DE1955364C3 - Dreidimensionales Speichersystem - Google Patents
Dreidimensionales SpeichersystemInfo
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- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
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- B28B7/24—Unitary mould structures with a plurality of moulding spaces, e.g. moulds divided into multiple moulding spaces by integratable partitions, mould part structures providing a number of moulding spaces in mutual co-operation
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein dreidimensionales System zur Speicherung großer Informationsmengen,
wobei dessen Speicherplätze wahlfrei zugreifbar sind.
Bei den bisher bekannten Datenspeichern mit wahlfreiem Zugriff, die elektrische Leitungsbahnen
zur Datenselektion verwenden — im Gegensatz zu optischen Speichern — werden zur Reduktion der
äußeren Anschlüsse geeignete, meist matrizenartige Verdrahtungssysteme verwendet. Bekannte verdrahtete
Speichersysteme mit wahlfreiem Zugriff sind Magnetspeicher, wie Ferritkern-, Draht- oder
Magnet-Dünnfilm-Speicher und elektronische Speicher- wie beispielsweise Dioden-, Bipolar- oder elektronische
Dünnfilmspeicher. Kennzeichnend für alle bekannten MatrÄzenanordnungen ist die eindimensionale Leiteretrokjw; S° w"^ beispielsweise htm
Ferritkernspeicher jeder einzelnen Zeile und jeder einzelnen Spalte der Matrix je ein Leitungsdraht jtqgeordnet.
Die Speicherplatzselektion erfolgt durch 4ie gleichzeitige Änwahl eines Spaltendrahts. E»
weiterer Leitungsdraht, der durch alle Ferritkerne der Matrix läuft, liefert das gefragte Spsichersignal,
bildet also den Lesedraht Eine dreidimensionale Anordnung aber wird dadurch erreicht, daß mehrere
zweidimensionaje Matrizen hintereinander angeordnet und die entsprechenden Zeilen und Spalten der Matrizen
miteinander verbunden werden; und außerdem eine zusätzliche Leitung pro Ebene —- die sogenannte
»Inhibit«-Leitung« — die Einzelspeicherplatzselektion ermöglicht. Im wesentlichen wird also
die Verdrahtung des Speichers durch viele einzelne Leiterstücke gebildet, deren Kennzeichen ihre lineare
Struktur ist, d. h., jede Leiterbahn besitzt genau einen Anfang und ein Ende. Topologisch lassen sich solche
bekannten dreidimensionalen Gebilde genau se« gut zweidimensional darstellen, d. h, ein derartiger drei·
dimensional Speicher stellt im wesentlichen nur einen »gefalteten« zweidimensionalen Speicher dar.
Diese Ausführung für den Ferritkernspeicher gilt entsprechend für die Verdrahtungssysteme der übrigen
vorerwähnten bekannten Speichersysteme mit wahltreiem Zugriff, wie sie beispielsweise im
»Journal of Applied Physics«, Vol. 22, Nr. 1, Januar 1951, S. 44 bis 48; in »Electronics«, April 1953,
S, 146 bis 149, und »Proceedings of the Eastern Joint Computer Conference«, 1953, S. 37 bis 42,
veröffentlicht sind.
Bei diesen Verdrahtungssystemen ist die Anzahl der extern anzuschließenden Leitungen proportional
yH bei einer kubischen Anordnung. Auf Grund
dieses äußeren Verdrahtungsaufwandes werden heute derartige Speicher nur bis 10* Bits pro Speichereinheit
hergestellt. Massenspeicher mit 107 oder mehr Bits dagegen werden heute nur in Speichereinheiten
ohne wahlfreien Zugriff realisiert. Allerdings würden die heute in Dick- oder Dünnfilmtechnik herstellbaren
Multilayerschichten zwar eine der Erfindung in etwa entsprechenden Speicherplatzanzahl mit
wahlfreiem Zugriff zulassen, die äußere Verdrahtung dieser Elemente aber würde enorme Probleme aufwerfen.
So besteht beim zweidimensionalen Aufbau neben zu ausgedehnten räumlichen Dimensionen auch die
Gefahr einer Zunahme der Störanfälligkeit infolge langer paralleler Leitungsführung (Antennenwirkung).
Echt dreidimensionale Speicherstrukturen mit linearen Leitungsführungen (X-, Y-, Z-Leitungen) sind kompliziert
herzustellen. Beim Stand der Technik bestehen derartige dreidimensionale Systeme aus mehreren
zweidimensionalen Systemen (A'-, Y-Matrizen), bei denen alle entsprechenden X- und Y-Leitungen
äußerlich verknüpft werden müssen und wo alle Elemente jeder Matrix eine zusätzliche Leitung
(Z- oder Inhibit-Leitung) zugeführt bekommen müssen, damit ein einzelner Speicherplatz selektiert
werden kann. Abgesehen von der nun nötigen Dreifachkoinzidenz, die für die Ansteuerung eines
Elementes erforderlich ist, stellt diese Art des Aufbaus bei hohen Speicherplatzzahlen ein kaum lösbares
technisches Problem dar. Vergegenwärtigt man sich nämlich, daß die Ausfallraten bei der Speicher-
3 4
herstellung in erster Linie durch die äußere Ver- Die erfindungsgemäSe Anordnung reduziert für
drahtung (manuelles oder maschinelles Verlöten, eine große Speichereinheit die Zahl der äußeren
Ultraschall- oder Thermokompressionsbonden) der Anschlußstellen, erbringt daher eine beträchtliche
Anschlüsse verursacht werden, so erkennt man, daß Verringerung des Verdrahtungsaufwandes und führt
eine Steigerung der Speicherplatzzahle:* technologisch 5 zu einer wesentlichen Vereinfachung des gesamten
an Grenzen stößt. Systems. Vor allem aber läßt sich das gesamte
Weiterhin ist zu beachten, dr?Q bei den Anord- Speichersystem in einer einzigen Technologie, näm-
nungen nach dem Stand der Technik eine Dreifach- Hch der Hochvakuumaufdampftechnik herstellen,
koinzidenz bei dem angewählten Element erforderlich Die Erfindung ist nachfolgend an einem Ausfüh-
ist, um ein einzelnes Element selektieren zu I önnen, io rungsbeispiel beschrieben und gezeichnet.
z. B. bein« Ferritkernspeicher eine x-, eine y-Aus- Es zeigt
wahlleitung und eine z-Inhibit-Leitung, die gleich- F i g. 1 einen schematischen Aufbau einer zweizeitig
stromdurchflossen sein müssen. Viele der be- dimensionalen Speicheranordnung,
kannten Speicherelemente müssen aber durch zwei F i g. 2 einen schematischen Aufbau eines Aus-Anschlußleitungen angewählt werden wie beispiels- 15 schnittes der erfindungsgemäßen Speicheranordnung weise Diodenspeicher oder amorphe Dünnfilmspeicher in perspektivischer Darstellung,
mit schaltbarem Widerstandswert. Fig. 3 einen schematischen Aufbau in perspek-
kannten Speicherelemente müssen aber durch zwei F i g. 2 einen schematischen Aufbau eines Aus-Anschlußleitungen angewählt werden wie beispiels- 15 schnittes der erfindungsgemäßen Speicheranordnung weise Diodenspeicher oder amorphe Dünnfilmspeicher in perspektivischer Darstellung,
mit schaltbarem Widerstandswert. Fig. 3 einen schematischen Aufbau in perspek-
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die tivischer Darstellung der Erfindung mit den matrixvorbeschriebenen
Nachteile zu beseitigen und ein fönnig angeordneten Anwahlleitungen.
dreidimensionales Speichersystem zu schaffen, das 20 Das erfindungsgemäße Speichersystem besteht aus bei hohen Speicherplatzzahlen eine geringere Zahl einer großen Zahl dicht benachbarter, vorzugsweise äußerer Anschlüsse erfordert und das jeden Speicher- in Dünnfilm-, Dickfilm- oder Multilayertechnik herplatz im dreidimensionalen Raum durch zwei Lei- gestellten Leitungsbahnen, bei denen die leitende tungen anzuwählen gestattet, wobei die dem heutigen Verknüpfung der Leitungsbahnen zur dreidimensio-Stand der Technik entsprechenden räumlichen 25 nalen Leiterstruktur bereits im Herstellungsprozeß Dimensionen, die Störsicherheit oder die Schnellig- vorgenommen wird. Das erfindungsgemäße Speicherkeit des Speichers prinzipiell nicht verschlechtert system besteht also aus dicht benachbarter aufgewerden. dampfter Leitungsbahnsysteme Xkh Ykt, Zkl bzw.
dreidimensionales Speichersystem zu schaffen, das 20 Das erfindungsgemäße Speichersystem besteht aus bei hohen Speicherplatzzahlen eine geringere Zahl einer großen Zahl dicht benachbarter, vorzugsweise äußerer Anschlüsse erfordert und das jeden Speicher- in Dünnfilm-, Dickfilm- oder Multilayertechnik herplatz im dreidimensionalen Raum durch zwei Lei- gestellten Leitungsbahnen, bei denen die leitende tungen anzuwählen gestattet, wobei die dem heutigen Verknüpfung der Leitungsbahnen zur dreidimensio-Stand der Technik entsprechenden räumlichen 25 nalen Leiterstruktur bereits im Herstellungsprozeß Dimensionen, die Störsicherheit oder die Schnellig- vorgenommen wird. Das erfindungsgemäße Speicherkeit des Speichers prinzipiell nicht verschlechtert system besteht also aus dicht benachbarter aufgewerden. dampfter Leitungsbahnsysteme Xkh Ykt, Zkl bzw.
Diese Aufgabe findet ihre Lösung darin, daß in Xmn, Ymn, Zmn bzw. Xjv, Yiv, Ziv, die in vielen
drei Raumrichtungen Leiterbahnen angeordnet sind, 3° Schichten übereinander gelagert sind. Zwischen den
von denen jeweils drei aufeinander senkrecht stehende Kreuzungspunkten 13, 25 usw. der verschiedenen
Leiterbahnen miteinander zu einem System leitend Leitungsbahnsysteme Xkh Ykh Zkl usw. befindet sich
verbunden sind und dieses Leiterbahnsystem so an- das Speicherelement, das ebenfalls vorzugsweise in
geordnet ist, daß es mit jedem anderen Leiterbahn- Aufdampftechnik hergestellt ist. Es gibt eine große
system an mindestens einer Stelle einen Überkreu- 35 Zahl physikalischer Phänomene, die als Übergang
zungspunkt bildet, welcher jeweils den Speicherplatz zwischen zwei Leitern zur Informationsspeicherung
darstellt und daß die Leiterbahnsysteme durch mit verwendet werden können. Für das erfindungsgemäße
den Leiterbahnsystemen integrierte Zwischenmatrizen dreidimensionale Speichersystem eignen sich fast alle
ansteuerbar sind. aktiven und passiven elektrischen Zweipole, die zu
In einem Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, daß 4° einer bistabilen Schaltung verwendbar sind,
jeweils alle Leiterbahnsysteme, die an einer der Prinzipiell kann in einer zweidimensionalen und in
Außenseiten des Gesamtsystems in einer gemein- einer dreidimensionalen Anordnung jede Leiterbahn
samen Spalte enden und alle Leiterbahnsysteme, die Xx, X1, ..., Xn, Y1, Y2, ..., Yn usw. mit jeder an-
in einer gemeinsamen Reihe enden, jeweils eine ein- deren überkreuzt werden, wie das in Fig. 1 für den
zige gemeinsame Ansteuerleitung besitzen und jeweils 45 Fall der zweidimensionalen Anordnung veranschau-
zwei dieser zueinander senkrecht stehenden Ansteuer- licht ist. Die Λ',- bis ^„-Leiterbahnen liegen in einer
leitungen miteinander ein elektronisches Gatter bil- höheren Ebene als die V1- bis Yn-Leiterbahnen.
den, welches zwischen den Leiterbahnenden und dem Hierbei sind die X1- und Y1- Leiterbahnen an der
Speichersystem einen Schalter bildet. Stelle 11 leitend verbunden, die X2- und die Y,-Lei-
Es ist also zwischen jedem der Leiterbahnenden 5° terbahnen sind an der Stelle 22 verbunden usw.
und den Speicherplätzen ein elektronisches Gatter Die Speicherplätze befinden sich an den Überkrcuangeordnet,
das durch die gleichzeitige Ansteuerung zungsstellen der Leiterbahnen X mit den Leiterzweier
Anschlüsse auf- und zugeschaltet werden bahnen Y, wenn / φ k ist, so z. B. der Speicherplatz
kann, so wie dies z. B. bei einem Doppelgate- 25 an der Überkreuzung von Xn mit Y2. Bei Anwahl
Feldeffekt-Transistor der Fall ist. Die beiden Gatter- 55 zweier verschiedener Leiterbahnen z. B. X2 mit A5
anschlußdrähte werden senkrecht zueinander ange- mit verschiedenen Spannungen kann man Auskunft
ordnet, wodurch sich die Gatteransteuerung jeder der über die gespeicherte Information auf dem Speicherbeiden
Anwahlebenen durch eine Matrix aus 2 j/7 platz 25 erhalten. Auf diesem Prinzip können alle
Leitungen erreichen läßt. Speicherplätze durch Variation zweier angewählter
Außerdem sieht eine Ausführungsform der Erfin- 6o Leiterbahnen Xt und Xk mit ι φ k erreicht werden,
dung vor, daß alle Enden der Leiterbahnen einer Um Fehlinformationen über den Umweg anderer
Ebene auf einem konstanten Potential liegen und die Speicherplätze zu vermeiden, z. B. von Leitung X2
Leiterbahnenden der anderen Ebene ebenfalls auf zu Leitung X1. über die Speicher 24, 14 und 15 muß
einem konstanten Potential liegen, welches jedoch jeder Speicherübergang eine Übergangsschicht begegenüber
dem ersten Potential einen unterschied- 65 sitzen, welche in jedem Fall in einer Richtung sperrt,
liehen Wert besitzt, und daß die elektronischen Die Information wird auf das Speicherelement geGatter
als Sperrschicht-Feldeffekt-Transistoren aus- bracht, in dem man die andere Ubergangsrichtung
eebildet sind. hochohmig oder niederohmig macht.
Dieses Prinzip der sich überkreuzenden Leiterbahnen eignet sich vor allem für dreidimensionale
Speichersysteme nach der Erfindung.
Jedes Leiterbahnsystem besteht dann aus drei miteinander
kontaktierten Leiterbahnen Xu, Ykl und Zkl
(F i g. 2). Auch hier kann jedes Leiterbahnsystem mit jedem anderen eine Überkreuzungsstelle 100 besitzen,
die dann den Speicherplatz darstellt.
Die Forderungen an die Speicherübergänge sind dabei dieselben wie die oben beim zweidimensionalen
Fall geschilderten. Die übereinanderliegenden Leiterbahnen, deren Kontaktstellen und die Speicherelemente
werden vorzugsweise in Aufdampftechnik hergestellt.
Vor allem in der dreidimensionalen Anordnung (wie in der F i g. 2 auszugsweise schernatisch dargestellt),
ergibt sich eine wesentliche Verminderung des äußeren Verdrahtungsaufwandes, wie nachfolgend
hervorgeht. Der Speicherplatz 100 (kl, mn) ζ. B. wird durch Anwahl der Leiterbahnen Xkl und
Ymn erreicht. Gemäß der Erfindung sind alle Enden
der Leiterbahnen X bzw. Y bzw. Z in einer Matrixform angeordnet, so daß alle in einer gemeinsamen
Spalte bzw. in einer gemeinsamen Zeile liegenden Leiterbahnenden gemeinsame Ansteuerleitungen 50
besitzen (F i g. 2 und 3). Eine derartige Anordnung führt zu einer wesentlichen Verringerung der äußeren
Verdrahtung.
Bei dem gezeigten Ausführungsbeispiel sind alle Z-Leitungsenden auf einem konstanten Potential Φ χ
und alle y-Leitungsenden ebenfalls auf einem konstanten, jedoch von Φ χ verschiedenen Potential Φγ.
Diese Leitungsenden sind durch elektronische Gatter 110, die vorzugsweise als Sperrschicht-Feldeffekt-Transistoren
ausgebildet sind, von der eigentlichen Speichereinheit getrennt.
Durch Anwahl zweier Ansteuerleitungen uk und v,
wird das Gatter 110 einer Leiterbahn geöffnet, und das gesamte Leiterbahnsystem Xkh Ykl, ZM liegt dadurch
auf dem außen anliegenden Potential Φχ. Werden gleichzeitig in einer anderen äußeren Ebene
zwei weitere Ansteuerleitungen Um und Vn angewählt,
so wird ein weiteres Gatter 110 geöffnet, und das Leiterbahnsystem Xm„, Ymn, Zm„ liegt dadurch
auf dem anderen Potential Φγ. Da, wie oben beschrieben,
jedes Leiterbahnsystem mit jedem anderen mindestens eine Überkreuzungsstelle 100 besitzt, liegt
an dieser die Spannung Φχ— Φγ an. Mit Hilfe des
resultierenden Stromsignals ist nun die Information auf dem angewählten Speicherplatz 100 greifbar.
Die Verminderung der äußeren Verdrahtung resultiert aus der Tatsache, daß bei der erfindungsgemäßen
Vorrichtung jeder Speicherplatz 100 durch gleichzeitige Anwahl von vier Anwahlleitungen uk, vt,
Um, Vn erreicht wird. Eine Ausnahme hiervon bildet
k = I und gleichzeitig m = n, da diese Anwahl zum
Kurzschluß führen würde. Jede andere Kombination dieser vier Anwahlleitungen ergibt einen eigenen
speziellen Speicherplatz.
Der wesentliche Vorteil der erfindungsgemäßer S Anordnung besteht darin, daß durch die äußere Verdrahtung
von vier «-Anwahlleitungen über 2n! interne Leiterbahnsysteme prinzipiell xkn* (nz — 1]
Speicherplätze erreicht werden können.
Im Gegensatz zu den bisher üblichen Speichern,
ίο wo für zweidimensionale Speicher mit n-Elementen
der äußere Verdrahtungsaufwand proportional Vh
und für einen dreidimensionalen Speicher, wo ei :t
auf Vn steigt, ist bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung der Verdrahtungsaufwand nur propor-
tional Vn.
Die vorliegende Erfindung weicht aJüo von den
herkömmlichen dreidimensionalen ATZ-Systemen dadurch ab, daß von einer .Y-Auswahlebene her ein
Draht Xkl gewählt wird, der an einem Punkt P1
leitend verbunden ist mit einem Leiter Y, der wegen seiner festen Zugehörigkeiten zum Draht XM auch
mit »kl« indiziert ist (V*/). Ebenso trifft dies für den
in Z-Richtung verbundenen Draht Zkl zu. Unter dem
Ausdruck »Draht« kann auch ein Leiterband dei Dünnfilmtechnik usw. verstanden werden. In ähnlicher
Weise wird von einer y-Auswahlebene hei ein Draht Ymn gewählt, der an einem Punkt P2 leitend
verbunden mit einem Draht Zm„ und einem Draht Xmn ist. Die genannten Drähte stellen je ein
Leitersystem dar, und beide Systeme kreuzen sich in zwei Punkten, an denen die Speicherelemente sitzen.
An einem Zahlenbeispiel soll erläutert werden, daß der äußere Verdrahtungsaufwand einer der Erfindung
entsprechenden Anordnung tatsächlich geringer ist: Bei einer linearen X-, Y-, Z-Verdrahtung entsprechend
dem Stand der Technik sind für 3 π äußere Anschlüsse — dabei wurde bereits vorausgesetzt, dafi
jeder Draht nur an einem Ende angeschlossen werden muß — höchstens n3 Speicherplätze anwählbar.
Bei einer der Erfindung entsprechenden Verdrahtung
sind dagegen bei An äußeren Anschlüssen -γ (η2 — 1]
Speicherplätze möglich. Bei weniger als 24 äußerer Anschlüssen, d. h. bei weniger als 600 Speicherplätzen,
erfordert die klassische Verdrahtungstechnik weniger äußere Anschlüsse als die Erfindung, füi
jede höhere Speicherplatzzahl erfordert dagegen das erfindungsgemäße Speichersystem den geringerer
äußeren Verdrahtungsaufwand.
Zum Beispiel: Bei 240 äußeren Anschlüssen ergibi sich beim klassischen System eine maximale Speicherplatzzahl
von weniger als 1,4 · 107, beim erfindungsgemäßen System dagegen von mehr als 1,6 · 1Q(
Speicherplätze.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
7
Claims (4)
1. Dreidimensionales Speichersystem zum Speichern großer Informationsmengen, deren S
Speicherplätze wahlfrei zugreifbar sind, dadurch
gekennzeichnet, daß in drei Raumrichtungen (X, Y, Z) Leiterbahnen angeordnet
sind, von denen jeweils drei aufeinander senkrecht stehende Leiterbahnen (beispielsweise
Xu, Y^, Zu) miteinander zu einem System
leitend verbunden sind und dieses Leiterbahnensystem so angeordnet ist, daß es mit jedem anderen
Leiterbahnensystem an mindestens einer Stelle einen Überkreuzungspunkt bildet, welcher
jeweils den Speicherplatz (ϊ.. B. 100) darstellt
und daß die. Leiterbahnsysteme (Xy, Υω, Zw;
Xmn' Ymn>
Z01n) durch mit den Leiterbabnsystemen
integrierte Zwischenmatrizen (kl, mn) ansteuerbar sind.
2. Speichersystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß jeweils alle Leiterbahnsysteme,
die an einer der Außenseiten des Gesamtsystems in einer gemeinsamen Spalte enden
und alle Leiterbahnsysteme, die in einer gemeinsamen Reihe enden, jeweils eine einzige gemeinsame
Ansteuerleitung (uk, vh um, v„ bzw. 50) besitzen
und jeweils zwei dieser zueinander senkrecht stehenden Ansteuerleitungen (uk, v, bzw.
«m >vn) miteinander ein elektronisches Gatter
(110) bilden, welches zwischen den Leiterbahnenden und dem Speichersystem einen Schalter
bildet.
3. Speichersystem nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß alle Enden der
Leiterbahnen einer Ebene auf einem konstanten Potential (Φχ) liegen und die Leiterbahnenden
der anderen Ebene ebentalls auf einem konstanten Potential (Φγ) liegen, welches jedoch gegenüber
dem ersten Potential (Φχ) einen unterschiedlichen Wert besitzt.
4. Speichersystem nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die elektronischen
Gatter (110) als Sperrschicht-Feldeffekt-Transistoren ausgebildet sind.
Priority Applications (4)
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---|---|---|---|
DE1955364A DE1955364C3 (de) | 1969-11-04 | 1969-11-04 | Dreidimensionales Speichersystem |
GB4978770A GB1313357A (en) | 1969-11-04 | 1970-10-20 | Means for storing information particularly for use in a computer |
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US86230A US3693169A (en) | 1969-11-04 | 1970-11-02 | Three-dimensional storage system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1955364A DE1955364C3 (de) | 1969-11-04 | 1969-11-04 | Dreidimensionales Speichersystem |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1955364A1 DE1955364A1 (de) | 1971-05-13 |
DE1955364B2 DE1955364B2 (de) | 1975-05-28 |
DE1955364C3 true DE1955364C3 (de) | 1976-01-08 |
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ID=5750060
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
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DE (1) | DE1955364C3 (de) |
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- 1970-11-02 US US86230A patent/US3693169A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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US3693169A (en) | 1972-09-19 |
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Date | Code | Title | Description |
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C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
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