, so daß die Strahlung die Inspektionsöffnung 12 erreicht. Diese ist auch rechteckförmig und größer als der Abtastbereich. Sie ist auf die optische Achse des fθ-Linsen­ systems 190 ausgerichtet, so daß nach Entfernen des Faltungs­ spiegels 200 die von dem fθ-Linsensystem 190 kommende Strah­ lung durch die Inspektionsöffnung 12 fällt. Wie oben be­ schrieben, hat diese eine Abdeckplatte 13, die bei ihrer Nichtbenutzung den Eintritt von Staub in das Gehäuse 1 ver­ hindert. Vorzugsweise ist die Abdeckplatte 13 mit dem Gehäuse 1 verschraubt, um ein zufälliges Lösen zu verhindern, und sie ist strahlungsundurchlässig bzw. undurchsichtig.

Fig. 7 zeigt die Abtastvorrichtung vor der Einstellung. Wäh­ rend der Einstellung ist sie auf einem Basisrahmen 410 mon­ tiert. Dieser hat Stützen 411, die das Gehäuse 1 horizontal tragen. Die Abdeckplatte 13 ist entfernt, so daß die Strah­ lung aus dem fθ-Linsensystem 190 durch die Inspektionsöffnung 12 parallel zur horizontalen Ebene des Gehäuses 1 austreten kann.

Der Basisrahmen 410 trägt eine Meßvorrichtung 400 zum Messen des Strahldurchmessers. Sie ist auf die optische Achse der aus der Inspektionsöffnung 12 austretenden Strahlung ausge­ richtet und hat eine Strahlungsaufnahmefläche.

Der Basisrahmen 410 hat einen besonderen Rahmen 420 für die Meßvorrichtung 400, nämlich eine auf ihm montierte Platte, zwei Führungsschienen 422 in Hauptabtastrichtung (Y-Richtung rechtwinklig zur Zeichenebene in Fig. 7) auf der Platte 420, Lager 423 auf jeder Führungsschiene 422 und einen an den La­ gern 423 befestigten Tisch. Ferner sind Führungsschienen 426 in Richtung der optischen Achse (X-Richtung) auf dem Tisch 425 angeordnet, auf denen Lager 427 beweglich geführt sind.

Schließlich hält eine Halteplatte 430 die Meßvorrichtung 400 auf den Lagern 427. Die Meßvorrichtung 400 kann somit in Hauptabtastrichtung (Y-Richtung) und in Richtung der opti­ schen Achse (X-Richtung) bewegt werden.

Die Feineinstellung des optischen Systems mit der Inspekti­ onsöffnung 12 wird im folgenden an Hand der Fig. 8 beschrie­ ben. Die Abtastvorrichtung wird bei der Herstellung zunächst montiert, und dann werden ihre Elemente durch Messen der Nei­ gung, Wölbung u.ä. der Bildebene fein eingestellt.

Hierbei wird der Polygonspiegel 180 (Fig. 7) stillgesetzt und ein einzelner Laser zur Strahlerzeugung verwendet. Diese Strahlung fällt durch die Inspektionsöffnung 12 und erzeugt einen stationären Punkt auf der Bildebene F in Fig. 8.

Der Punktdurchmesser wird an verschiedenen Positionen in X- Richtung der optischen Achse mit der Meßvorrichtung 400 ge­ messen, und die Position, bei der der Punktdurchmesser mini­ mal ist, ist die schmalste Stelle, d. h. die Bildposition.

Eine ähnliche Messung der Bildposition wird auch für ver­ schiedene Stellen in Hauptabtastrichtung vorgenommen (in Fig. 8 im mittleren Teil A und an den Enden B und C der Hauptabta­ stung, wie Fig. 8 zeigt), und die Neigung oder Krümmung der Bildebene wird aus den erhaltenen Daten berechnet.

Befindet sich beispielsweise in Fig. 8 eine Bildposition an der Stelle B′ und nicht an der Stelle B, und eine Bildposi­ tion an der Stelle C′ und nicht an der Stelle C, so kann dar­ aus abgeleitet werden, daß die Bildebene F in Pfeilrichtung D gekippt (oder gedreht) ist. In diesem Fall erfolgt die Ein­ stellung der Neigung einer geeigneten Linse in dem fθ-Linsen­ system 190 sowie weitere Feineinstellungen. Die Einstellung und die Messung werden wiederholt, bis die Bildpositionen an den Punkten B und C liegen.

Da die Meßvorrichtung 400 in derselben Ebene wie die Abtast­ vorrichtung angeordnet ist, kann sie in der gemeinsamen Ebene positioniert werden, was die Messungen und Einstellungen der Abtastvorrichtung gegenüber bisherigen Möglichkeiten erleich­ tert, bei denen die Meßvorrichtung unter dem Gehäuse 1 ange­ ordnet war. Ferner ist eine sehr genaue Positionierung der Meßvorrichtung 400 in Richtung der optischen Achse (X-Rich­ tung) und in Hauptabtastrichtung (Y-Richtung) leicht möglich.

Claims (7)

1. Abtastvorrichtung mit einem Abtastsystem, das eine Strah­ lungsquelle, eine Abtast-Ablenkvorrichtung für deren Strahlung, eine Abtastoptik zum Konvergieren der abge­ lenkten Strahlung und einen entfernbaren Spiegel für die konvergente Strahlung enthält, gekennzeichnet durch ein Gehäuse (1) mit einer ersten Öffnung (11), durch die die an dem Spiegel (200) reflektierte Strahlung hindurch­ tritt, und mit einer zweiten Öffnung (12), durch die die Strahlung bei entferntem Spiegel (200) hindurchtritt.

2. Abtastvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich­ net, daß die durch die erste Öffnung (11) fallende Strah­ lung der Abbildung dient, während die durch die zweite Öffnung (12) fallende Strahlung der Prüfung dient.

3. Abtastvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich­ net, daß das Abtastsystem (180, 190) in einer Ebene des Gehäuses (1) angeordnet ist, und daß die durch die zweite Öffnung (12) hindurchtretende Strahlung parallel zu die­ ser Ebene gerichtet ist.

4. Abtastvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprü­ che, dadurch gekennzeichnet, daß das Gehäuse (1) über ei­ ner Fotoleitertrommel (210) angeordnet ist.

5. Abtastvorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeich­ net, daß das Abtastsystem (180, 190) auf dem Boden des Gehäuses (1) montiert ist, und daß die erste Öffnung (11) in dem Boden und die zweite Öffnung (12) in einer Seite des Gehäuses (1) angeordnet ist.

6. Abtastvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprü­ che, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Öffnung (11) mit einer transparenten Abdeckung (201) versehen ist.

7. Abtastvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprü­ che, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Öffnung (12) mit einer strahlungsundurchlässigen Abdeckplatte versehen ist.