DE19600514A1 - Teilchenstrahl - Zeichendatenerzeugungsvorrichtung und Teilchenstrahl - Zeichensystem - Google Patents
Teilchenstrahl - Zeichendatenerzeugungsvorrichtung und Teilchenstrahl - ZeichensystemInfo
- Publication number
- DE19600514A1 DE19600514A1 DE19600514A DE19600514A DE19600514A1 DE 19600514 A1 DE19600514 A1 DE 19600514A1 DE 19600514 A DE19600514 A DE 19600514A DE 19600514 A DE19600514 A DE 19600514A DE 19600514 A1 DE19600514 A1 DE 19600514A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- micrographic
- data processing
- graphic
- graphics
- processing result
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
- H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. programme control
- H01J37/3023—Programme control
- H01J37/3026—Patterning strategy
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
- H01J2237/3175—Lithography
- H01J2237/31776—Shaped beam
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine Teilchenstrahl-Zeichendaten
erzeugungsvorrichtung und ein Teilchenstrahl-Zeichensystem,
wobei die Erzeugung von mikrografischen Zeichen bzw. Mikro
grafiken, die eine Verschlechterung der dimensionsmäßigen
Präzision bewirken, deutlich verringert ist.
Elektronenstrahlzeichnen wird wegen seiner hochfeinen Bear
beitungscharakteristiken und seiner guten Steuerbarkeit
weitgehend zur Herstellung von Masken angewandt, die bei der
Herstellung von Halbleiter-Bauelementen, insbesondere von
hochintegrierten Schaltkreisen (LSI-Schaltkreisen) einge
setzt werden.
Das Zeichensystem beim Elektronenstrahlzeichnen kann in zwei
Typen unterteilt werden, und zwar das Rasterscan- und das
Vektorscan-Verfahren. Das Rasterscan-Verfahren wird wegen
der Einfachheit des Apparateaufbaus und der einfachen Er
zeugung von Zeichendaten vielfach für die Herstellung von
Masken verwendet. Ein Problem beim Rasterscan-Verfahren ist,
daß die Zeichengeschwindigkeit weitgehend von der Größe der
Schreibzeichen und der kleinsten Rastergröße (entsprechend
der Adreßeinheitsgröße) zum Bezeichnen der Zeichenposition
abhängig ist. Wenn dieses Rasterscan-Verfahren in der Praxis
zur Erzeugung von Masken angewandt wird, die feine Adreß
einheiten verlangen (entsprechend der kleinsten Einheit, die
eine Zeichengrafik ausdrücken kann), wie etwa ein dynami
scher 64-Mbit-RAM usw., gibt es Fälle, in denen das Schrei
ben von Zeichen mit dem Rasterscan-Verfahren wegen der
extrem langen Schreibdauer nicht möglich ist.
In den letzten Jahren hat daher ein variables Strahlform
verfahren, das ein System vom Vektorscan-Typ ist, die Auf
merksamkeit auf sich gezogen. Dieses Zeichen- bzw. Schreib
system mit variabler Strahlformung besteht darin, daß ein
Elektronenstrahl entsprechend der Größe der Zeichengrafik
geformt und die Strahlen nur auf den erforderlichen Bereich
gerichtet werden. Aus diesem Grund ist es mit diesem Zei
chensystem möglich, eine hohe Zeichengeschwindigkeit zu
erreichen und gleichzeitig die Adreßeinheitsgröße mit einer
kleineren Größe vorzugeben. Von dem variablen Strahlformver
fahren wird daher angenommen, daß es die Grundlage für das
direkte Zeichnen mit Elektronenstrahl zur Herstellung von
Masken für Bauelemente nach dem 64M-DRAM und der Entwicklung
von Bauelementen nach einem 1G-DRAM bilden wird.
Das variable Strahlformverfahren bietet zwar die vorstehend
angegebenen Vorteile, es besteht dabei aber auch das Problem
bei der Erzeugung von Zeichendaten, daß eine längere Verar
beitungszeit benötigt wird, und zwar wegen der Komplexität
der Verarbeitung gegenüber dem Rasterscan-Verfahren.
Nachstehend wird der Vorgang der Erzeugung von Schreib- bzw.
Zeichendaten und der Schreibvorgang bei dem Zeichensystem
mit variabler Strahlformung beschrieben.
Fig. 26 zeigt einen Teil von Entwurfsstrukturdaten (entspre
chend Entwurfslayoutdaten) eines LSI-Schaltkreises, der
normalerweise als ein Polygon ausgebildet ist (dabei sind
Koordinatendaten an jedem Scheitelpunkt angeordnet). Wie
oben erläutert wurde, ist es zum Zeichnen dieser Entwurfs
strukturdaten mit dem Zeichensystem mit variabler Elektro
nenstrahlformung zuerst einmal notwendig, die Entwurfs
struktur in Grundgrafiken wie Rechtecke, Quadrate, Dreiecke,
Trapeze usw. (nachstehend einfach als "Grundgrafik" oder
"Trapez" bezeichnet) zu teilen. Die Fig. 27 und 28 zeigen
Beispiele, wobei das Polygon von Fig. 26 in zwei Grund
grafiken geteilt ist, indem eine Teilungslinie von den
jeweiligen Scheitelpunkten des Polygons von Fig. 26 in der
Horizontal- bzw. der Vertikalrichtung eingefügt wird.
Als nächstes folgt die Beschreibung des Vorgangs des eigent
lichen Schreibens von grafischen Zeichen unter Verwendung
von Zeichendaten, die nach der oben beschriebenen Aufteilung
in Grundgrafiken verarbeitet werden.
Wenn die Strukturdaten in dem schraffierten Teil, der in den
in Horizontalrichtung geteilten Zeichendaten von Fig. 27 zu
sehen ist, in das Elektronenstrahl-Zeichensystem eingegeben
werden, formt das Elektronenstrahl-Zeichensystem zuerst
einen Elektronenstrahl mit einer Größe der Breite WS1 und
der Höhe HS1 mit Hilfe einer Ablenkeinrichtung zum Formen
des Elektronenstrahls.
Dann wird der Elektronenstrahl in die Belichtungsposition
(x1, y1), die in Fig. 27 gezeigt ist, von einer Ablenkein
richtung bewegt, die die Belichtungsposition des Elektro
nenstrahls im Inneren des Zeichensystems bezeichnet, und der
Elektronenstrahl wird auf einen Fotolack gerichtet, der auf
ein Objekt wie etwa eine Maskenplatte, ein Siliziumwafer
usw. aufgebracht ist, und zwar für eine Dauer, die der zur
Sensibilisierung des Fotolacks erforderlichen Belichtung
entspricht. Als nächstes werden die Grafikdaten des schraf
fierten Teils der Zeichendaten von Fig. 27 in das Elektro
nenstrahl-Zeichensystem eingegeben, und das Zeichnen mit
Elektronenstrahl wird auf die gleiche Weise ausgeführt.
Durch sukzessives Wiederholen dieses Vorgangs für sämtliche
Strukturen des LSI-Schaltkreises wird das Zeichnen aller
Strukturen in dem LSI-Schaltkreis ausgeführt.
Das oben beschriebene Zeichensystem mit variabler Elektro
nenstrahlformung weist bei der Erzeugung von Schreibdaten
zwei Probleme auf:
1) Das eine Problem tritt auf, wenn die Entwurfslayoutdaten
in Grundgrafiken unterteilt werden, die von dem Zeichen
system mit variabler Elektronenstrahlformung gezeichnet
werden können. Ein solcher Teilungsvorgang wird nachstehend
als "Trapezteilung" bezeichnet; das Problem wird nachstehend
im einzelnen erläutert.
Die Layoutdaten des Entwurfs gemäß Fig. 26 werden in die
Elektronenstrahl-Zeichendaten (nachstehend einfach "Zeichen
daten" genannt) umgesetzt, und das Zeichnen erfolgt auf der
Maske unter Nutzung dieser Zeichendaten. Eine Fotolack
struktur wird auf der Maske gebildet, indem eine Fotolack
entwicklung dieser Zeichnung erfolgt. Fig. 29 zeigt die
Fotolackstruktur. Nun wird auf die dimensionsmäßige Genau
igkeit der Struktur an dem Bereich geachtet, der durch die
Breite Wm dieser Fotolackstruktur bestimmt ist, um Faktoren
zu erläutern, die eine Verschlechterung der Genauigkeit
bewirken. Faktoren, die sich auf Bedingungen des Struktur
formungsvorgangs beziehen, wie etwa die Fotolackentwicklung
usw., werden dabei jedoch nicht berücksichtigt.
In dem Fall, in dem die Entwurfslayoutdaten gemäß Fig. 26
mit einer Trennlinie in der Horizontalrichtung entsprechend
Fig. 27 geteilt sind, ist der Faktor, der die Dimension der
Breite Wm von Fig. 29 beeinflußt, nur die Formgenauigkeit
des Elektronenstrahls, der entsprechend der Grafik in dem
schraffierten Teil von Fig. 27 geformt wird, d. h. die
dimensionsmäßige Genauigkeit des Elektronenstrahls des Be
reichs, der der Breite WS1 entspricht.
Wenn andererseits die Entwurfslayoutdaten mit einer Tei
lungslinie in der Vertikalrichtung entsprechend Fig. 28
geteilt sind, sind die Faktoren, die einen Einfluß auf die
Dimension der Breite Wm von Fig. 29 haben, die Genauigkeit
der Einstrahlposition (x1, y1) des Elektronenstrahls ent
sprechend dem schraffierten Teil von Fig. 28, die Genauig
keit der Einstrahlposition (x2, y2) des Elektronenstrahls
entsprechend dem gestrichelt gezeichneten Teil und seiner
Formgenauigkeit (d. h. der Breite WS2). In diesem Fall ist
der Faktor nicht durch die Formgenauigkeit (d. h. die Breite
WS1) des Elektronenstrahls entsprechend dem schraffierten
Teil gebildet. Infolgedessen erhöht sich im Fall von Fig. 28
die Anzahl der Faktoren, die einen Einfluß auf die dimen
sionsmäßige Genauigkeit der Fotolackstruktur haben, um zwei
gegenüber dem Fall, in dem die Struktur mit einer Teilungs
linie in der Horizontalrichtung wie in Fig. 27 geteilt wird.
Die Fig. 30 und 31 zeigen Meßergebnisse von Dimensionen der
Fotolackstrukturen auf der Maske, die durch Bilden einer
großen Anzahl von Fotolackstrukturen unter Nutzung von
Zeichendaten verschiedener Teilungsmethoden gemäß Fig. 27
bzw. Fig. 28 erhalten wurden. Von diesen Zeichnungen zeigt
Fig. 30 Abweichungen der Fotolackstruktur im Fall der Ver
wendung von Zeichendaten, die in Fig. 27 angegeben sind, und
zwar einen Fall, in dem die Fotolackstruktur des Bereichs
der Breite Wm in Fig. 29 durch Belichten mit einem Elektro
nenstrahlschuß gebildet wird. Andererseits zeigt Fig. 31 das
Ergebnis im Fall der Verwendung von Zeichendaten entspre
chend Fig. 28, also einen Fall, in dem die Fotolackstruktur
des Bereichs der Breite Wm in Fig. 29 durch Belichten mit
zwei Elektronenstrahlschüssen aus verschiedenen Einstrahl
positionen ((x1, y1), (x2, y2)) gebildet ist. In beiden
Figuren bezeichnet Wd den zentralen bzw. Mittenwert.
Wie aus den Fig. 30 und 31 ersichtlich ist, beträgt in dem
Fall, in dem die Fotolackstruktur durch Belichten mit einem
Schuß des Elektronenstrahls gebildet ist, die Abweichung der
Dimension der Fotolackstruktur ca. ± 0,025 µm, wohingegen
diese Abweichung der Dimension der Fotolackstruktur auf
ungefähr ± 0,075 µm zunimmt, wenn die Fotolackstruktur durch
Belichten mit zwei Schüssen des Elektronenstrahls gebildet
wird. Es versteht sich also, daß die Abweichung der Dimen
sion der Fotolackstruktur, d. h. die Verschlechterung der
dimensionsmäßigen Präzision, in dem Fall stärker ausgeprägt
ist, in dem die Fotolackstruktur durch Belichten mit zwei
Elektronenstrahlschüssen gegenüber dem Fall der Belichtung
mit nur einem Elektronenstrahlschuß gebildet ist. Anders
ausgedrückt bedeutet das, daß die Präzision der Dimension
der Fotolackstruktur durch die Art und Weise der Teilung der
Entwurfslayoutdaten zum Zeitpunkt der Erzeugung der Zeichen
daten stark beeinflußt wird. Das ist eines der Probleme, die
bei der Erzeugung von Zeichendaten mit der variablen Elek
tronenstrahlformung auftreten.
2) Das zweite Problem besteht darin, daß bei der Bildung der
Fotolackstruktur durch Belichten mit nicht weniger als zwei
Schüssen des Elektronenstrahls aus verschiedenen Einstrahl
positionen die dimensionsmäßige Genauigkeit der gebildeten
Fotolackstruktur dann weiter abnimmt, wenn der die Ränder
der Fotolackstruktur bildende Schuß extrem kleine Größe hat.
Dieser Aspekt wird unter Bezugnahme auf die Fig. 32 bis 35
beschrieben.
Fig. 32 zeigt ein Beispiel von Positionsdaten von Zeichen
grafik in einem Fall, in dem das Zeichnen mit einem Schuß
des Elektronenstrahls durchgeführt wird. Das Diagramm von
Fig. 33 zeigt die Intensitätsverteilung des Elektronen
strahls, der zu der in Fig. 32 gezeigten Gestalt geformt
ist. Wie Fig. 33 zeigt, ist die Intensitätsverteilung des
Elektronenstrahls nicht vollkommen viereckig, sondern läuft
an den Rändern x1, x2 nach. Die Neigung der Intensitätsver
teilung an den Rändern (nachstehend als "Strahlschärfe"
bezeichnet) ändert sich mit der Größe des geformten Strahls.
Im allgemeinen ist die Coulombsche Abstoßung im Inneren des
Elektronenstrahls umso größer, je größer der geformte Strahl
ist, und infolgedessen nimmt die Strahlschärfe ab, und die
Intensitätsverteilung an den Rändern wird unscharf.
Fig. 35 zeigt die Intensitätsverteilung des Elektronen
strahls in einem Fall, in dem eine Struktur gleicher Größe
wie die Zeichengrafik von Fig. 32 mit zwei Elektronenstrahl
schüssen belichtet wird, wobei der mit einem Elektronen
strahlschuß auf der linken Seite gebildete Bereich extrem
geringe Größe hat (siehe Fig. 34). In dem in Fig. 35 ge
zeigten Fall ist die Intensitätsverteilung an dem Randbe
reich (entsprechend einem Bereich der Position x1 auf der
linken Seite) von derjenigen beim Zeichnen mit einem Schuß
verschieden (siehe Fig. 33), und das führt zu einer Dif
ferenz der Dimension der gebildeten Fotolackstruktur. In
diesem Fall tritt zusätzlich zu diesem Problem ein weiteres
Problem auf, daß es nämlich vom Aspekt der Steuerung des
elektrischen Stroms nicht leicht ist, einen Elektronenstrahl
mit Mikrogröße zu formen, und infolgedessen die Form des
Elektronenstrahls instabil wird, wodurch die Verschlech
terung der dimensionsmäßigen Präzision der Fotolackstruktur
weiter beschleunigt wird.
Fig. 36 zeigt Meßergebnisse der Dimensionen von jeweiligen
Fotolackstrukturen, die durch Erzeugen einer größeren Anzahl
Fotolackstrukturen einschließlich der Mikrografik von Fig.
34 mit zwei Schüssen als der Strukturfrequenz (entsprechend
der Anzahl Strukturen mit gleicher Dimension) erhalten wur
den. Dabei wird zusätzlich zu einer größeren dimensionsmäßi
gen Abweichung ein Unterschied auch hinsichtlich des Mit
tenwerts, verglichen mit dem Ergebnis des Zeichnens mit
einem Schuß (Fig. 30), erzeugt. Die Differenz des Mitten
werts stammt aus der oben beschriebenen Belichtung der
Mikrografik mit dem Elektronenstrahl.
Die Größe der Mikrografik, die die auffällige Verschlech
terung der dimensionsmäßigen Präzision der Fotolackstruktur
wie oben beschrieben ergibt, d. h. der dimensionsmäßige Wert
der Mikrografik, hängt weitgehend von der Bauart des ver
wendeten Elektronenstrahl-Zeichensystems, der Art des
Fotolacks, der Verarbeitungsmethode oder den Bedingungen der
Strukturbildung usw. ab, beträgt aber im allgemeinen nicht
mehr als 0,5 µm. Wenn also der dimensionsmäßige Wert der
Mikrografik mit 0,5 µm vorgegeben ist, ist die Mikrografik
eine Grafik, deren Seitenlänge entweder in der Breiten
richtung oder der Höhenrichtung nicht mehr als 0,5 µm
beträgt.
Unter Berücksichtigung der zwei vorstehend genannten Pro
bleme 1) und 2) folgt nun eine Untersuchung des Herstel
lungsverfahrens in der Zeichendaten-Erzeugungsvorrichtung
mit der herkömmlichen Zeicheneinrichtung mit geformtem
Elektronenstrahl, um technische Probleme aktuell darzu
stellen, die den herkömmlichen Zeichendaten-Erzeugungsvor
richtungen innewohnen.
Fig. 37 zeigt den Datenverarbeitungsfluß in der herkömmli
chen Datenerzeugungsvorrichtung.
(1) Als erstes eliminieren die Entwurflayoutdaten eine
Grafik-Duplizierung mit der Duplizierungs-Eliminierfunktion
der Zeichendaten-Erzeugungsvorrichtung (Schritt T1). Das
erfolgt zum Zweck der Vermeidung einer Duplizierung beim
Belichten mit Elektronenstrahl auf ein und derselben Fläche
(OR-Verarbeitung) und ist eine Verarbeitung, die für die
Erzeugung von Zeichendaten mit einem Zeichensystem mit
variablem geformten Elektronenstrahl wesentlich ist.
In diesem Fall sind verschiedene Methoden zur Beseitigung
der Duplizierung denkbar, aber die im allgemeinen angewandte
Methode besteht in der Aufteilung der Grafik in Streifen
(nachstehend als "Streifenmethode" bezeichnet), wie das in
den Fig. 38 und 39 gezeigt ist. Es folgt nun eine Beschrei
bung des Falls, bei dem diese Streifenmethode in Schritt T1
von Fig. 37 angewandt wird.
Zuerst werden Teilungslinien in die gesamte Verarbeitungs
fläche in einer festen Richtung (entsprechend einer Hori
zontal- oder einer Vertikalrichtung) vom Scheitelpunkt der
jeweiligen Grafiken eingefügt, um die Streifen zu bilden.
Dann werden die jeweiligen Grafiken an Streifengrenzen ge
teilt. Die Fig. 38 und 39 zeigen einen Fall der Unterteilung
in Horizontalrichtung.
Dann erhält jede Seite der jeweiligen unterteilten Grafiken
eine Orientierung (Einfügen von Vektoren) auf jeder Seite
der jeweiligen geteilten Grafiken. Die Art und Weise der
Orientierung wird entweder durch Rechtslauf oder Linkslauf
der jeweiligen Scheitelpunkte entlang den Seiten bestimmt.
Die Fig. 38 und 39 zeigen einen Fall von Rechtslauf (Uhr
zeigersinn).
Als nächstes werden unnötige Vektoren (also duplizierte
Grafikbereiche) gelöscht. Die Löschmethode wird nachstehend
beschrieben.
Zuerst wird jeder Vektor mit Koordinatenwerten für jeden
Streifen sortiert. Dann erhält jeder Vektor einen Zahlenwert
entsprechend der Vektorrichtung. Beispielsweise gibt man
Aufwärtsvektoren eine 1 und Abwärtsvektoren -1. Dieses
Beispiel ist in bezug auf den Streifen 5 in Fig. 38 gezeigt.
Als nächstes werden, wenn Streifen horizontal gebildet sind,
die den jeweiligen Vektoren gegebenen Zahlenwerte (die
Vektorwerten entsprechen) in der Reihenfolge von links auf
der Suche nach einem Vektor addiert, bei dem die Summe zu 0
wird. Und es wird eine Grafik mit dem Vektor, bei dem die
Addition begonnen wurde, und dem Vektor, bei dem das
Additionsergebnis der Vektorwerte 0 wird, konstruiert.
Ein Beispiel eines solchen Ablaufs kann wie folgt unter
Bezugnahme auf den Streifen 5 in Fig. 39 beschrieben werden:
Die Addition beginnt bei dem Vektor am linken Ende, und das
Additionsergebnis der Vektorwerte wird in der Phase der
Addition des zweiten Vektors zu 2, in der Additionsphase des
dritten Vektors zu 1 und in der Additionsphase des vierten
Vektors zu 0. Daher wird die Grafik mit dem Vektor am linken
Ende in Streifen 5 und dem von dort ausgehend vierten Vektor
konstruiert, und der zweite und der dritte Vektor werden als
unnötige Vektoren gelöscht. Das Verarbeitungsergebnis wird
dann so, wie es in Fig. 39 gezeigt ist.
Wenn eine solche Verarbeitung mit den Vektoren in allen
Streifen ausgeführt wird, kann die Duplizierung sämtlicher
Grafiken beseitigt werden.
Es ist ersichtlich, daß bei Anwendung dieser Methode die
Daten als das Verarbeitungsergebnis sämtlich in Grundgra
fiken aufgeteilt sind. Wie jedoch aus den Teilungsergeb
nissen der Fig. 39 zu sehen ist, wird überhaupt keine
Gegenmaßnahme in bezug auf die Probleme in Betracht gezogen,
die vorher beschrieben wurden, nämlich: 1) Teilung eines
Bereichs, der hohe dimensionsmäßige Präzision erfordert, und
2) Erzeugung von Grafiken mit äußerst geringer Größe. Daher
resultiert Schritt T1 in Fig. 37 in der Erzeugung einer
Verschlechterung der dimensionsmäßigen Genauigkeit aufgrund
der beiden oben beschriebenen Probleme 1) und 2).
(2) Der nächste Prozeß verzweigt sich in zwei Abläufe (T2),
(T2A, T2B), wie Fig. 37 zeigt, und zwar in Abhängigkeit von
der Art des verwendeten Fotolacks (positiv oder negativ) und
der Art und Weise des bei dem Entwurf verwendeten Layouts.
Wenn der Elektronenstrahl auf einen anderen Bereich als den
zum Zeitpunkt des Entwurfs erstellten Eingabebereich ge
richtet werden muß, wird ein Vorgang zur Tonwertumkehrung
der Grafik (Schritt T2) notwendig. Dieser Tonwertumkehrvor
gang kann auch mit einer Methode ähnlich derjenigen zur
Eliminierung einer Duplizierung von Grafiken, wie sie vorher
beschrieben wurde, ausgeführt werden. Die Methode der Ton
wertumkehrung der Grafik wird daher unter Bezugnahme auf die
Fig. 40 und 41 beschrieben.
Der Ablauf beginnt aus dem Zustand heraus, in dem die je
weiligen Seiten nach der Duplizierung-Eliminierung der
Grafik in Vektoren unterteilt sind. Zuerst wird ein Bereich
(Rahmen) für die Tonwertumkehrung vorgegeben, und die Grafik
(d. h. ein Viereck) entsprechend diesem Rahmen wird in
Vektoren je nach den entsprechenden Streifen aufgeteilt, und
ein Vektorrichtungswert wird für jeden Vektor auf die
gleiche Weise wie im Fall der Duplizierungs-Eliminierung
vorgegeben.
Als nächstes wird die Richtung eines Vektors, der in dem
Tonwertumkehrungsbereich vorhanden ist, umgekehrt. In bezug
auf die Fig. 38 und 39 werden zum Zeitpunkt der Duplizie
rungs-Eliminierung die nach oben gesetzten Vektoren nach
unten gerichtet, und die nach unten gesetzten Vektoren
werden nach oben gerichtet. Dieser Zustand ist in Fig. 40
gezeigt.
Der darauffolgende Ablauf ist der gleiche wie der Ablauf
zur Duplizierungs-Eliminierung. Die Addition von Vektor
werten beginnt ausgehend von dem Vektor an dem Tonwertumkeh
rungsrahmen für jeden Streifen auf der Suche nach einem
Vektorpaar, bei dem der Additionswert 0 wird, so daß eine
Grafik gebildet wird. Fig. 41 zeigt den Zustand der Ton
wertumkehrung.
Wenn die Tonwertumkehrung vorgenommen wird, ist außerdem
ersichtlich, daß keine Gegenmaßnahmen vorgesehen sind gegen
1) eine Teilung eines Bereichs, der hohe dimensionsmäßige
Genauigkeit verlangt, und 2) die Erzeugung von Grafiken mit
äußerst geringer Größe; das entspricht dem Fall der Dupli
zierungs-Eliminierung.
Wenn dagegen keine Tonwertumkehrung notwendig ist, kann die
Gegenmaßnahme implementiert werden. Dabei ist es, wenn man
die Teilung eines Bereichs, der hohe dimensionsmäßige
Präzision verlangt, und die Erzeugung von Grafiken mit
äußerst geringer Größe berücksichtigt, möglich, die Methode
anzuwenden, bei der die als Resultat der Duplizierungs-
Eliminierung in Grundgrafiken umgesetzte Grafik erneut zu
Polygonen gemacht wird (Schritt T2A), und diese Polygone
erneut einzeln zu unterteilen, während gleichzeitig die
Teilung eines Bereichs, der hohe dimensionsmäßige Präzision
verlangt, und die Erzeugung von Grafiken mit äußerst ge
ringer Größe berücksichtigt wird (Schritt T2B).
Diese Verarbeitungsmethode (T2A, T2B) kann aber nicht in dem
Fall angewandt werden, in dem die Tonwertumkehrung verlangt
wird. Denn wenn irgendeine Gruppe von Grafiken, die einer
Tonwertumkehrung unterzogen wurde, wiederum zu Polygonen
gemacht wird, werden sämtliche Grafiken miteinander ver
bunden und zu einem einzigen Polygon gemacht, das eine sehr
hohe Zahl von Scheitelpunkten hat, was eine anschließende
Verarbeitung, d. h. eine erneute Aufteilung in Grundgrafi
ken, praktisch unmöglich macht.
Aus diesem Grund wurde bei der herkömmlichen Methode keine
Gegenmaßnahme gegen das oben beschriebene Problem der Ver
schlechterung der dimensionsmäßigen Genauigkeit aufgrund 1)
einer Aufteilung von Grafiken und 2) der Erzeugung von
äußerst kleinen Grafiken ergriffen, wenn die Tonwertumkeh
rung notwendig ist.
Es wird nun erneut auf Fig. 37 Bezug genommen. Wenn Grund
grafikdaten erzeugt und gespeichert werden (Schritt T3),
dann wird die Zeichenfeldgrenze-Teilungsfunktion in Schritt
T4 ausgeführt. Bei dieser Funktion wird die Zeichenfläche in
Bereiche aufgeteilt, in denen das Elektronenstrahl-Zeichen
system nur unter Ablenkung des Elektronenstrahls zeichnen
kann (nachstehend als "Zeichenfeldbereiche" bezeichnet). Da
nach wird eine Elektronenstrahl-Zeichendatenformatier
funktion von Schritt T5 ausgeführt, um die Daten zu einer
Struktur zu formatieren, die zur Eingabe in verschiedene
Zeichensysteme verfügbar ist, so daß die Elektronenstrahl-
Zeichendaten erzeugt werden. Das hier als Beispiel genommene
Zeichensystem mit variabler Elektronenstrahlformung kann die
Größe des Zeichenfeldbereichs auf einen fakultativen Wert
von gewöhnlich 2,5 mm oder kleiner einstellen.
Die Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung gemäß
der Erfindung, die aus einem Entwurflayoutdatensignal ein
Zeichendatensignal zur Eingabe in eine Teilchenstrahl-Zei
chenvorrichtung erzeugt, ist gekennzeichnet durch eine Ein
gabeeinrichtung zur Eingabe eines Signals, das Dimensions
daten eines Grafikdatenverarbeitungsbereichs bezeichnet, und
eine Grafikdatenverarbeitungsbereich-Teilungsfunktion, um
einen von dem Entwurflayoutdatensignal bezeichneten Bereich
in Einheiten eines Grafikdatenverarbeitungsbereichs zu
teilen, wobei der Grafikdatenverarbeitungsbereich durch die
von der Eingabeeinrichtung bezeichneten Dimensionsdaten des
Grafikdatenverarbeitungsbereichs bestimmt ist.
Bei der Erfindung gemäß dem Patentanspruch 1 wird das Zei
chendatensignal aus dem Entwurflayoutsignal in den jewei
ligen Grafikdaten-Verarbeitungsbereichen erzeugt, die als
Ergebnis einer Teilung durch die Grafikdatenverarbeitungs
bereich-Teilungsfunktion erzeugt werden.
Dabei ist es möglich, Zeichendaten zu erzeugen, bei denen
eine Verschlechterung der dimensionsmäßigen Genauigkeit von
Strukturen, die durch die Teilchenstrahl-Zeichenvorrichtung
gebildet werden, vermieden wird.
In Weiterbildung der Erfindung ist die Teilchenstrahl-
Zeichendatenerzeugungsvorrichtung dadurch gekennzeichnet,
daß die Eingabeeinrichtung außerdem ein Signal eingibt, das
einen Mikrografik-Dimensionswert bezeichnet; und daß die
Vorrichtung ferner folgendes aufweist: eine Grafikdatenver
arbeitungsergebnis-Erzeugungsfunktion, die für jeden der
Grafikdatenverarbeitungsbereiche und sowohl für eine Hori
zontal- als auch eine Vertikalrichtung des von dem Entwurf
layoutdatensignal gegebenen Bereichs eine vorgeschriebene
Grafikverarbeitungsoperation an dem Entwurflayoutdatensignal
ausführt, um ein Grafikdatenverarbeitungsergebnis zu erzeu
gen, wobei das Grafikdatenverarbeitungsergebnis Datensignale
von Grundgrafiken ergibt, die in dem betreffenden Grafik
datenverarbeitungsbereich gebildet sind; und eine Grafikda
tenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/Auswählfunktion, um
für jeden der Grafikdatenverarbeitungsbereiche und jeweils
für die Horizontal- und die Vertikalrichtung Mikrografiken
bezeichnende Datensignale aus den Datensignalen der Grund
grafiken, die in dem Grafikdatenverarbeitungsergebnis ent
halten sind, auf der Basis des Signals des Mikrografik-
Dimensionswerts zu beurteilen, um einen Mikrografik-Bewer
tungswert zu bestimmen, der einen Grad der Beeinflussung des
Teilchenstrahlzeichnens durch die Mikrografiken bezeichnet,
und um die Mikrografik-Beurteilungswerte in bezug sowohl auf
die Horizontal- als auch die Vertikalrichtung zu vergleichen
und somit dasjenige Grafikdatenverarbeitungsergebnis aus
zuwählen, in bezug auf dessen Richtung der Mikrografik-
Bewertungswert kleiner ist.
Dabei werden für die jeweiligen Grafikdatenverarbeitungs
bereiche die folgenden Verarbeitungsvorgänge ausgeführt: Die
Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Erzeugungsfunktion erzeugt
das Grafikdatenverarbeitungsergebnis im Hinblick auf die
Horizontalrichtung durch Ausführung der Grafikoperationen,
die sich auf die Horizontalrichtung beziehen, und erzeugt
außerdem das Grafikdatenverarbeitungsergebnis im Hinblick
auf die Vertikalrichtung durch Ausführung der Grafikopera
tionen, die sich auf die Vertikalrichtung beziehen. Außerdem
beurteilt die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/
Auswählfunktion das Vorhandensein der Mikrografik in dem
Grafikdatenverarbeitungsergebnis in bezug auf die Horizon
talrichtung, um ihren Mikrografik-Bewertungswert zu be
stimmen, und beurteilt außerdem das Vorhandensein der
Mikrografik in dem Grafikdatenverarbeitungsergebnis in bezug
auf die Vertikalrichtung, um ihren Mikrografik-Bewertungs
wert zu bestimmen, und vergleicht dann den Mikrografik-
Bewertungswert hinsichtlich der Horizontalrichtung mit dem
Mikrografik-Bewertungswert hinsichtlich der Vertikalrich
tung, um die relative Größe von beiden zu beurteilen. Wenn
der Mikrografik-Bewertungswert in bezug auf die Vertikal
richtung kleiner ist, wählt zu diesem Zeitpunkt die Grafik
datenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/Auswählfunktion das
Grafikdatenverarbeitungsergebnis hinsichtlich der Verti
kalrichtung aus. Die aus diesem ausgewählten Grafikdaten
verarbeitungsergebnis erzeugten Zeichendaten werden zu Daten
hoher Güte mit nur geringem Einfluß von Mikrografiken.
Dabei ist es möglich, die Erzeugung der Mikrografiken, die
zum Zeitpunkt der vorgeschriebenen Grafikoperationen erzeugt
werden, zu verringern und Zeichendaten hoher Güte zu erzeu
gen, die eine Verschlechterung der dimensionsmäßigen Prä
zision unterdrücken können.
Eine weitere Ausbildung der Teilchenstrahl-Zeichendaten
erzeugungsvorrichtung ist dadurch gekennzeichnet, daß die
Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Erzeugungsfunktion eine
Duplizierungs-Eliminier- und Tonwertumkehr-Funktion auf
weist, um einen Vorgang der Beseitigung von duplizierten
Teilen und einer Tonwertumkehrung in dem Entwurflayout
datensignal als die vorgeschriebene Grafikdatenverarbei
tungsoperation auszuführen.
Dabei wählt die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beurtei
lungs/Auswähleinrichtung das Grafikdatenverarbeitungs
ergebnis aus, das die geringere Erzeugung von Mikrografiken
hat, die zum Zeitpunkt der Duplizierungs-Eliminierung und
der Tonwertumkehrung erzeugt wurden.
Dabei ist es möglich, durch Teilung des Grafikdatenverar
beitungsbereichs in Einheiten diejenigen Bereiche zu unter
drücken, in denen herkömmlich die jeweiligen Scheitelpunkte
bei der herkömmlichen Duplizierungs-Eliminierung und bei der
Tonwertumkehrung einen Einfluß auf die Teilung der übrigen
Grafikdaten haben, und die Erzeugung der Mikrografiken, die
zum Zeitpunkt der Duplizierungs-Eliminierung und der Ton
wertumkehrung gebildet werden, deutlich herabzusetzen, so
daß schließlich Zeichendaten hoher Güte erzeugt werden.
Eine vorteilhafte Ausbildung der Teilchenstrahl-Zeichen
datenerzeugungsvorrichtung ist dadurch gekennzeichnet, daß
die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/Auswähl
funktion eine Mikrografik-Beurteilungsfunktion aufweist, um
zu beurteilen, daß das Datensignal der betreffenden Grund
grafik die genannte Mikrografik ergibt, wenn jeweils für die
Horizontal- und die Vertikalrichtung wenigstens einer von
Dimensionswerten der Seiten der Grundgrafik nicht größer als
der Mikrografik-Dimensionswert ist.
Die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/Auswähl
funktion beurteilt dabei das Vorhandensein einer Mikrografik
unter Bezugnahme auf die folgende Beziehung als Kriterium:
{(wenigstens einer von Dimensionswerten von Seiten der
Grundgrafik) (Mikrografik-Dimensionswert)}.
Dabei ist es möglich, nach dem Grafikdatenverarbeitungs
ergebnis die An- oder Abwesenheit der Mikrografik zu
beurteilen.
Eine andere vorteilhafte Ausbildung der Teilchenstrahl-Zei
chendatenerzeugungsvorrichtung ist dadurch gekennzeichnet,
daß die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/Aus
wählfunktion eine Mikrografik-Bewertungswertrechenfunktion
aufweist, um die Zahl der Mikrografiken entsprechend einem
Beurteilungsergebnis der Mikrografik-Beurteilungsfunktion
aufzusummieren und die Summe als den Mikrografik-Bewer
tungswert abzugeben, und zwar jeweils für die Horizontal-
und die Vertikalrichtung.
Dabei wertet die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beur
teilungs/Auswählfunktion den Grad des Einflusses von Mikro
grafiken aus der Summe der Anzahl von Mikrografiken aus.
Dabei ist es möglich, die Mikrografik-Auswertung mit hoher
Präzision auszuführen, wodurch qualitativ hochwertige
Ergebnisse der Grafikdatenverarbeitung erhalten werden, die
eine Verschlechterung der dimensionsmäßigen Präzision
vermeiden können, so daß Zeichendaten hoher Güte erhalten
werden.
In weiterer Ausgestaltung der Erfindung ist die Teilchen
strahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung dadurch gekenn
zeichnet, daß die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beur
teilungs/Auswählfunktion eine Mikrografik-Bewertungswertre
chenfunktion aufweist, um die Längen der langen Seite der
Mikrografiken entsprechend dem Beurteilungsergebnis der
Mikrografik-Beurteilungsfunktion aufzusummieren und die
Summe als den Mikrografik-Bewertungswert abzugeben, und zwar
jeweils für die Horizontal- und die Vertikalrichtung.
Dabei wertet die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beur
teilungs/Auswählfunktion den Grad des Einflusses von
Mikrografiken mit der Summe der Längen langer Seiten von
Mikrografiken aus.
Dabei ist es möglich, die Mikrografik-Auswertung mit höherer
Genauigkeit durchzuführen, wodurch qualitativ hochwertige
Ergebnisse der Grafikdatenverarbeitung erzeugt werden, die
eine Verschlechterung der dimensionsmäßigen Präzision
deutlich vermeiden können, so daß Zeichendaten höherer Güte
erhalten werden.
Eine vorteilhafte Ausgestaltung der Teilchenstrahl-Zeichen
datenerzeugungsvorrichtung ist dadurch gekennzeichnet, daß
die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/Auswähl
funktion eine Mikrografik-Bewertungswertrechenfunktion
aufweist, um die Oberflächen der Mikrografiken entsprechend
dem Beurteilungsergebnis der Mikrografik-Beurteilungs
funktion aufzusummieren und eine Summe der Oberflächen
dieser Mikrografiken als den Mikrografik-Bewertungswert
abzugeben, und zwar jeweils für die Horizontal- und die
Vertikalrichtung.
Dabei wertet die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beurtei
lungs/Auswählfunktion den Grad des Einflusses von Mikro
grafiken mit den Flächenbereichen von Mikrografiken aus.
Dabei ist es möglich, die Mikrografik-Auswertung mit höherer
Genauigkeit durchzuführen, wodurch qualitativ höherwertige
Ergebnisse der Grafikdatenverarbeitung erzeugt werden, die
eine Verschlechterung der dimensionsmäßigen Präzision
deutlich vermeiden können, so daß Zeichendaten höherer Güte
erhalten werden.
Eine Weiterbildung der Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeu
gungsvorrichtung ist dadurch gekennzeichnet, daß die Gra
fikdatenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/Auswählfunktion
eine Mikrografik-Bewertungswertrechenfunktion aufweist, um
jeweils für die Horizontal- und die Vertikalrichtung die
Seitenverhältnisse, die als Verhältnis der Länge der langen
Seite zu der Länge der kurzen Seite der Mikrografiken gemäß
dem Beurteilungsergebnis der Mikrografik-Beurteilungsfunk
tion gegeben sind, aufzusummieren und eine Summe dieser
Seitenverhältnisse der Mikrografiken als den Mikrografik-
Bewertungswert abzugeben.
Hierbei wertet die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-
Beurteilungs/Auswählfunktion den Grad des Einflusses von
Mikrografiken mit der Summe von Seitenverhältnissen von
Mikrografiken aus.
Dabei ist es möglich, die Mikrografik-Auswertung mit noch
höherer Genauigkeit durchzuführen, wodurch Ergebnisse der
Grafikdatenverarbeitung noch höherer Qualität erzeugt wer
den, die eine Verschlechterung der dimensionsmäßigen Genau
igkeit erheblich unterdrücken können, so daß Zeichendaten
noch höherer Güte erhalten werden.
Eine vorteilhafte Ausgestaltung der Teilchenstrahl-Zei
chendatenerzeugungsvorrichtung ist dadurch gekennzeichnet,
daß die Eingabeeinrichtung nicht nur das Signal bezeichnet,
das den Mikrografik-Dimensionswert über eine größere Anzahl
von Mikrografik-Dimensionswertbereichen angibt, sondern auch
ein Signal liefert, das eine Gewichtung vorgibt, wobei diese
Gewichtung für jeden der Vielzahl von Mikrografik-Dimen
sionswertbereichen einen Bedeutungsgrad der Dimension der
Mikrografik definiert, und daß die Grafikdatenverarbeitungs
ergebnis-Beurteilungs/Auswählfunktion aufweist: eine Mikro
grafik-Beurteilungsfunktion, um zu beurteilen, ob wenigstens
einer von Dimensionswerten von Seiten der Grundgrafik in
einen der Vielzahl von Mikrografik-Dimensionswertbereichen
fällt, um so zu beurteilen, ob das Datensignal der Grund
grafik die Mikrografik ergibt, und zwar jeweils für die
Horizontal- und die Vertikalrichtung; und eine Mikrografik-
Bewertungswertrechenfunktion, um den Mikrografik-Bewertungs
wert auf der Basis des Signals, das die Gewichtung vorgibt,
in Übereinstimmung mit den Mikrografik-Dimensionswertberei
chen aufgrund eines Ergebnisses, das von der Mikrografik-
Beurteilungsfunktion als die Mikrografik beurteilt ist, für
jeweils die Horizontal- und die Vertikalrichtung zu be
rechnen.
Dabei wird eine sorgfältiger durchdachte Berechnung des
Mikrografik-Bewertungswerts durch die Gewichtung durchge
führt, die für die jeweiligen Dimensionsbereiche der Mikro
grafik vorgesehen ist.
Dabei ist es möglich, die Mikrografik-Auswertung mit noch
höherer Genauigkeit durchzuführen und dadurch Ergebnisse der
Grafikdatenverarbeitung noch höherer Qualität zu erzeugen,
die eine Verschlechterung der dimensionsmäßigen Genauigkeit
deutlich unterdrücken können, und somit Zeichendaten noch
höherer Güte zu erhalten.
Eine vorteilhafte Weiterbildung der Teilchenstrahl-Zeichen
datenerzeugungsvorrichtung ist dadurch gekennzeichnet, daß
die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Erzeugungsfunktion eine
Duplizierungs-Eliminierfunktion aufweist, um das Entfernen
von duplizierten Teilen in dem Entwurflayoutdatensignal als
die vorgeschriebene Grafikverarbeitungsoperation auszu
führen.
Hierbei wird von der Grafikdatenverarbeitungsergebnis-
Beurteilungs/Auswählfunktion dasjenige Grafikdatenverarbei
tungsergebnis ausgewählt, das die geringere Erzeugung von
Mikrografiken, die zum Zeitpunkt der Duplizierungs-Elimi
nierung gebildet wurden, aufweist.
Dabei ist es möglich, die Erzeugung der bei der Duplizie
rungs-Eliminierung produzierten Mikrografiken auch in einem
Fall zu verringern, in dem ein Tonwertumkehrungsvorgang
nicht notwendig ist, und schließlich Zeichendaten hoher Güte
zu erzeugen, während gleichzeitig die Verschlechterung der
dimensionsmäßigen Genauigkeit unterdrückt wird.
Gemäß der Erfindung ist eine Teilchenstrahl-Zeichendaten
erzeugungsvorrichtung, um aus einem Entwurflayoutdatensignal
ein Zeichendatensignal zu erzeugen, das in eine Teilchen
strahl-Zeichenvorrichtung einzugeben ist, gekennzeichnet
durch eine Eingabeeinrichtung zur Eingabe eines Signals, das
einen Mikrografik-Dimensionswert bezeichnet, eine Grafik
datenverarbeitungsergebnis-Erzeugungsfunktion, um vorge
schriebene Grafikverarbeitungsoperationen an dem Entwurf
layoutdatensignal auszuführen und ein Grafikdatenverarbei
tungsergebnis zu erzeugen, das Datensignale von Grundgra
fiken bezeichnet, die in einem Bereich gebildet sind, der
durch das Entwurflayoutdatensignal gegeben ist, und zwar
jeweils für die Horizontal- und die Vertikalrichtung des
genannten Bereichs, und eine Grafikdatenverarbeitungs
ergebnis-Beurteilungs/Auswählfunktion, um aus den Daten
signalen der Grundgrafiken, die in dem Grafikdatenverarbei
tungsergebnis enthalten sind, Mikrografiken bezeichnende
Datensignale auf der Basis des Signals des Mikrografik-
Dimensionswerts zu beurteilen, um einen Mikrografik-Bewer
tungswert zu bestimmen, der einen Grad der Beeinflussung des
Teilchenstrahlzeichnens durch die Mikrografiken bezeichnet,
und zwar für jeweils die Horizontal- und die Vertikalrich
tung, und um die Mikrografik-Bewertungswerte in bezug auf
die Horizontal- und die Vertikalrichtung zu vergleichen und
das Grafikdatenverarbeitungsergebnis in bezug auf diejenige
Richtung auszuwählen, in der der Mikrografik-Bewertungswert
kleiner ist.
Dabei wählt die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beurtei
lungs/Auswählfunktion dasjenige Grafikdatenverarbeitungs
ergebnis mit geringerer Erzeugung von Mikrografiken aus.
Dabei kann die Erzeugung der Mikrografiken, die zum Zeit
punkt eines vorbestimmten Grafik-Berechnungsablaufs erzeugt
wurden, verringert werden, und es können schließlich Zei
chendaten hoher Güte erzeugt werden, während gleichzeitig
die Verschlechterung der dimensionsmäßigen Genauigkeit
unterdrückt wird.
Ein Teilchenstrahl-Zeichensystem gemäß der Erfindung mit
einer Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung zum
Erzeugen eines Zeichendatensignals aus einem gegebenen
Entwurflayoutdatensignal und mit einer Teilchenstrahl-
Zeichenvorrichtung zur Durchführung von Teilchenstrahl-
Zeichnen auf der Basis des Zeichendatensignals, um eine
Fotolackstruktur zu bilden, ist dadurch gekennzeichnet, daß
die Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung auf
weist: eine Eingabeeinrichtung zur Eingabe eines Signals,
das eine Grafikdatenverarbeitungsbereich-Dimension angibt,
und eines Signals, das einen Mikrografik-Dimensionswert
angibt; eine Grafikdatenverarbeitungsbereich-Teilungsfunk
tion zum Teilen eines durch das Entwurflayoutdatensignal
gegebenen Bereichs in Einheiten eines Grafikdatenverarbei
tungsbereichs, der durch die Grafikdatenverarbeitungs
bereich-Dimension bestimmt ist; eine Grafikdatenverarbei
tungsergebnis-Erzeugungsfunktion, um vorgeschriebene Gra
fikdatenverarbeitungsoperationen an dem Entwurflayoutdaten
signal sowohl für eine Horizontal- als auch eine Vertikal
richtung des genannten Bereichs, der durch das Entwurf
layoutdatensignal gegeben ist, auszuführen, um ein Grafik
datenverarbeitungsergebnis zu erzeugen, das Datensignale von
Grundgrafiken, die in dem betreffenden Grafikdatenverarbei
tungsbereich gebildet sind, für jeden Grafikdatenverarbei
tungsbereich zu ergeben; eine Grafikdatenverarbeitungs
ergebnis-Beurteilungs/Auswählfunktion, um Mikrografiken
angebende Datensignale aus den Datensignalen der Grund
grafiken, die in dem Grafikdatenverarbeitungsergebnis ent
halten sind, auf der Basis des von der Eingabeeinrichtung
gegebenen Signals des Mikrografik-Dimensionswerts zu be
urteilen und so einen Mikrografik-Bewertungswert zu bestim
men, der einen Grad der Beeinflussung des Teilchenstrahl-
Zeichnens durch die Mikrografiken bezeichnet, und zwar für
jeweils die Horizontal- und die Vertikalrichtung, und um die
Mikrografik-Bewertungswerte in bezug auf die Horizontal- und
die Vertikalrichtung zu vergleichen und das Grafikdatenver
arbeitungsergebnis in bezug auf diejenige Richtung, in der
der Mikrografik-Bewertungswert kleiner ist, für jeden Gra
fikdatenverarbeitungsbereich auszuwählen und abzugeben; und
eine Zeichendatenerzeugungseinrichtung, um das Zeichendaten
signal auf der Basis des Zeichendatenverarbeitungsergeb
nisses, das von der Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beur
teilungs/Auswählfunktion abgegeben wird, zu erzeugen.
Dabei werden die Grafikoperationen in bezug auf die Hori
zontal- und die Vertikalrichtung von der Grafikdatenver
arbeitungsergebnis-Erzeugungsfunktion für die jeweiligen
Grafikdatenverarbeitungsbereiche durchgeführt, und die Art
des zu verwendenden Grafikdatenverarbeitungsergebnisses wird
von der Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/Aus
wählfunktion unter Bezugnahme auf den Grafikdaten-Bewer
tungswert ausgewählt.
Dabei kann ein gewünschtes Grafikdatenverarbeitungsergebnis
erhalten werden, wobei die Erzeugung von Mikrografiken
wesentlich unterdrückt ist. Es ist daher möglich, Zeichen
daten hoher Güte zu erzeugen und letztlich die dimensions
mäßige Genauigkeit der Fotolackstruktur zu verbessern.
Für die jeweiligen Grafikdatenverarbeitungsbereiche werden
Zeichendaten aus dem ausgewählten Grafikdatenverarbeitungs
ergebnis hoher Güte erstellt, und das Zeichnen mit Teil
chenstrahl wird auf der Basis dieser Zeichendaten durch
geführt.
Die Erfindung stellt eine Vorrichtung zum Erzeugen von Zei
chendaten mittels Teilchenstrahl bereit, die die Erzeugung
von Mikrografiken, die zu einer Verschlechterung der dimen
sionsmäßigen Genauigkeit führen, deutlich verringern kann,
wobei insbesondere die Tatsache berücksichtigt wird, daß
beim Stand der Technik die dimensionsmäßige Genauigkeit
stark abnimmt, und zwar besonders dann, wenn eine Tonwert
umkehrung erforderlich ist.
Ferner kann die Erfindung zur Lösung verschiedener Probleme,
die als Ergebnis der Duplizierungs-Eliminierung auftreten,
genutzt werden, und durch die Erfindung werden vorteilhaf
tere neue Technologien aufgezeigt.
Die Erfindung wird nachstehend auch hinsichtlich weiterer
Merkmale und Vorteile anhand der Beschreibung von Ausfüh
rungsbeispielen und unter Bezugnahme auf die beiliegenden
Zeichnungen näher erläutert. Die Zeichnungen zeigen in:
Fig. 1 ein Blockbild, das den Systemaufbau der Teilchen
strahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung gemäß den
verschiedenen Ausführungsformen der Erfindung
zeigt;
Fig. 2 den Ablauf der Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeu
gung in der Vorrichtung gemäß der ersten Ausfüh
rungsform der Erfindung;
Fig. 3 ein konkretes Beispiel zur Erläuterung der ersten
Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 4 ein konkretes Beispiel zur Erläuterung der ersten
Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 5 ein konkretes Beispiel zur Erläuterung der ersten
Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 6 ein konkretes Beispiel zur Erläuterung der ersten
Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 7 ein konkretes Beispiel zur Erläuterung der ersten
Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 8 ein konkretes Beispiel zur Erläuterung der ersten
Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 9 ein konkretes Beispiel zur Erläuterung der ersten
Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 10 ein Flußdiagramm, das die Grafikdatenver
arbeitungsergebnis-Beurteilungs/Auswählfunktion
bei der ersten Ausführungsform der Erfindung
beschreibt;
Fig. 11 ein Flußdiagramm, das die Grafikdatenverarbei
tungsergebnis-Beurteilungs/Auswählfunktion bei der
ersten Ausführungsform der Erfindung beschreibt;
Fig. 12 ein Flußdiagramm, das die Grafikdatenverarbei
tungsergebnis-Beurteilungs/Auswählfunktion bei der
ersten Ausführungsform der Erfindung beschreibt;
Fig. 13 ein Flußdiagramm, das die Methode der Berechnung
des Mikrografik-Bewertungswerts in der Grafik
datenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/Aus
wählfunktion der ersten Ausführungsform der Er
findung beschreibt;
Fig. 14 ein Flußdiagramm, das ein modifiziertes Beispiel
der ersten Ausführungsform zeigt;
Fig. 15 ein Flußdiagramm, das ein modifiziertes Beispiel
der ersten Ausführungsform zeigt;
Fig. 16 ein Flußdiagramm, das die Berechnungsmethode des
Mikrografik-Bewertungswerts bei der zweiten
Ausführungsform der Erfindung erläutert;
Fig. 17 eine Darstellung der Auswirkungen der zweiten
Ausführungsform;
Fig. 18 ein Flußdiagramm, das die Berechnungsmethode des
Mikrografik-Bewertungswerts bei der dritten
Ausführungsform der Erfindung beschreibt;
Fig. 19 ein Flußdiagramm, das die Berechnungsmethode des
Mikrografik-Bewertungswerts bei der vierten
Ausführungsform der Erfindung beschreibt;
Fig. 20 eine Erläuterung der Auswirkungen der vierten
Ausführungsform;
Fig. 21 ein Flußdiagramm, das die Grafikdatenverarbei
tungsergebnis -Beurteilungs/Auswählfunktion bei der
fünften Ausführungsform der Erfindung beschreibt;
Fig. 22 ein Flußdiagramm, das die Grafikdatenverarbei
tungsergebnis-Beurteilungs/Auswählfunktion bei der
fünften Ausführungsform der Erfindung beschreibt;
Fig. 23 ein Flußdiagramm, das die Grafikdatenverarbei
tungsergebnis-Beurteilungs/Auswählfunktion bei der
fünften Ausführungsform der Erfindung beschreibt;
Fig. 24 ein Flußdiagramm, das die Berechnungsmethode des
Mikrografik-Bewertungswerts bei der fünften
Ausführungsform der Erfindung beschreibt;
Fig. 25 eine Erläuterung der Beziehung zwischen einem
Mikrografik-Dimensionswertbereich und seiner
Gewichtung;
Fig. 26 die Entwurfslayoutdaten zur Beschreibung des
Erzeugungsablaufs von Zeichendaten durch die
herkömmliche Vorrichtung mit variabler Strahl
formung;
Fig. 27 die Elektronenstrahl-Zeichendaten zur Erläuterung
des herkömmlichen Zeichenverfahrens mit variabler
Strahlformung;
Fig. 28 die Elektronenstrahl-Zeichendaten zur Erläuterung
des herkömmlichen Vorgangs mit variabler Strahl
formung;
Fig. 29 die Fotolackstruktur auf einer Maske zur Erläu
terung von Problemen bei der Erzeugung von Zei
chendaten in der herkömmlichen Vorrichtung mit
variabler Strahlformung;
Fig. 30 Abweichungen der Dimensionen einer Fotolackstruk
tur auf einer Maske beim Zeichnen mit einem
Elektronenstrahlschuß, zur Erläuterung von Pro
blemen bei der Erzeugung von Zeichendaten mit der
herkömmlichen Vorrichtung mit variabler Strahl
formung;
Fig. 31 Abweichungen der Dimensionen einer Fotolackstruk
tur auf einer Maske beim Zeichnen mit zwei Elek
tronenstrahlschüssen, zur Erläuterung von Pro
blemen bei der Erzeugung von Zeichendaten mit der
herkömmlichen Vorrichtung mit variabler Strahl
formung;
Fig. 32 eine gezeichnete Grafik im Fall des Zeichnens mit
einem Elektronenstrahlschuß, zur Erläuterung von
Problemen bei der Erzeugung von Zeichendaten mit
der herkömmlichen Vorrichtung mit variabler
Strahlformung;
Fig. 33 die Intensitätsverteilung des Elektronenstrahls
entsprechend Fig. 32;
Fig. 34 eine gezeichnete Grafik im Fall des Zeichnens mit
zwei Elektronenstrahlschüssen, zur Erläuterung von
Problemen bei der Erzeugung von Zeichendaten mit
der herkömmlichen Vorrichtung mit variabler
Strahlformung;
Fig. 35 die Intensitätsverteilung von Elektronenstrahlen
entsprechend Fig. 34;
Fig. 36 Abweichungen von Fotolackstruktur-Dimensionen auf
einer Maske im Fall des Zeichnens mit zwei Elek
tronenstrahlschüssen und im Fall eines Elektronen
strahls von Mikrogröße, zur Erläuterung von Pro
blemen bei der Erzeugung von Zeichendaten mit der
herkömmlichen Vorrichtung mit variabler Strahl
formung;
Fig. 37 den Datenverarbeitungsfluß beim Elektronenstrahl
zeichnen in der herkömmlichen Elektronenstrahl-
Zeichendatenerzeugungsvorrichtung;
Fig. 38 den Ablauf zur Duplizierungs-Eliminierung von
Grafiken;
Fig. 39 den Ablauf zur Duplizierungs-Eliminierung von
Grafiken;
Fig. 40 den Ablauf bei der Tonwertumkehrung von Grafiken;
und
Fig. 41 den Ablauf bei der Tonwertumkehrung von Grafiken.
Das Blockbild von Fig. 1 zeigt den Systemaufbau der Vor
richtung zum Erzeugen von Zeichendaten mit einem geladenen
Teilchenstrahl (kurz: Teilchenstrahl), wobei dieser System
aufbau allen nachstehend beschriebenen Ausführungsformen
gemeinsam ist.
1 ist eine Teilchenstrahl-Zeichenvorrichtung, und ein
charakteristisches Beispiel hierfür ist eine Elektronen
strahl-Zeichenvorrichtung. Die Teilchenstrahl-Zeichenvor
richtung führt einen Zeichenvorgang aus durch Empfang der
Eingabe eines Teilchenstrahl-Zeichendatensignals V1. Das
Teilchenstrahl-Zeichendatensignal V1 wird nachstehend
einfach als Zeichendatensignal V1 bezeichnet.
Eine Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung 2
besteht aus einem Rechner mit einer CPU 3 als Zentrum und
einem außerhalb des Rechners vorgesehenen Externspeicher 7.
Zusätzlich zu der CPU 3 weist der Rechner eine Displayein
heit 4, eine Eingabeeinrichtung 5 wie etwa eine Tastatur
oder eine Maus usw. und einen Hauptspeicher 6, bestehend aus
einem ROM und einem RAM, auf.
Die jeweiligen Funktionen, die nachstehend im Zusammenhang
mit den verschiedenen Ausführungsformen beschrieben werden,
sind in der Hauptsache Funktionen der CPU 3. Das System, das
aus den vorstehenden beiden Vorrichtungen 1, 2 besteht, wird
allgemein als Teilchenstrahl-Zeichensystem bezeichnet.
Nachstehend wird die erste Ausführungsform beschrieben, wo
bei nach Bedarf auf Fig. 1 Bezug genommen wird.
Fig. 2 zeigt den Fluß der Datenverarbeitung, die von der
Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung 2 (haupt
sächlich der CPU 3) durchgeführt wird, und dient der Erläu
terung dieser Ausführungsform. Diese ist dadurch charak
terisiert, daß sie folgendes aufweist: (1) eine Grafikdaten
verarbeitungsbereich-Teilungsfunktion, um ein eingegebenes
Entwurfslayoutdatensignal in Einheiten eines Grafikdaten-
Verarbeitungsbereichs zu teilen (Schritt S1), (2) eine Gra
fikdatenverarbeitungsergebnis-Erzeugungsfunktion, um einen
Ablauf der Duplizierungs-Eliminierung und Tonwertumkehrung
in den jeweiligen Einheiten des Grafikdaten-Verarbeitungs
bereichs für die jeweiligen Streifen sowohl in Horizontal
richtung (X) als auch in Vertikalrichtung (Y) durchzuführen
(Schritte S2A, S2B), und (3) eine Grafikdatenverarbeitungs
ergebnis-Beurteilungs/Auswählfunktion zum Bewerten durch
Vergleich, Beurteilen und Auswählen der Ergebnisse der Vor
gänge der Duplizierungs-Eliminierung und der Tonwertum
kehrung, die an den Streifen in X,Y-Richtungen (entsprechend
Grafikdatenverarbeitungsergebnissen) in den jeweiligen Ein
heiten des Grafikdaten-Verarbeitungsbereichs durchgeführt
wurden (Schritt S3). Die Schritte S4, S5 sind die gleichen
wie bei der herkömmlichen Vorrichtung (siehe Fig. 37). Der
konkrete Verarbeitungsablauf wird nachstehend für die je
weiligen Funktionen beschrieben.
(1) Die Funktion von Schritt S1 wird zuerst beschrieben. Wie
in der Erläuterung der Probleme bekannter Vorrichtungen ge
sagt wurde, werden die Vorgänge der Duplizierungs-Elimi
nierung und der Tonwertumkehrung als Teil von Grafikopera
tionsvorgängen im allgemeinen nach der Streifenmethode aus
geführt. Da diese Methode jedoch für die jeweiligen Schei
telpunkte der entsprechenden Grafiken, die durch die Ent
wurfslayoutdaten gegeben sind, irgendeine Teilungslinie
bildet, bestimmt die Situation der Anordnung der jeweiligen
Scheitelpunkte die Güte (d. h. die Erzeugung von Mikrogra
fiken) der verarbeiteten Grafikdaten. Die Fig. 3 bis 6
zeigen konkrete Beispiele.
Beispielhaft soll zuerst ein Fall betrachtet werden, bei dem
die Entwurfslayoutdaten gemäß Fig. 3 den Vorgängen der
Duplizierungs-Eliminierung und der Tonwertumkehrung unter
zogen werden. Dabei werden im bekannten Fall entweder die
Streifen in der X-Richtung (siehe Fig. 4) oder die Streifen
in der Y-Richtung (siehe Fig. 5) gewählt. Nach dieser
Methode beeinflußt die Situation der Anordnung der jewei
ligen Scheitelpunkte die Güte der Grafikdaten nach der Ver
arbeitung sehr stark, wie aus den Fig. 4 und 5 ersichtlich
ist, und führt außerdem zu einer Situation, in der die
Erzeugung von Mikrografik unvermeidlich ist.
Um dieses Problem zu lösen, führt also bei der ersten
Ausführungsform die CPU 3 in Schritt S1 von Fig. 2 die
Grafikdatenverarbeitungsbereich-Teilungsfunktion auf der
Basis der Entwurfslayoutdaten (die einem Signal entsprechen,
das Information über die Positionskoordinaten gibt), die
durch die Eingabeeinheit 5 eingegeben werden, und der Daten
(des Datensignals), die die Dimensionen des Grafikdaten-
Verarbeitungsbereichs angeben, durch. Beispielsweise teilt
die CPU 3 den Entwurfslayoutdatenbereich 11, der ein mit dem
Entwurfslayoutdatensignal gegebener Bereich ist, in Grafik
daten-Verarbeitungsbereiche 12 auf, die von den Dimensionen
des Grafikdaten-Verarbeitungsbereichs vorgegeben sind, wie
Fig. 6 zeigt. Wie unten beschrieben wird, führt die CPU 3
die Vorgänge der Duplizierungs-Eliminierung und der Ton
wertumkehrung in den jeweiligen Einheiten der Grafikdaten-
Verarbeitungsbereiche 12 aus. Da die CPU 3 mit dieser Funk
tion von Schritt S1 ausgestattet ist, wird es möglich, zum
Zeitpunkt der Durchführung der Duplizierungs-Eliminierung
und der Tonwertumkehrung diejenigen Bereiche zu unter
drücken, in denen die jeweiligen Scheitelpunkte der Grafik
die Teilung anderer Grafikdaten beeinflussen, so daß dadurch
die Anzahl der erzeugten Mikrografiken verringert und die
Güte der Zeichendaten verbessert wird.
(2) Als nächstes führt die CPU 3 den Vorgang der Duplizie
rungs-Eliminierung und der Tonwertumkehrung in den Streifen
der X-Richtung (Schritt S2A) sowie der Duplizierungs-Eli
minierung und der Tonwertumkehrung in den Streifen der Y-
Richtung (Schritt S2B) in jedem Grafikdaten-Verarbeitungs
bereich 12 aus. Dabei wird die bekannte Streifenmethode als
Verarbeitungsmethode sowohl in Schritt S2A als auch in
Schritt S2B angewandt.
Zuerst werden Teilungslinien in den gesamten Verarbeitungs
bereich in einer Festrichtung (die der Horizontal- oder der
Vertikalrichtung entspricht) vom Scheitelpunkt der jewei
ligen Grafik eingesetzt, um die Streifen zu bilden. Dann
werden die jeweiligen Grafiken an Streifengrenzen geteilt.
Die Fig. 38 und 39 zeigen einen Fall der Teilung in Hori
zontalrichtung.
Als nächstes erhält jede Seite der jeweiligen geteilten
Grafiken eine Orientierung (Richtungszeiger). Die Art und
Weise der Orientierung ist entweder durch Rechtslauf oder
Linkslauf der jeweiligen Scheitelpunkte entlang den Seiten
bestimmt. Die Fig. 38 und 39 zeigen einen Fall von Rechts
lauf (Uhrzeigersinn).
Als nächstes werden unnötige Vektoren (d. h. duplizierte
Bereiche der Grafik) beseitigt. Die Methode ihrer Beseiti
gung wird nachstehend beschrieben.
Zuerst wird jeder Vektor mit Koordinatenwerten für jeden
Streifen geordnet. Dann erhält jeder Vektor einen Zahlenwert
entsprechend der Vektorrichtung. Beispielsweise erhalten
nach oben zeigende Vektoren den Zahlenwert 1, und nach unten
gerichtete Vektoren erhalten den Zahlenwert -1. Dieses
Beispiel ist in bezug auf einen Streifen 5 in Fig. 38
gezeigt.
Wenn die Streifen in Horizontalrichtung gebildet sind, wer
den dann die den jeweiligen Vektoren gegebenen Zahlenwerte
(die vektoriellen Werten entsprechen) in der Reihenfolge von
links addiert auf der Suche nach einem Vektor, bei dem die
Summe 0 wird. Eine Grafik wird mit dem Vektor, bei dem die
Addition begonnen wurde, und dem Vektor, bei dem das Addi
tionsergebnis der vektoriellen Werte 0 wird, konstruiert.
Ein Beispiel einer solchen Verarbeitung kann unter Bezug
nahme auf den Streifen 5 in Fig. 39 beschrieben werden:
Dabei beginnt die Addition bei dem Vektor am linken Ende,
und das Additionsergebnis der vektoriellen Werte wird 2 in
der Phase der Addition des zweiten Vektors, es wird 1 in der
Phase der Addition des dritten Vektors, und es wird 0 in der
Phase der Addition des vierten Vektors. Daher wird eine
Grafik mit dem Vektor am linken Ende in dem Streifen 5 und
dem von dort ausgehend vierten Vektor konstruiert, und der
zweite und der dritte Vektor werden als unnötige Vektoren
beseitigt. Das Verarbeitungsergebnis wird dann so, wie es in
Fig. 39 gezeigt ist.
Die Duplizierung aller Grafiken kann beseitigt werden, wenn
diese Verarbeitung an allen Vektoren in allen Streifen
durchgeführt wird.
Die Methode der Tonwertumkehrung der Grafik wird unter
Bezugnahme auf die Fig. 40 und 41 beschrieben.
Die Verarbeitung beginnt in dem Zustand, in dem die jewei
ligen Seiten nach Duplizierungs-Eliminierung der Grafik in
Vektoren aufgeteilt sind. Zuerst wird ein Bereich (Rahmen)
für die Tonwertumkehrung vorgegeben, und die diesem Rahmen
entsprechende Grafik (d. h. ein Viereck) wird in Vektoren
entsprechend den jeweiligen Streifen geteilt, und ein Vek
torrichtungswert wird für jeden Vektor auf die gleiche Weise
wie im Fall der Duplizierungs-Eliminierung vorgegeben.
Als nächstes wird die Vektorrichtung, die in dem Tonwert
umkehrbereich vorhanden ist, umgekehrt. Bezogen auf die Fig.
38 und 39 werden zum Zeitpunkt der Duplizierungs-Elimi
nierung die nach oben gesetzten Vektoren nach unten ge
richtet, und die nach unten gesetzten Vektoren werden nach
oben gerichtet. Dieser Zustand ist in Fig. 40 gezeigt.
Die darauffolgende Verarbeitung ist die gleiche wie die
Verarbeitung zur Duplizierungs-Eliminierung. Die Addition
der vektoriellen Werte beginnt bei dem Vektor an dem Ton
wertumkehrungs-Rahmen für jeden Streifen auf der Suche nach
einem Vektorpaar, bei dem der Additionswert 0 wird, so daß
eine Grafik gebildet wird. Fig. 41 zeigt den Zustand der
Tonwertumkehrung.
Die Fig. 7 bis 9 zeigen Beispiele von Ergebnissen des oben
beschriebenen Ablaufs in X- und in Y-Richtung für einen
Grafikdaten-Verarbeitungsbereich 12.
Durch das Berechnen des Mikrografik-Bewertungswerts mit der
anschließenden Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beurtei
lungs/Auswählfunktion gegenüber den Ergebnissen der Dupli
zierungs-Eliminierung und der Tonwertumkehrung in den
jeweiligen Richtungen (nachstehend auch als Grafikdaten
verarbeitungsergebnis für den Erhalt eines Positionsdaten
signals einer Grundgrafik in dem Grafikdaten-Verarbei
tungsbereich 12 bezeichnet) und durch die Durchführung eines
Vergleichs und einer Auswahl wird es somit möglich, die
Menge der erzeugten Mikrografiken zu verringern und Zei
chendaten höherer Güte zu erzeugen.
(3) Als nächstes wird die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-
Beurteilungs/Auswählfunktion von Schritt S3 im einzelnen
erläutert. Die Flußdiagramme der Fig. 10 bis 12 zeigen den
Verarbeitungsablauf der Grafikdatenverarbeitungsergebnis-
Beurteilungs/Auswählfunktion von Fig. 2. Dabei ist jedoch
die unterbrochene Linie BL1 in Fig. 10 eine Grenzlinie, um
die Erstellung eines kompletten Flußdiagramms in den Fig. 11
und 12 zu vereinfachen.
In Schritt S31 gibt die Eingabeeinheit 5 ein Datensignal
ein, das einen Mikrografik-Dimensionswert bezeichnet, und
nach Empfang dieses Datensignals speichert die CPU 3 die
diesen Wert bezeichnende Information in dem Hauptspeicher 6.
Wie bereits beschrieben wurde, hängt zwar der Mikrografik-
Dimensionswert weitgehend von der Art der verwendeten
Zeichenvorrichtung oder den Verarbeitungsbedingungen usw.
ab, bei diesem Beispiel ist er aber mit einem Wert von
0,5 µm als allgemeiner Wert vorgegeben. Wenn daher der Wert
wenigstens einer Seite der Grundgrafik 0,5 µm oder kleiner
ist, wird das als die Mikrografik erkannt.
Dann speichert die CPU 3 das Grafikdatenverarbeitungs
ergebnis für die X-Richtung, das in Schritt S2A erhalten
wurde, d. h. die Positionskoordinateninformation der je
weiligen Grundgrafiken, die erhalten wurden (diese Infor
mation wird als Grundgrafikinformation 1 bezeichnet) durch
Teilung des Innenbereichs des betroffenen Bereichs 12 in der
X-Richtung in Einheiten eines Grafikdaten-Verarbeitungs
bereichs 12 und durch Vornahme des Tonwertumkehrungs
prozesses darin, in dem Externspeicher 7, indem der be
troffene Bereich 12 als eine Dateieinheit gesetzt wird
(Schritt S32). Auf die gleiche Weise speichert die CPU 3 das
Grafikdatenverarbeitungsergebnis für die Y-Richtung, das in
Schritt S2B erhalten wird, in dem Externspeicher 7 als eine
Grundgrafikinformation 2 (Schritt S33).
Als nächstes geht die CPU 3 zur Ausführung des Programms,
das den Kern der betreffenden Grafikdatenverarbeitungs
ergebnis-Beurteilungs/Auswählfunktion bildet. Zuerst liest
die CPU 3 in Schritt S34 die Grundgrafikinformation 1 und
die Grundgrafikinformation 2 in bezug auf einen Grafikda
tenverarbeitungsbereich 12, der den Gegenstand der Beurtei
lung des Grafikdatenverarbeitungsergebnisses bildet, aus dem
Externspeicher 7 aus und speichert sie in dem Hauptspeicher
6.
Die CPU 3 ruft die erforderlichen Daten in dem Hauptspeicher
6 ab und berechnet für die Grundgrafikinformation 1 und die
Grundgrafikinformation 2 jeweils den Mikrografik-Bewer
tungswert unter Nutzung des Mikrografik-Dimensionswerts als
Kriterium der Auswertung (Schritte S35A, S35B). Der hier
beschriebene Mikrografik-Bewertungswert ist gegeben durch
den numerischen Ausdruck des Grads des Einflusses, den die
Mikrografiken auf das Zeichnen mit einem bestimmten Index
haben. Je größer dieser Wert ist, umso größer ist der Grad
des Einflusses der Mikrografiken auf den Zeichenvorgang. Die
Methode der Berechnung des Mikrografik-Bewertungswerts wird
später beschrieben.
Als nächstes vergleicht die CPU 3 die Mikrografik-Bewer
tungswerte VAL1, VAL2, die in Schritten S35A, S35B erhalten
wurden (Schritt S36), und wählt das Grafikdatenverarbei
tungsergebnis mit dem kleineren Mikrografik-Bewertungswert
aus und gibt es in den Hauptspeicher 6 ab (Schritte S37A,
S37B). Und die CPU 3 führt diese Operationen (S34 bis S37A,
S37B) aus, bis kein weiterer unverarbeiteter Grafikdatenver
arbeitungsbereich 12 mehr vorhanden ist (Schritt S38).
Als nächstes wird die vorgenannte Methode der Berechnung der
Mikrografik-Bewertungswerte VAL1, VAL2 unter Bezugnahme auf
das Flußdiagramm von Fig. 13 beschrieben. Dabei beurteilt
die CPU 3 für jede der eingegebenen Grundgrafiken, ob die
Breitendimension oder die Höhendimension nicht größer als
der gegebene Mikrografik-Dimensionswert ist (Schritt 351 bis
Schritt S353). Wenn beurteilt wird, daß die Grundgrafik eine
solche Dimension hat, erkennt die CPU 3 diese Grundgrafik
als die Mikrografik, summiert die Anzahl der Mikrografiken
gegenüber allen Grundgrafiken innerhalb des betroffenen
Grafikdatenverarbeitungsbereichs (Schritt S354), und gibt
die erhaltene Gesamtanzahl von Mikrografiken als die Mikro
grafik-Bewertungswerte (VAL1, VAL2) ab (Schritt S355).
Ein konkretes Beispiel dieses Ablaufs wird unter Bezugnahme
auf ein Beispiel der Fig. 7 bis 9 beschrieben. Es sei ange
nommen, daß einer der abgeteilten Grafikdatenverarbei
tungsbereiche in Fig. 12 ein in Fig. 7 gezeigter Bereich
ist, und die nachstehende Beschreibung bezieht sich speziell
auf diesen Grafikdatenverarbeitungsbereich 12. Wenn diese
Daten den Vorgängen der Duplizierungs-Eliminierung und der
Tonwertumkehrung mit den Streifen in der X- und Y-Richtung
unterzogen werden, wird das Ergebnis so, wie es in den Fig.
8 bzw. 9 gezeigt ist. Als nächstes wird der Mikrografik-
Dimensionswert zuerst durch die Grafikdatenverarbeitungs
ergebnis-Beurteilungs/Auswählfunktion berechnet, und im Fall
von Fig. 8 existieren zehn Mikrografiken 13, während im Fall
von Fig. 9 keine Mikrografik existiert. Infolgedessen werden
die Mikrografik-Bewertungswerte VAL1, VAL2 zu 10 bzw. 0, und
als Ausgabeinformation werden die Daten von Fig. 9 (entspre
chend der Grundgrafikinformation 2) in bezug auf den Strei
fen in der Y-Richtung ausgewählt.
Es wird die Zeichenfeldgrenze-Teilungsfunktion in Schritt T4
ausgeführt. Bei dieser Funktion wird der Zeichenbereich in
Bereiche geteilt, in denen das Elektronenstrahl-Zeichen
system nur unter Ablenkung des Elektronenstrahls zeichnen
kann (nachstehend als "Zeichenfeldbereiche" bezeichnet).
Danach wird die Elektronenstrahl-Zeichendatenformatier
funktion von Schritt T5 zur Formatierung der Daten zu einer
Struktur ausgeführt, die zur Eingabe in verschiedene Zei
chensysteme verfügbar ist, so daß die Elektronenstrahl-
Zeichendaten erzeugt werden. Das hier als Beispiel verwen
dete Zeichensystem mit variabler Strahlformung kann die
Größe des Zeichenfeldbereichs mit einem fakultativen Wert
von gewöhnlich 2,5 mm oder kleiner vorgeben.
Wie vorstehend beschrieben, ist es bei dieser ersten Ausfüh
rungsform möglich, bei dem Vorgang der Duplizierungs-
Eliminierung und der Tonwertumkehrung nicht nur den Bereich
zu unterdrücken, in dem die jeweiligen Scheitelpunkte der
Grafik auf die Teilung anderer Grafikdaten einen Einfluß
haben, sondern auch eine deutliche Verringerung der Erzeu
gung von Mikrografiken zu realisieren, und zwar wegen der
Funktion der Durchführung der Duplizierungs-Eliminierung und
der Tonwertumkehrung mit den Streifen in der X- bzw. der Y-
Richtung und des Vergleichens, Beurteilens und Auswählens
der Ergebnisse dieser Operationen, was die Erzeugung von
Zeichendaten hoher Güte ermöglicht.
Als Beispiel einer ersten Anwendung der ersten Ausführungs
form kann die in Schritt S1 von Fig. 2 beschriebene Grafik
datenverarbeitungsbereich-Teilungsfunktion auch als eine
unabhängige Funktion getrennt von der Teilchenstrahl-
Zeichendatenerzeugungsvorrichtung (2 in Fig. 2) beispiels
weise in dem Verarbeitungsablauf der herkömmlichen Zeichen
datenerzeugungsvorrichtung gemäß Fig. 37 vorgesehen sein.
Ein solches Anwendungsbeispiel ist in dem Zeichendaten
erzeugungsfluß von Fig. 14 gezeigt. Dabei sind die Schritte
T1 bis T5, T2A und T2B die gleichen wie bei der herkömm
lichen Ausführungsform.
Dadurch kann die Erzeugung von Mikrografiken zum Zeitpunkt
der Duplizierungs-Eliminierung verringert werden, und
infolgedessen wird die Erzeugung von Mikrografiken, die aus
der Tonwertumkehrung resultieren, auch dann in Richtung
einer Unterdrückung gesteuert, wenn Schritt T2 ausgeführt
wird, wenn eine Tonwertumkehrung notwendig ist, so daß es
möglich ist, die Verschlechterung der dimensionsmäßigen
Genauigkeit von Fotolackstrukturen zu vermindern. Ein
weiterer Vorteil ist ferner, daß der Ablauf der Schritte
T2A, T2B, die durchgeführt werden, wenn keine Tonwertumkeh
rung notwendig ist, ebenfalls leicht ausgeführt werden kann,
weil die in Schritt T1 erzeugte Menge an Mikrografiken vor
her unter vorhergehender Ausführung von Schritt S1 ver
ringert wird.
Die erste Ausführungsform ist besonders in einem Fall
effektiv, in dem die Tonwertumkehrung verlangt wird, und die
Beschreibung bezieht sich beispielhaft auf einen solchen
Fall. Aber auch dann, wenn kein Tonwertumkehrungsvorgang
benötigt wird, kann die Erzeugung von Mikrografiken ver
ringert werden, indem die Verarbeitung nach der Duplizie
rungs-Eliminierung mit Hilfe der Grafikdatenverarbeitungs
ergebnis-Beurteilungs/Auswählfunktion von Schritt S3 in Fig.
2 ausgeführt wird. Dieses Beispiel der zweiten Anwendung
entspricht dabei demjenigen, bei dem der Teil mit den
Schritten T2A, T2B in Fig. 37 durch den Schritt S3 von Fig.
2 ersetzt wird. Ein Beispiel eines konkreten Verarbeitungs
ablaufs dieses zweiten Anwendungsbeispiels ist in Fig. 15
gezeigt.
Die Verarbeitung gemäß Fig. 15 bietet gegenüber den
Schritten T2A, T2B von Fig. 37 den folgenden Vorteil: Dieses
zweite Anwendungsbeispiel kann die Verarbeitungszeit weiter
verkürzen, weil es den Verarbeitungsablauf vereinfachen und
Operationen entwickeln kann, indem die herkömmlich ange
wandte Methode so beibehalten wird, wie sie ist.
Der technische Gedanke der ersten Ausführungsform führt fer
ner zu den gleichen Effekten wie bei der ersten Ausführungs
form unter Anwendung der Grafikdatenverarbeitungsbereich-
Teilungsfunktion und der Grafikdatenverarbeitungsergebnis-
Beurteilungs/Auswählfunktion nicht nur für die Tonwertumkeh
rung und die Duplizierungs-Eliminierung, wie das oben be
schrieben wurde, sondern auch für verschiedene Arten von
Grafikoperationsprozessen unter Anwendung der Streifenme
thode wie beispielsweise eines Abgabevorgangs nur dupli
zierter Teile (entsprechend einer UND-Verarbeitung).
Während bei der Beschreibung der ersten Ausführungsform der
Mikrografik-Bewertungswert als die Gesamtzahl von Mikrogra
fiken in der Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/
Auswählfunktion gegeben ist, wird bei dieser zweiten Aus
führungsform der Mikrografik-Bewertungswert statt dessen als
die Summe der Länge langer Seiten von Mikrografiken berech
net, wie das Flußdiagramm von Fig. 16 zeigt (siehe die
Schritte S354A, S355A). Die übrigen Aspekte sind die glei
chen wie bei der ersten Ausführungsform.
Dadurch wird es möglich, eine hochpräzise Mikrografikbewer
tung vorzunehmen und als Folge davon Zeichendaten höherer
Güte im Vergleich mit der ersten Ausführungsform zu erhal
ten. Der Grund hierfür ist schematisch in Fig. 17 gezeigt.
Von den zwei Grafikdaten in Fig. 17 hat die oben gezeigte
Information zwei Mikrografiken 3A, 3B, und die Anzahl ihrer
Mikrografiken ist kleiner als die der Grafikdaten, die unten
gezeigt sind, wobei vier Mikrografiken 3C, 3D, 3E, 3F vor
handen sind. Aber die jeweiligen langen Seiten der Mikro
grafiken 3A, 3B im ersteren Fall sind länger als die
entsprechenden langen Seiten der Mikrografiken 3C bis 3F.
Das bedeutet, daß die Ausdehnung von Bereichen, in denen
Mikrografiken vorhanden sind, die Verschlechterung der
dimensionsmäßigen Genauigkeit weiter beschleunigt. Es
bedeutet daher, daß es besser ist, den Mikrografik-Bewer
tungswert dadurch zu bestimmen, daß die Summe von langen
Seiten von Mikrografiken anstatt die Summe der Anzahl von
Mikrografiken genutzt wird, um bessere Grafikdaten auszu
wählen und abzugeben. Nach dieser Methode werden die letzt
genannten Grafikdaten im Fall von Fig. 17 ausgewählt, und
das führt zu günstigeren Ergebnissen.
Bei der zweiten Ausführungsform wird der Mikrografik-Bewer
tungswert mit der Summe der Länge von langen Seiten jeder
Mikrografik bei der Grafikdatenverarbeitungsergebnis-
Beurteilungs/Auswählfunktion berechnet; dagegen wird bei
dieser dritten Ausführungsform der Mikrografik-Bewertungs
wert als die Summe der Oberflächen jeweiliger Mikrografiken
berechnet, wie das Flußdiagramm von Fig. 18 zeigt (siehe die
Schritte S354B, S355B). Das ergibt die gleichen Auswirkungen
wie bei der zweiten Ausführungsform.
Während bei der dritten Ausführungsform der Mikrografik-
Bewertungswert mit der Summe der Oberflächen jeweiliger
Mikrografiken in der Grafikdatenverarbeitungsergebnis-
Beurteilungs/Auswählfunktion berechnet wird, wird bei der
vierten Ausführungsform der Mikrografik-Bewertungswert als
die Summe der Seitenverhältnisse (entsprechend (Länge von
langer Seite)/(Länge von kurzer Seite)) jeweiliger Mikro
grafiken berechnet, wie das Flußdiagramm von Fig. 19 zeigt
(siehe die Schritte S354C, S355C). Das ergibt die gleichen
Auswirkungen, die denen der zweiten und der dritten Ausfüh
rungsform entsprechen oder überlegen sind.
Dabei zeigt Fig. 20 schematisch den Punkt, an dem die vierte
Ausführungsform der zweiten und der dritten Ausführungsform
überlegen ist, und in dieser Figur bezeichnet "d" einen
Mikrografik-Dimensionswert. Gemäß der zweiten Ausführungs
form werden die zwei Grafikdaten Höhe h1, Höhe h2 als gleich
bewertet. Bei der dritten Ausführungsform hat ferner die
Mikrografik der Höhe h1 eine kleinere Oberfläche, und das
führt zu der Auswahl dieser Grafikinformation, es ist aber
nicht richtig, diese Grafikinformation der Höhe h1 auszu
wählen, weil die Verschlechterung der dimensionsmäßigen
Genauigkeit der gebildeten Fotolackstruktur zunimmt, während
ein schmalerer Bereich auf solche Weise gebildet wird, daß
er sich in der Horizontalrichtung breiter ausdehnt. In die
sem Fall sollte die Grafikinformation der Höhe h2 ausgewählt
werden. An diesem Punkt kann die vierte Ausführungsform als
der zweiten und der dritten Ausführungsform überlegen ange
sehen werden, weil dabei die Grafikinformation der Höhe h2
ausgewählt wird.
Es ist ebenfalls in Ordnung, den Mikrografik-Bewertungswert
durch Nutzung von wenigstens zwei Kombinationen der ersten
bis vierten Ausführungsform zu berechnen.
Während bei der ersten bis vierten Ausführungsform die
Grundgrafiken, die eine Dimension haben, die nicht größer
als der als Festwert vorgegebene Mikrografik-Dimensionswert
ist, als die Mikrografiken in der Grafikdatenverarbeitungs
ergebnis-Beurteilungs/Auswählfunktion beurteilt werden, wird
die dimensionsmäßige Steuerung von tatsächlichen Zeichen
strukturen vom Gesichtspunkt der Schwierigkeit der Steuerung
der Form des Elektronenstrahls schwieriger im Fall der
Grundgrafiken, die eine Dimension haben, die nicht größer
als der Mikrografik-Dimensionswert ist, und im Fall der
Grundgrafiken, deren Dimension kleiner ist.
Bei dieser fünften Ausführungsform wird daher der Mikro
grafik-Dimensionswert mit einer größeren Anzahl von Dimen
sionsbereichen bezeichnet, und eine Gewichtung, die den Grad
der Bedeutung des Mikrografik-Dimensionswerts anzeigt, wird
für die jeweiligen Bereiche vorgegeben, wie die Flußdia
gramme der Fig. 21 bis 23 zeigen (siehe Schritt S31A). Das
ermöglicht die Durchführung der Mikrografik-Bewertung mit
höherer Präzision gegenüber der ersten bis vierten Ausfüh
rungsform und somit den Erhalt von Zeichendaten höherer
Güte.
Die Schritte S35AD, S35BD können jede der Methoden sein, die
in Verbindung mit der ersten bis vierten Ausführungsform
beschrieben wurden, oder jede Kombination dieser Methoden.
Beispielsweise erfolgt die Berechnung des Mikrografik-Be
wertungswerts (VAL1, VAL2) durch Multiplikation der Anzahl
von Teilen, d. h. 1, mit der Gewichtung, um die Aufsum
mierung zu erhalten, wenn die Methode der ersten Ausfüh
rungsform angewandt wird (siehe Fig. 24), und erfolgt durch
Multiplikation der Länge bzw. der Oberfläche bzw. des
Seitenverhältnisses mit der Gewichtung, um die Aufsummierung
zu erhalten, wenn die Methode der zweiten bzw. dritten bzw.
vierten Ausführungsform angewandt wird.
Fig. 24 zeigt ein Beispiel der Methode der Bezeichnung des
Bereichs des Mikrografik-Dimensionswerts und der Methode der
Bezeichnung der Gewichtung. Dabei sind als die Mikrografik-
Dimensionswertbereiche fünf Bereiche von 0,1 µm oder
darunter, größer als 0,1 µm, aber nicht mehr als 0,2 µm,
größer als 0,2 µm, aber nicht mehr als 0,3 µm, größer als
0,3 µm, aber nicht mehr als 0,4 µm, und größer als 0,4 µm,
aber nicht mehr als 0,5 µm, gegeben. In dieser Figur be
zeichnet das Symbol L die Seitenlänge der Grundgrafik, die
als die Mikrografik erkannt wird, und wenn gefunden wird,
daß die Seitenlänge L der Grundgrafik in dem Bereich des
Mikrografik-Dimensionswerts liegt, der beispielsweise als
der Bereich von 0,2 µm bis 0,3 µm bezeichnet ist, wird die
Gewichtung zu 3.
Wie oben beschrieben, wird es mit den jeweiligen Ausfüh
rungsformen der Erfindung möglich, zum Zeitpunkt der her
kömmlichen Duplizierungs-Eliminierung und der Tonwertumkeh
rung diejenigen Bereiche, in denen die jeweiligen Scheitel
punkte der Grafik die Teilung von anderen Grafikdaten be
einflussen, dadurch unterdrückend zu steuern, daß die
Grafikdatenverarbeitungsbereich-Teilungsfunktion vorgesehen
ist, und außerdem ist es möglich, eine deutliche Vermin
derung der Erzeugung von Mikrografiken zu realisieren, um so
Zeichendaten hoher Güte zu erzeugen, weil die jeweiligen
Ausführungsformen so ausgebildet sind, daß sie die Grafikda
tenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/Auswählfunktion haben,
um die Duplizierungs-Eliminierung und die Tonwertumkehrung
mit den Streifen der X- bzw. der Y-Richtung auszuführen und
die Ergebnisse zu vergleichen, zu beurteilen und aus
zuwählen.
Claims (12)
1. Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung, die aus
einem Entwurflayoutdatensignal ein Zeichendatensignal zur
Eingabe in eine Teilchenstrahl-Zeichenvorrichtung erzeugt,
gekennzeichnet durch
- - eine Eingabeeinrichtung (5) zur Eingabe eines Signals, das Dimensionsdaten eines Grafikdatenverarbeitungsbereichs be zeichnet; und
- - eine Grafikdatenverarbeitungsbereich-Teilungsfunktion, um einen von dem Entwurflayoutdatensignal bezeichneten Bereich in Einheiten eines Grafikdatenverarbeitungsbereichs zu teilen, wobei der Grafikdatenverarbeitungsbereich durch die von der Eingabeeinrichtung bezeichneten Dimensionsdaten des Grafikdatenverarbeitungsbereichs bestimmt ist.
2. Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung nach
Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
- - daß die Eingabeeinrichtung außerdem ein Signal eingibt, das einen Mikrografik-Dimensionswert bezeichnet, und
- - daß die Vorrichtung ferner folgendes aufweist:
eine Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Erzeugungsfunktion, die für jeden der Grafikdatenverarbeitungsbereiche und sowohl für eine Horizontal- als auch eine Vertikalrich tung des von dem Entwurflayoutdatensignal gegebenen Be reichs eine vorgeschriebene Grafikverarbeitungsoperation an dem Entwurflayoutdatensignal ausführt, um ein Gra fikdatenverarbeitungsergebnis zu erzeugen, wobei das Gra fikdatenverarbeitungsergebnis Datensignale von Grundgra fiken ergibt, die in dem betreffenden Grafikdatenverar beitungsbereich gebildet sind; und
eine Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/Aus wählfunktion, um für jeden der Grafikdatenverarbeitungs bereiche und jeweils für die Horizontal- und die Verti kalrichtung Mikrografiken bezeichnende Datensignale aus den Datensignalen der Grundgrafiken, die in dem Grafik datenverarbeitungsergebnis enthalten sind, auf der Basis des Signals des Mikrografik-Dimensionswerts zu beurtei len, um einen Mikrografik-Bewertungswert zu bestimmen, der einen Grad der Beeinflussung des Teilchenstrahl zeichnens durch die Mikrografiken bezeichnet, und um die Mikrografik-Beurteilungswerte in bezug sowohl auf die Horizontal- als auch die Vertikalrichtung zu vergleichen und somit dasjenige Grafikdatenverarbeitungsergebnis aus zuwählen, in bezug auf dessen Richtung der Mikrografik- Bewertungswert kleiner ist.
3. Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung nach
Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Erzeugungsfunktion
eine Duplizierungs-Eliminier- und Tonwertumkehr-Funktion
aufweist, um einen Vorgang der Beseitigung von duplizierten
Teilen und einer Tonwertumkehrung in dem Entwurflayout
datensignal als die vorgeschriebene Grafikdatenverarbei
tungsoperation auszuführen.
4. Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung nach
Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/Aus
wählfunktion eine Mikrografik-Beurteilungsfunktion aufweist,
um zu beurteilen, daß das Datensignal der betreffenden
Grundgrafik die genannte Mikrografik ergibt, wenn jeweils
für die Horizontal- und die Vertikalrichtung wenigstens
einer von Dimensionswerten der Seiten der Grundgrafik nicht
größer als der Mikrografik-Dimensionswert ist.
5. Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung nach
Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/Aus
wählfunktion eine Mikrografik-Bewertungswertrechenfunktion
aufweist, um die Zahl der Mikrografiken entsprechend einem
Beurteilungsergebnis der Mikrografik-Beurteilungsfunktion
aufzusummieren und die Summe als den Mikrografik-Bewer
tungswert abzugeben, und zwar jeweils für die Horizontal-
und die Vertikalrichtung.
6. Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung nach
Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/Aus
wählfunktion eine Mikrografik-Bewertungswertrechenfunktion
aufweist, um die Längen der langen Seite der Mikrografiken
entsprechend dem Beurteilungsergebnis der Mikrografik-
Beurteilungsfunktion aufzusummieren und die Summe als den
Mikrografik-Bewertungswert abzugeben, und zwar jeweils für
die Horizontal- und die Vertikalrichtung.
7. Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung nach
Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/Aus
wählfunktion eine Mikrografik-Bewertungswertrechenfunktion
aufweist, um die Oberflächen der Mikrografiken entsprechend
dem Beurteilungsergebnis der Mikrografik-Beurteilungsfunk
tion aufzusummieren und eine Summe der Oberflächen dieser
Mikrografiken als den Mikrografik-Bewertungswert abzugeben,
und zwar jeweils für die Horizontal- und die Vertikal
richtung.
8. Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung nach
Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/Aus
wählfunktion eine Mikrografik-Bewertungswertrechenfunktion
aufweist, um jeweils für die Horizontal- und die Vertikal
richtung die Seitenverhältnisse, die als Verhältnis der
Länge der langen Seite zu der Länge der kurzen Seite der
Mikrografiken gemäß dem Beurteilungsergebnis der Mikrogra
fik-Beurteilungsfunktion gegeben sind, aufzusummieren und
eine Summe dieser Seitenverhältnisse der Mikrografiken als
den Mikrografik-Bewertungswert abzugeben.
9. Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung nach
Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet,
- - daß die Eingabeeinrichtung nicht nur das Signal be zeichnet, das den Mikrografik-Dimensionswert über eine größere Anzahl von Mikrografik-Dimensionswertbereichen angibt, sondern auch ein Signal liefert, das eine Gewichtung vorgibt, wobei diese Gewichtung für jeden der Vielzahl von Mikrografik-Dimensionswertbereichen einen Bedeutungsgrad der Dimension der Mikrografik definiert, und
- - daß die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/Aus
wählfunktion aufweist:
eine Mikrografik-Beurteilungsfunktion, um zu beurteilen, ob wenigstens einer von Dimensionswerten von Seiten der Grund grafik in einen der Vielzahl von Mikrografik-Dimensionswert bereichen fällt, um so zu beurteilen, ob das Datensignal der Grundgrafik die Mikrografik ergibt, und zwar jeweils für die Horizontal- und die Vertikalrichtung; und
eine Mikrografik-Bewertungswertrechenfunktion, um den Mikrografik-Bewertungswert auf der Basis des Signals, das die Gewichtung vorgibt, in Übereinstimmung mit den Mikro grafik-Dimensionswertbereichen aufgrund eines Ergebnisses, das von der Mikrografik-Beurteilungsfunktion als die Mikro grafik beurteilt ist, für jeweils die Horizontal- und die Vertikalrichtung zu berechnen.
10. Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung nach
Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Erzeugungsfunktion
eine Duplizierungs-Eliminierfunktion aufweist, um das Ent
fernen von duplizierten Teilen in dem Entwurflayoutdaten
signal als die vorgeschriebene Grafikverarbeitungsoperation
auszuführen.
11. Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung, um aus
einem Entwurflayoutdatensignal ein Zeichendatensignal zu
erzeugen, das in eine Teilchenstrahl-Zeichenvorrichtung
einzugeben ist,
gekennzeichnet durch
- - eine Eingabeeinrichtung (5) zur Eingabe eines Signals, das einen Mikrografik-Dimensionswert bezeichnet;
- - eine Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Erzeugungsfunktion, um vorgeschriebene Grafikverarbeitungsoperationen an dem Entwurflayoutdatensignal auszuführen und ein Grafikdaten verarbeitungsergebnis zu erzeugen, das Datensignale von Grundgrafiken bezeichnet, die in einem Bereich gebildet sind, der durch das Entwurflayoutdatensignal gegeben ist, und zwar jeweils für die Horizontal- und die Vertikalrich tung des genannten Bereichs; und
- - eine Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/Aus wählfunktion, um aus den Datensignalen der Grundgrafiken, die in dem Grafikdatenverarbeitungsergebnis enthalten sind, Mikrografiken bezeichnende Datensignale auf der Basis des Signals des Mikrografik-Dimensionswerts zu beurteilen, um einen Mikrografik-Bewertungswert zu bestimmen, der einen Grad der Beeinflussung des Teilchenstrahlzeichnens durch die Mikrografiken bezeichnet, und zwar für jeweils die Horizon tal- und die Vertikalrichtung, und um die Mikrografik- Bewertungswerte in bezug auf die Horizontal- und die Vertikalrichtung zu vergleichen und das Grafikdatenverarbei tungsergebnis in bezug auf diejenige Richtung auszuwählen, in der der Mikrografik-Bewertungswert kleiner ist.
12. Teilchenstrahl-Zeichensystem mit
einer Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung zum Erzeugen eines Zeichendatensignals aus einem gegebenen Entwurflayoutdatensignal und
mit einer Teilchenstrahl-Zeichenvorrichtung zur Durchführung von Teilchenstrahl-Zeichnen auf der Basis des Zeichenda tensignals, um eine Fotolackstruktur zu bilden,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung aufweist:
einer Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung zum Erzeugen eines Zeichendatensignals aus einem gegebenen Entwurflayoutdatensignal und
mit einer Teilchenstrahl-Zeichenvorrichtung zur Durchführung von Teilchenstrahl-Zeichnen auf der Basis des Zeichenda tensignals, um eine Fotolackstruktur zu bilden,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Teilchenstrahl-Zeichendatenerzeugungsvorrichtung aufweist:
- - eine Eingabeeinrichtung (5) zur Eingabe eines Signals, das eine Grafikdatenverarbeitungsbereich-Dimension angibt, und eines Signals, das einen Mikrografik-Dimensionswert angibt;
- - eine Grafikdatenverarbeitungsbereich-Teilungsfunktion zum Teilen eines durch das Entwurflayoutdatensignal gegebenen Bereichs in Einheiten eines Grafikdatenverarbeitungs bereichs, der durch die Grafikdatenverarbeitungsbereich- Dimension bestimmt ist;
- - eine Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Erzeugungsfunktion, um vorgeschriebene Grafikdatenverarbeitungsoperationen an dem Entwurflayoutdatensignal sowohl für eine Horizontal- als auch eine Vertikalrichtung des genannten Bereichs, der durch das Entwurflayoutdatensignal gegeben ist, auszuführen, um ein Grafikdatenverarbeitungsergebnis zu erzeugen, das Datensignale von Grundgrafiken, die in dem betreffenden Grafikdatenverarbeitungsbereich gebildet sind, für jeden Grafikdatenverarbeitungsbereich zu ergeben;
- - eine Grafikdatenverarbeitungsergebnis-Beurteilungs/Aus wählfunktion, um Mikrografiken angebende Datensignale aus den Datensignalen der Grundgrafiken, die in dem Grafikda tenverarbeitungsergebnis enthalten sind, auf der Basis des von der Eingabeeinrichtung gegebenen Signals des Mikro grafik-Dimensionswerts zu beurteilen und so einen Mikro grafik-Bewertungswert zu bestimmen, der einen Grad der Be einflussung des Teilchenstrahl-Zeichnens durch die Mikro grafiken bezeichnet, und zwar für jeweils die Horizontal- und die Vertikalrichtung, und um die Mikrografik-Bewer tungswerte in bezug auf die Horizontal- und die Vertikal richtung zu vergleichen und das Grafikdatenverarbeitungs ergebnis in bezug auf diejenige Richtung, in der der Mikro grafik-Bewertungswert kleiner ist, für jeden Grafikdaten verarbeitungsbereich auszuwählen und abzugeben; und
- - eine Zeichendatenerzeugungseinrichtung (CPU 3), um das Zeichendatensignal auf der Basis des Zeichendatenverarbei tungsergebnisses, das von der Grafikdatenverarbeitungser gebnis-Beurteilungs/Auswählfunktion abgegeben wird, zu erzeugen.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7136583A JPH08330203A (ja) | 1995-06-02 | 1995-06-02 | 荷電ビーム描画データ作成装置及び荷電ビーム描画システム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19600514A1 true DE19600514A1 (de) | 1996-12-19 |
Family
ID=15178680
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19600514A Withdrawn DE19600514A1 (de) | 1995-06-02 | 1996-01-09 | Teilchenstrahl - Zeichendatenerzeugungsvorrichtung und Teilchenstrahl - Zeichensystem |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5796408A (de) |
JP (1) | JPH08330203A (de) |
DE (1) | DE19600514A1 (de) |
GB (1) | GB2301759B (de) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3549282B2 (ja) * | 1995-04-28 | 2004-08-04 | 株式会社ルネサステクノロジ | 荷電ビーム描画データ作成方法およびその作成装置 |
US6008822A (en) * | 1996-03-19 | 1999-12-28 | Shinko Electric Industries, Co., Ltd. | Parallel graphic processing system using a network |
US5936642A (en) * | 1996-03-29 | 1999-08-10 | Shinko Electric Industries, Co., Ltd. | Parallel graphic processing system using a network |
US20080079726A1 (en) * | 2006-07-03 | 2008-04-03 | Wolfgang Geiger | Visual display of process sequences |
KR101116529B1 (ko) * | 2009-03-23 | 2012-02-28 | 가부시끼가이샤 도시바 | 포토마스크, 반도체 장치, 하전 빔 묘화 장치 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4878177A (en) * | 1987-02-16 | 1989-10-31 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method for drawing a desired circuit pattern using charged particle beam |
US5008830A (en) * | 1988-08-10 | 1991-04-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of preparing drawing data for charged beam exposure system |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0367496B1 (de) * | 1988-10-31 | 1994-12-28 | Fujitsu Limited | Vorrichtung und Verfahren zur Lithographie mittels eines Strahls geladener Teilchen |
US5402530A (en) * | 1991-08-20 | 1995-03-28 | Island Graphics Corporation | Method and system for color film separation preprocess using electronic object-based choking and spreading procedures including object combining operations |
JP2725927B2 (ja) * | 1991-12-18 | 1998-03-11 | 三菱電機株式会社 | 荷電ビーム描画データ作成方法 |
US5366847A (en) * | 1992-02-24 | 1994-11-22 | Trw Inc. | Method and apparatus for optimizing semiconductor exposure process |
EP0608657A1 (de) * | 1993-01-29 | 1994-08-03 | International Business Machines Corporation | Vorrichtung und Verfahren zur Verarbeitung von Formdaten zur Korrektur von Streveffekten |
-
1995
- 1995-06-02 JP JP7136583A patent/JPH08330203A/ja active Pending
- 1995-11-08 US US08/555,074 patent/US5796408A/en not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-01-08 GB GB9600335A patent/GB2301759B/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-01-09 DE DE19600514A patent/DE19600514A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4878177A (en) * | 1987-02-16 | 1989-10-31 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method for drawing a desired circuit pattern using charged particle beam |
US5008830A (en) * | 1988-08-10 | 1991-04-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of preparing drawing data for charged beam exposure system |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JP 5-166706 A, mit englischem Abstract in: PatentsAbstracts of Japan, E-1447, 1993, Vol.17, NO. 568 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH08330203A (ja) | 1996-12-13 |
US5796408A (en) | 1998-08-18 |
GB2301759B (en) | 1999-08-04 |
GB9600335D0 (en) | 1996-03-13 |
GB2301759A (en) | 1996-12-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE19729600B4 (de) | Mustervergleichsüberprüfungssystem und -verfahren, die ein Grauwertpunktraster verwenden | |
DE3806223C2 (de) | Verfahren zur Erzeugung von Zeichenmustern | |
DE19609652B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Korrektur von Maskenmustern | |
DE102005002533B4 (de) | Verfahren zum Erzeugen eines Abbildungsfehler vermeidenden Maskenlayouts für eine Maske | |
DE10143723A1 (de) | Verfahren zur Erzeugung eines Layouts für eine Maske zur Verwendung bei der Ha lbleiterherstellung | |
DE68926189T2 (de) | Verarbeitungsverfahren von Layoutdaten | |
DE19628874A1 (de) | Verfahren zur Korrektur eines Maskenmusters und einer Maske, Verfahren zur Belichtung, Vorrichtung dazu und eine Photomasken- und Halbleitervorrichtung, die eine solche verwendet | |
DE19546769C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von Musterdaten | |
DE102005050846A1 (de) | Perspektiveneditierwerkzeuge für 2-D Bilder | |
DE3825891A1 (de) | Verfahren zum entwurf einer gekruemmten flaeche | |
DE10127547C1 (de) | Verfahren zur Durchführung einer regelbasierten OPC bei gleichzeitigem Einsatz von Scatterbars | |
DE19841528A1 (de) | Verfahren und Gerät zum Erzeugen von Halbleiterbelichtungsdaten | |
DE10209594A1 (de) | Verfahren zum Bilden einer Maske für Ladungsteilchenstrahl- Belichtung und Programm zum Verarbeiten von Strukturdaten zum Bilden einer derartigen Maske | |
DE68923880T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von komplementären Mustern zur Exposition von Halbleiterkörpern mit selbsttragenden Masken. | |
DE19600514A1 (de) | Teilchenstrahl - Zeichendatenerzeugungsvorrichtung und Teilchenstrahl - Zeichensystem | |
DE10205330A1 (de) | Verfahren zur Korrektur optischer Nachbarschaftseffekte | |
DE602004001882T2 (de) | Verfahren zur Unterteilung eines Maschengitters oder Polygonzuges | |
DE10122678A1 (de) | Maskendatenkorrekturvorrichtung, Fouriertransformationsvorrichtung, Vorrichtung zur höheren Abtastung, Vorrichtung zur niedrigeren Abtastung, Verfahren zur Herstellung einer Übertragungsmaske und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung mit einer Musterstruktur | |
DE68919416T2 (de) | Methode und Gerät zur Mustererzeugung hoher Qualität. | |
WO2003107225A2 (de) | Verfahren zum verändern von entwurfsdaten für die herstellung eines bauteils sowie zugehörige einheiten | |
DE3634024C2 (de) | ||
DE10393430T5 (de) | Verfahren zur Korrektur eines Maskenmusters | |
DE10304674B4 (de) | Verfahren zum Belichten eines Substrates mit einem den optischen Proximity-Effekt ausgleichenden Strukturmuster | |
DE69126159T2 (de) | Schriftzeichenverarbeitungsverfahren und -gerät | |
DE4326988A1 (de) | Verfahren zur Steuerung von Werkzeugmaschinen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8136 | Disposal/non-payment of the fee for publication/grant |