DE19628949A1 - Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma - Google Patents

Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma

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Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma in einem Unterdruckbehälter mit Hilfe von elektromagnetischen Wechselfeldern, wobei ein stabförmiger Leiter innerhalb eines Rohres aus isolierendem Werkstoff durch den Unterdruckbehälter geführt ist, wobei der Innendurchmesser des Rohres größer als der Durchmesser des Leiters ist, wobei das Rohr an beiden Enden durch Wände des Unterdruckbehälters gehalten und gegenüber den Wänden an seiner Außenfläche abgedichtet ist, wobei der Leiter an beiden Enden an Quellen zur Erzeugung der elektromagnetischen Wechselfelder angeschlossen ist (nach Patent 195 03 205.5) und wobei mehrere aus je einem stabförmigen Leiter und einem Rohr bestehende Vorrichtungen in dem Unterdruckbehälter angeordnet sind.
Bei einer derartigen im Hauptpatent beschriebenen Vorrichtung ist es für verschiedene Anwendungen vorteilhaft, die einzelnen Rohre dicht nebeneinander anzuordnen - beispielsweise Rohre mit einem Durchmesser von 30 mm in einem Abstand von 60 mm. Die Zuführung der Wechselfelder erfolgt bei bekannten Vorrichtungen, beispielsweise gemäß DE 41 36 297 A1 durch einen Hohlleiter, der senkrecht zu mehreren nebeneinander angeordneten Mikrowellen-Erzeugungseinrichtungen verläuft. Für jede der Mikrowellen-Erzeugungseinrichtungen ist im Hohlleiter eine Koppeleinrichtung vorgesehen, welche die Auskopplung eines Teils der in dem Hohlleiter geführten Energie zur jeweiligen Plasmaerzeugungseinrichtung vornimmt. Dabei ist der Abstand der einzelnen Koppeleinrichtungen und damit der Plasmaerzeugungseinrichtungen auf die Hälfte der Wellenlänge oder auf ein ganzzahliges Vielfaches davon beschränkt. Bei vielen Anwendungsfällen der Vorrichtung nach dem Hauptpatent ist es jedoch vorteilhaft, die einzelnen Rohre (Mikrowellen-Erzeugungseinrichtungen) dichter nebeneinander anzuordnen.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, bei einer Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma nach dem Hauptpatent die Zuführung der Wechselfelder auch bei dicht nebeneinander liegenden Rohren zu ermöglichen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß zur Zuführung der elektromagnetischen Wechselfelder zu den Leitern mehrerer jeweils nebeneinander liegender Rohre an jeweils einem der Enden ein Verteiler mit einem Eingang, mit sich verzweigenden Koaxialleitungen und mit Ausgängen vorgesehen ist, die jeweils mit einem der Leiter verbunden sind.
Dabei wird eine stabile, betriebssichere und zur Übertragung hoher Leistungen geeignete Vorrichtung insbesondere dadurch erzielt, daß ein Verteiler jeweils aus einem massiven Metallblock, vorzugsweise aus einem Aluminiumblock, besteht, in welchem die Koaxialleitungen in Form von Kanälen mit jeweils einem Innenleiter eingebracht sind.
Je nach Voraussetzungen im einzelnen können durch einen Verteiler zwei, vier oder auch mehr Leiter mit Wechselfeldern versorgt werden. Bei einer größeren Anzahl von Leitern bzw. Rohren können mehrere Verteiler angeordnet werden, wobei dann vorzugsweise vorgesehen ist, daß dem Eingang jeweils eines Verteilers das Wechselfeld über einen Hohlleiter zuführbar ist.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Zeichnung dargestellt und in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert.
Die dargestellte erfindungsgemäße Vorrichtung umfaßt einen Unterdruckbehälter 1, von dem lediglich zwei Wände 2, 3 dargestellt sind, in denen Glasrohre 41 bis 48 gelagert sind, in denen sich jeweils ein stabförmiger Leiter 51 bis 58 befindet. Einzelheiten zur Lagerung der Glasrohre sowie zur Abdichtung gegenüber den Wänden 2, 3 sind dem Hauptpatent entnehmbar.
Den stabförmigen Leitern 51 bis 58 werden von beiden Enden hochfrequente Wechselfelder zugeführt. Dazu dient jeweils ein Mikrowellen-Generator 6, 7, dessen Ausgang mit einem Hohlleiter 8, 9 verbunden ist. Jeweils zwei Koppeleinrichtungen 10, 11; 12, 13 in den Hohlleitern 8, 9 koppeln einen Teil der Energie aus den Hohlleitern 8, 9 aus und führen ihn in jeweils eine Eingangsöffnung 22, 23, 24, 25 eines Verteilers 14, 15; 16, 17. Die durch die Öffnungen 22, 23, 24, 25 eingekoppelten Leistungen können durch die Öffnungsdurchmesser, durch die geometrische Form der Koppeleinrichtungen sowie durch Abstimmstifte individuell angepaßt werden, so daß von Rohr zu Rohr eine homogene oder beabsichtigte inhomogene Plasmabildung erfolgt.
Zwei in Richtung der Doppelpfeile bewegliche Abstimmstifte 26, 27 sind beispielhaft in der Figur dargestellt. Diese wirken auf die Leistung aller an die Verteiler 15, 17 angeschlossenen Rohre 45 bis 48. Abstimmstifte können auch in den verzweigten Teilen der Koaxialleitungen angeordnet sein, wobei sie dann auf die jeweils angeschlossenen Rohre oder einzelne Rohre wirken. In der Figur sind die Abstimmstifte 26, 27 in der Zeichenebene dargestellt, um deren Verschiebbarkeit zu veranschaulichen. Sie können jedoch auch in einem anderen Winkel angeordnet sein, beispielsweise senkrecht zur Zeichenebene.
Die Koaxialleitung 18, 19, 20, 21 verzweigt sich jeweils zu vier Ausgängen, die mit jeweils einem Ende der stabförmigen Leiter 51 bis 58 verbunden sind. Die Innenleiter können durch Abstandshalter aus Nichtleitern, beispielsweise Teflon oder Keramik, gestützt sein. Durch die Koaxialleitungen kann ein Kühlmittel, beispielsweise Luft, strömen.

Claims (3)

1. Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma in einem Unterdruckbehälter mit Hilfe von elektromagnetischen Wechselfeldern, wobei ein stabförmiger Leiter innerhalb eines Rohres aus isolierendem Werkstoff durch den Unterdruckbehälter geführt ist, wobei der Innendurchmesser des Rohres größer als der Durchmesser des Leiters ist, wobei das Rohr an beiden Enden durch Wände des Unterdruckbehälters gehalten und gegenüber den Wänden an seiner Außenfläche abgedichtet ist, wobei der Leiter an beiden Enden an Quellen zur Erzeugung der elektromagnetischen Wechselfelder angeschlossen ist (nach Patent 195 03 205.5) und wobei mehrere aus je einem stabförmigen Leiter und einem Rohr bestehende Vorrichtungen in dem Unterdruckbehälter angeordnet sind, dadurch gekennzeichnet, daß zur Zuführung der elektromagnetischen Wechselfelder zu den Leitern (51 bis 58) mehrerer jeweils nebeneinander liegender Rohre (41 bis 48) an jeweils einem der Enden ein Verteiler (14 bis 17) mit einem Eingang, mit sich verzweigenden Koaxialleitungen (18 bis 21) und mit Ausgängen vorgesehen ist, die jeweils mit einem der Leiter (51 bis 58) verbunden sind.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Verteiler (14 bis 17) jeweils aus einem massiven Metallblock, vorzugsweise aus einem Aluminiumblock, besteht, in welchem die Koaxialleitungen (18 bis 21) in Form von Kanälen mit jeweils einem Innenleiter eingebracht sind.
3. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß dem Eingang jeweils eines Verteilers (14 bis 17) das Wechselfeld über einen Hohlleiter (8, 9) zuführbar ist.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19801366A1 (de) * 1998-01-16 1999-07-22 Leybold Systems Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma
WO2000016374A1 (de) * 1998-09-12 2000-03-23 Balzers Und Leybold Deutschland Holding Ag Vorrichtung zur plasmatechnischen abscheidung von polykristallinem diamant
DE19928876A1 (de) * 1999-06-24 2000-12-28 Leybold Systems Gmbh Vorrichtung zur lokalen Erzeugung eines Plasmas in einer Behandlungskammer durch Mikrowellenanregung
DE19955671A1 (de) * 1999-11-19 2001-05-31 Muegge Electronic Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma
DE10138693A1 (de) * 2001-08-07 2003-07-10 Schott Glas Vorrichtung zum Beschichten von Gegenständen
DE102004039468A1 (de) * 2004-08-14 2006-03-02 Gschwandtner, Alexander, Dr.phil. Vorrichtung zur Erzeugung angeregter und/oder ionisierter Teilchen in einem Plasma
EP2139303A1 (de) * 2007-03-30 2009-12-30 Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. Plasmaerzeugungsvorrichtung und plasmafilmbildungsvorrichtung

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1324464A (en) * 1971-07-01 1973-07-25 Standard Telephones Cables Ltd Electric commutator arrangement
DE68926923T2 (de) * 1988-03-16 1996-12-19 Hitachi Ltd Mikrowellenionenquelle
DE4136297A1 (de) * 1991-11-04 1993-05-06 Plasma Electronic Gmbh, 7024 Filderstadt, De Vorrichtung zur lokalen erzeugung eines plasmas in einer behandlungskammer mittels mikrowellenanregung
US5230740A (en) * 1991-12-17 1993-07-27 Crystallume Apparatus for controlling plasma size and position in plasma-activated chemical vapor deposition processes comprising rotating dielectric
US5223809A (en) * 1992-04-24 1993-06-29 At&T Bell Laboratories Signal isolating microwave splitters/combiners

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6161501A (en) * 1998-01-16 2000-12-19 Leybold Systems Gmbh Device for plasma generation
DE19801366A1 (de) * 1998-01-16 1999-07-22 Leybold Systems Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma
DE19801366B4 (de) * 1998-01-16 2008-07-03 Applied Materials Gmbh & Co. Kg Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma
US6487986B1 (en) 1998-09-12 2002-12-03 Unaxis Deutschland Holding Gmbh Device for the plasma deposition of a polycrystalline diamond
WO2000016374A1 (de) * 1998-09-12 2000-03-23 Balzers Und Leybold Deutschland Holding Ag Vorrichtung zur plasmatechnischen abscheidung von polykristallinem diamant
DE19928876A1 (de) * 1999-06-24 2000-12-28 Leybold Systems Gmbh Vorrichtung zur lokalen Erzeugung eines Plasmas in einer Behandlungskammer durch Mikrowellenanregung
DE19955671B4 (de) * 1999-11-19 2004-07-22 Muegge Electronic Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma
DE19955671A1 (de) * 1999-11-19 2001-05-31 Muegge Electronic Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma
DE10138693A1 (de) * 2001-08-07 2003-07-10 Schott Glas Vorrichtung zum Beschichten von Gegenständen
DE102004039468A1 (de) * 2004-08-14 2006-03-02 Gschwandtner, Alexander, Dr.phil. Vorrichtung zur Erzeugung angeregter und/oder ionisierter Teilchen in einem Plasma
DE102004039468B4 (de) * 2004-08-14 2008-09-25 R3T Gmbh Rapid Reactive Radicals Technology Vorrichtung zur Erzeugung angeregter und/oder ionisierter Teilchen in einem Plasma
EP2139303A1 (de) * 2007-03-30 2009-12-30 Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. Plasmaerzeugungsvorrichtung und plasmafilmbildungsvorrichtung
EP2139303A4 (de) * 2007-03-30 2010-11-10 Mitsui Shipbuilding Eng Plasmaerzeugungsvorrichtung und plasmafilmbildungsvorrichtung

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