DE1945455C3 - Verfahren zur Herstellung eines Gehäuses für eine Halbleiteranordnung - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines Gehäuses für eine HalbleiteranordnungInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung eines Gehäuses für eine Halbleiteranordnung,
bei dem ein Bodenteil und ein ein rahmenartiges Seitenteil bildendes weiteres Gehäuseteil jeweils aus
sinterfähigem Isoliermaterial, unter Zwischenfügung eines Leiterstreifens, der aus in einem Rahmen zusammenhängenden,
zungenartigen elektrischen Anschlußleitern besteht, durch Sintern dicht miteinander
verbunden werden, so daß ein Gehäuseunterteil mit einer Ausnehmung gebildet wird, in die die Anschlußleiter
auf dem Bodenteil aufliegend hineinragen und das eine solche dem aufzunehmenden Halbleiterelement
angepaßte geometrische Gestalt aufweist, daß die Elektroden des Halbleiterelements bei dessen
Einführung in das Gehäuseunterteil zwangläufig mit den entsprechenden Anschlußleitern in Verbindung
kommen.
Ein solches Verfahren ist z.B. aus der US-PS 3431637 oder der GB-PS 1101029 bekannt. Dabei
ist festzustellen, daß bei den bekannten Verfahren wegen der Verwendung von in einem Rahmen zusammenhängenden
zungenartigen elektrischen An-
Schlußleitern eine definierte Geometrie hinsichtlich der Anordnung der Anschlußleiter zueinander gegeben
ist. Andererseits ist aber auch die Anordnung der aus sinterfähigem Isoliermaterial bestehenden und
durch das Sintern zu verbindenden Gehäuseteile von Bedeutung, worüber in dem soeben angegebenen
Stand der Technik Einzelheiten nicht gegeben sind. Hier greift die vorliegende Erfindung ein und sichert
dadurch, daß eine eindeutige geometrische Zuordnung zwischen den zusammenzusinternden Teilen
so und damit letzten Endes auch zwischen dem Gehäuse
und dem von ihm aufzunehmenden Halbleiterelement gewährleistet wird.
Erfindungsgemäß wird deshalb vorgesehen, daß das Bodentei] in die Vertiefung des Formunterteils einer
Sinterform eingelegt wird, daß dann der Leiterstreifen auf das Unterteil und das mit einem Durchbruch versehene
Formoberteil auf den Leiterstreifen aufgelegt wird, daß in dem Durchbruch das Seitenteil und darauf
ein Belastungsstempel angeordnet wird, daß die Teile
der Sinterform und der Leiterstreifen durch Paßflächen oder Haltestifte zueinander in Position gehalten
werden und daß schließlich die Sinterform mit den darin angeordneten Gehäuseunterteilen in einem
Ofen erhitzt wird.
Vorzugsweise ist dabei vorgesehen, daß ein Leiterstreifen
mit mehreren aneinandergereihten und zueinander kongruenten Abschnitten A, B, C von in einem
Rahmen zusammenhängenden zungenartigen Anschlußleitern sowie eine Sinterform verwendet
wird, welche im Formunterteil mehrere Vertiefungen und im Formoberteil entsprechend viele Durchsuche
aufweist, so daß gleichzeitig mehrere Gehäuseunterteile nebeneinander erzeugt werden können.
Schließlich ist in Weiterbildung der Erfindung vorgesehen, daß zwischen den einzelnen mit je einem
Rahmen versehenen Abschnitten des soeben erwähnten Metallbandes sogenannte Pufferstellen in Gestalt
von Zickzack- oder mäanderförmig verlaufenden Verbindungsstellen vorgesehen werden, die die beim
gleichzeitigen Versintern mit den Gehäuseteilen auftretenden thermisch bedingten Dehnungen aufnehmen
und damit eine störungsfreie Fertigung garantieren.
Zu bemerken ist an dieser Stelle, daß die Verwcndung von Sinterformen bei der Herstellung von Gehäusen
für Halbleiterbauelemente durch die DT-AS 1083439 allerdings in einem etwas anderen Zusammenhang
bekannt war. Dort handelt es sich nämlich darum, Halbleiterelemente mit einer Glashülle zu
versehen, wobei das betreffende Halbleiterelement in einer Sinterform mit Glaspulver umgebjn und das
Glaspulver durch Erhitzen der Form zu einer das Halbleiterelement einbettenden Hülle zusammengesintert
wird.
Zur Herstellung von Flachgehäusen nach dem erfindungsgemäßen Verfahren werden Sinterglasböden
bzw. glasierte Keramikboden, das mit ihnen zu verbindende Metallband und die beispielsweise aus Sin-
terglas bestehenden rahmenförmigen Seitenteile der herzustellenden Gehäuseunterteile mittels einer Sinterform
aus Graphit in definierter Lage zueinander angeordnet und durch Erhitzen der Form auf Sintertemperatur
miteinander verbunden. Die Sinterform besteht zu diesem Zweck aus einem Unterteil in Form
eines Graphitbarrens, in welchem mit den Abständen der Bereiche des Metallbandes entsprechenden Abständen
Aufnahmegruben für die Gehäui:eböden vorgesehen sind, die mit je einem dieser Böden bestückt
werden. Die Gestalt und Größe dieser Aufnahmegruben ist der Gestalt und Größe der Fläche der Gehäuseböden
genau angepaßt. Ihre Tiefe ist so bemessen, daß die Gehäuseböden geringfügig, d.h. um weniger
als V10 mm, überstehen.
Das Oberteil der Sinterform besteht ebenfalls aus einem Graphitbarren, der bezüglich Länge und Breite
dem soeben beschriebenen Unterteil angepaßt ist und der mittels Führungen, insbesondere sogenannter
Paßstiftc, in definierter Weise auf das Unterteil aufsetzbar ist. Das Oberteil ist mit einer der Anzahl der
Aufnahmegruben im Unterteil gleichen Anzahl von schachtartigen Ausnehmungen derart versehen, daß
in der erwähnten definierten Lage zwischen Oberteil und Unterteil je eine schachtartige Ausnehmung im
Oberteil oberhalb einer Aufnahmegrube im Unterteil derart angeordnet ist, daß die Achse eines Schachtes
im Oberteil und die Achse der Aufnahmegrube im Unterteil zusammenfallen. Der Umfang und die
Größe des Querschnitts der einzelnen durchgehenden Schächte ist mindestens an der dem Unterteil zugewandten
Schachtmündung der Größe und dem Querschnitt der in die Schächte einzuführenden rahmenförmigen
Gehäuseseitenteile gleich. Die Seitenteile werden eingeführt, sobald bei dazwischengelegtem
Metallband der Oberteil der Sinterform in der erwähnten definierten Lage auf den Unterteil aufgesetzt
ist und letzterer mit dem Gehäuseboden bestückt ist. Auf diese Weise gelangen die in die schachtartigen
Ausnehmungen des Oberteils eingeführten rahmenartigen Gehäuseseitenteile unmittelbar in die für den
Sintervorgang erforderliche Lage zu den Gehäuseböden und den dazwischengefügten zungenartigen Fortsätzen
des Metallbandes.
Das, wie oben beschrieben, aus zueinander kongruenten Abschnitten bestehende durchbrochene
Flachband aus Kontaktierungsmctall wird zwischen dem Oberteil und dem Unterteil der Sinterform in
der für den Sintervorgang erforderlichen Lage gehalten, die zudem mittels geeigneter Führungen, vorzugsweise
in Form von Haltestiften definiert wird. In der für den Sintervorgang vorgesehenen Lage und den
auf noch zu beschreibende Weise zu erzeugenden Druck weiden infolge der angewendeten Erhitzung
der Sinterform Gehäuseboden und Gehäuseseitenteil miteinander in die zur Herstellung einer hermetischen
Sinterverbindung erforderliche Berührung miteinander gebracht und fest miteinander verbunden. Um den
Druck zu liefern, werden in die schachtförmigen Ausnehmungen desGehäuseobertnls eingepaßte Stempel
aus Graphit verwendet, die in der für den Sintervoigang
erforderlicher. Weise belastet werden. Diese Stempel sind an ihrer dem Metallflachband zugewandten
Seite vorzugsweise mit einer Profilierung derart versehen, die für ein Ausprägen einer definierten
Gestalt der entstehenden Ausnehmung in dem sich durch den Sintervorgang bildenden Gehäuseunterleil
sorgt. Hierzu gehört gegebenenfalls auch eine solche Formgebung des Schachtlängsprofils bzw. der Belastungsstempel,
daß diese in einer vorgegebenen Einsinktiefe im Schacht angehalten werden, so daß ein
Durchdrücken des erweichten Gehäusebodens vermieden wird. Gleichzeitig wird durch die Anwesenheit
dieser Belastungsstempel vermieden, daß das sinterfähige Material des Gehäuseseitenteils und des Gehäusebodens
die für die Kontaktierung vorgesehene Fläche der die elektrischen Zuleitungen bildenden
zungenartigen Fortsätze des Metallbandes verschmieren.
Die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird an Hand der Fig. 1 und 2 erläutert. Dabei
ist in Fig. 1 die auf Grund des erfindungsgemäßen Verfahrenserhaltene Vorrichtung in Aufsicht gezeigt,
während in Fig. 2 das Zusammenbringen der einzelnen Teile bei Durchführung des erfindungsgemäßen
Verfahrens dargestellt ist.
Zunächst wird ein aus geeignetem Kontaktierungsmetall,z. B. aus vergoldetem Kovar, bestehendes Metallband
Bd, z.B. durch Ausstanzen, erzeugt. Dieses Band Bd besteht aus den einzelnen, zueinander kongruent
ausgebildeten Bereichen A, B, C'... wobei zu bemerken ist, daß sämtliche Teile des Bandes nahezu
in einer Ebene liegen. Zur Erzielung einer ausreichenden mechanischen Festigkeit der einzelnen Abschnitte
A, B, C... des Metallbandes Bd ist je ein aus den Holmen ίο und den die Querverbindung liefernden
Stegen Ib bestehender Rahmen 1 vorgesehen. Die Querstege lh sind mit je einer zentralen Ausnehmung
2 fur die Aufnahme von Haltestiften oder Transportstiften versehen. Von dem Rahmen 1 erstreckt
sich eine Anzahl von zungenförmigen Fortsätzen 3 in das Innere des von dem Rahmen 1 umschlossenen
Bereiches, die die elektrischen Zuleitungen in das herzustellende Gehäuse bilden. Mindestens einer
dieser zungenartigen Fortsätze 3ö kann z.B. als Trägerelektrode
für das einzuhauende System eine besondere Ausbildung aufweisen, wie dies ebenfalls in
der Figur gezeigt ist. Man erkennt an Hand von Fig. 1.
wie die rahmenförmigen Gehäuseseitenteile 4 auf das soeben beschriebene Flachband Bd in je einem der
einzelnen Abschnitte A, B, C... aufgesintert und mit je einem der unterhalb des Bandes Bd angeordneten
Gehäuseböden 5 zu je einem dosenförmigen Gehäuseunterteil zusammengesintert sind. In je einem dieser
Gehäuseunterteile ist je eine Ausnehmung 6 als Nutzraum für die Aufnahme einer Halbleitervorrichtung
erzeugt. Die Elektroden- und sonstigen Geometrien dieser Halbleiteranordnungen sind an die Geometrie
des Nutzraumes 6 angepaßt.
Die Verbindung zwischen den einzelnen Abschnitten A, B, C... des Metallbandes Bd in Fig. 1 liefern
zickzackartig oder miianderartig verlaufende Puffersteilen
7. deren Autgabe noch näher beschrieben wird.
Zum Gebrauch werden die zungenartigen Fortsätze 3, 3« zerschnitten und auf diese Weise die Gehäuseunterteile
von dem Metallband gelöst, derart, daß so viel von den zungenartigen Fortsiitzen außerhalb
der GehäuseiMiterle'le stehenbleibt, daß eine
weitere Kontaktierung ohne Schwierigkeiten durchgcführi
werden kann. In die Ausnehmungen 6 der einzelnen auf diese Weise erhaltenen Gehäuseunterleile
werden die mit den Elektroden versehenen, im Beispielsfall rechteckigen Halbleiterplättchen, z.B.
Körper einer integrierten Schaltung, eingelegt und das Gehäuse durch einen aufgepreßten Deckel aus sinter-
fähigem Material in reduzierender Atmosphäre verschlossen. Dieser Vorgang kann auch erfolgen, bevor
das Metallband in die einzelnen Abschnitte zerteilt wird.
In Fig. 2 ist die zur Herstellung der in Fig. 1 dargestellten Anordnung angewendete Sinterform gezeigt.
Sie besteht aus einem Graphitbarren 21 als Unterteil der Sinterform, welcher mit äquidistanten, der Breite
der Abschnitte des Metallbandes entsprechenden Aufnahmegruben 22 für die Gehäuseböden versehen
ist. Nach Beschickung dieser Aufnahmegruben 22 mit den Gehäuseböden 5 wird das Metallband Bd in definierter
Lage oberhalb dieser Aufnahmegruben eingelegt und in definierter Lage mittels Haltestiften 23
gehalten. Auf diese Anordnung wird das Oberteil 24 der Sinterform - ebenfalls aus Graphit - derart aufgelegt,
daß die im Oberteil vorgesehenen schachtartigen Ausnehmungen 25 sich in der oben beschriebenen definierten
Stellung zu den Aufnahmegruben 22 im Unterteil 21 und dem Metallband Bd befinden. In die
schachtartigen Ausnehmungen 25 im Oberteil 24 der Sinterform werden, wie oben beschrieben, die rahmcnförmigen
Gehäusescitenteile 4 eingeführt. Diese werden durch je einen Belastungsstempel 26 aus Graphit
mit Druck gegen das Metallband Bd und den jeweiligen Gehäuseboden 5 gedrückt. Die Anordnung
wird in einem Ofen, z. B. Durchlaufofen, auf etwa 100° C erhitzt. Dabei wird das Glas der Gehäuseböden
und der Seitenteile erweicht, so daß infolge des Druckes durch die Belastungsstempel 26 eine bleibende
hermetische, insbesondere auch vakuumdichte Verbindung der beiden Teile unter gleichzeitiger Ein-
fügung der zungenartigen Fortsätze 3, 3a des Metallbandes
zwischen den beiden Gchäuseteilen gewährleistet ist.
Das aus den Abschnitten A, B, C... bestehende flache
Band Bd aus dem Kontakticrungsmaterial dehnt
ίο sich bei Erwärmung auch in der Sinterform 21, 24
aus, wegen der größeren thermischen Ausdehnung des Metalls gegenüber dem Graphit der Sinterform. Man
ist aber andererseits aus leicht verständlichen Gründen bestrebt, zu erreichen, daß die Abstände zwischen
den Abschnitten A, B, C... mit Rücksicht auf die Ausnehmungen 22, 25 in der Sinterform möglichst
unverändert bleiben. Dadurch, daß zwischen den einzelnen Abschnitten A, B, C... und den Stegen Ib auf
den Positionierungslöchern 2 z. B. mäanderförmige
Pufferstellen 7 angeordnet sind, wird die unterschiedliche Ausdehnung von Sinterform und Kontaktierungsmaterialaufgefangen.Die
Abschnitte A, B, C... bleiben dann beim Sintern in der Sinterform in der richtigen Position. Diese Pufferstellen 7 sind so dimensioniert,
daß sie einerseits genügend mechanische Festigkeit für die Weiterverarbeitung aufweisen, andererseits
die beim Erschmelzen auftretenden Spannungen federnd auffangen.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (3)
1. Verfahren zur Herstellung eines Gehäuses für eine Halbleiteranordnung, bei dem ein Bodenteil
und ein ein rahmenartiges Seitenteil bildendes weiteres Gehäuseteil jeweils aus sinterfähigem
Isoliermaterial, unter Zwischenfügung eines Leiterstreifens, der aus in einem Rahmen zusammenhängenden,
zungenartigen elektrischen Anschlußleitern besteht, durch Sintern dicht miteinander
verbunden werden, so daß ein Gehäuseunterteil mit einer Ausnehmung gebildet wird, in die
die Anschlußleiter auf dem Bodenteil aufliegend hineinragen und das eine solche dem aufzunehmenden
Halbleiterelement angepaßte geometrische Gestalt aufweist, dad die Elektroden des
Halbleiterelements bei dessen Einführung in das Gehäuseunterteil zwangläufig mit den entsprechenden
Anschlußleitern in Verbindung kommen, dadurch gekennzeichnet, daß das Bodentei! (5) in die Vertiefung (22) des Formunterteils (21)
einer Sinterform (21,24) eingelegt wird, daß dann der Leiterstreifen (1,3) auf das LJ nterteil (21) und
das mit einem Durchbruch (25) versehene Formoberteil (24) auf den Leiterstreifen (1,3) aufgelegt
wird, daß in dem Durchbruch (25) das Seitenteil (4) und darauf ein Belastungsstempel (26) angeordnet
wird, daß die Teile der Sinterform (21, 24) und der Leiterstreifen (1, 3) durch Paßflächen
oder Haltestifte (23) zu einander in Position gehalten werden und daß schließlich die Sinterform
(21, 24) mit den darin angeordneten Gehäuseunterteilen (1, 3; 4; 5) in einem Ofen erhitzt
wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch die Verwendung eines Leiterstreifens mit
mehreren aneinandergereihten und zueinander kongruenten Abschnitten (A, B, C) von in einem
Rahmen (1) zusammenhängenden zungenartigen Anschiußleitern (3) und einer Sinterform (21,24),
die im Formunterteil (21) mehrere Vertiefungen (22) und im Formoberteil (24) entsprechend vj^le
Durchbrüche (25) aufweist.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der verwendete Leiterstreifen
zwischen den Abschnitten (A, B, C) zur Aufnahme thermisch bedingter Dehnungen Pufferelemente
(7) aufweist.
Priority Applications (8)
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