DE2259133A1 - Verfahren zum kontaktieren einer halbleiteranordnung - Google Patents
Verfahren zum kontaktieren einer halbleiteranordnungInfo
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Description
Licentia "atent-Verwaltungs-GmbH
6 Frankfurt/Main, Theodor-Stern-Kai 1
Heilbronn, den 20.11.1972 PT-La/sr - HN 72/55
"Verfahren zum Kontaktieren
einer Halbleiteranordnung"
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Kontaktieren einer Halbleiteranordnung mit mehreren Kontaktstellen
mittels Kontaktstreifen.
Ein solches Verfahren ist bereits bekannt. Bei dem bekannten Verfahren wird ein Kontaktierungsblech in Kontaktstreifen
bzw. Kontaktfinger aufgeteilt, die lediglich an den den Kontaktierungsstellen abgewandten Enden zusammenhängen.
Anschließend werden die Kontaktstreifen' mit ihren
nicht zusammenhängenden Enden auf die Kontaktstellen der zu kontaktierenden Halbleiteranordnung einjustiert und
mit den Kontaktstellen durch Löten oder Schweißen verbunden. Nach dem Löten oder Schweißen werden die noch an einem
Ende zusammenhängenden Kontaktstreifen voneinander ganz
getrennt.
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Dieses bekannte Verfahren hat den. Nachteil, daß die Einjustierung
der Kontaktstreifen auf die einzelnen Kontaktstellen sowie die Kontaktierung selbst Schwierigkeiten bereiten. Dies ist besonders dann der Fall, wenn die einzelnen
Kontaktstellen nur einen sehr geringen Abstand voneinander haben, der beispielsweise unter 100 /Um liegt.
Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, das bekannte Verfahren zu verbessern. Zur Lösung dieser Aufgabe
wird bei einem Verfahren der eingangs erwähnten Art nach der Erfindung vorgeschlagen, daß auf die Kontaktstellen
ein zusammenhängendes Kontaktierungsblech aufgebracht und mit den Kontaktstellen elektrisch leitend verbunden wird
und daß dieses Kontaktierungsblech zumindest im Kontaktierungsbereich erst nach dem Kontaktieren in voneinander
getrennte Kontaktstreifen aufgeteilt wird.
Unter dem Begriff Kontaktierungsblech soll jedes geeignete Kontaktierungsmaterial in Blech- oder Streifenform verstanden
werden. Für das Verfahren nach der Erfindung ist ein Kontaktierungsblech vorgesehen, welches beim Kontaktieren
entweder überhaupt noch nicht oder derart geschlitzt ist, daß es zumindest im Kontaktierungsbereich zwischen
den Kontaktstellen ungeschlitzt und damit zusammenhängend ist.
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Die Erfindung findet mit Vorteil bei in.tegriert.en Schalt^-
kreisen und vor allem bei komplexen Schaltkreisen Anwe.n- .
dung. Durch die Erfindung wird nicht nur die .Kontaktierung ■.
von sehr eng benachbarten Kontaktstellen erleichtert bzw. sogar erst ermöglicht, sondern es wird auch eine hohe
Kontaktierdichte erzielt. Ein weiterer Vorteil der Er- .
findung besteht darin, daß sie neben der-Löttechnik auch
die Anwendung der günstigeren Schweißtechnik ermöglicht. Außerdem gestattet die Erfindung eine Vollautomatisierung
des Kontaktierens von komplexen Schaltkreisen.
Das Auftrennen des Kontaktierungsbleches nach dem Kontaktieren
in einzelne Kontaktstreifen, "auch Kontaktfinger
genannt, erfolgt beispielsweise durch eine Laser- oder Elektronenstrahlbehandlung. Das Kontaktierungsblech wird
mit den Kontaktierungsstellen beispielsweise verlötet oder verschweißt'. Ein Elektronenstrahl ist bekanntlich; dasjenige
physikalische Instrument, welches bei kleinsten Dimensionen anwendbar ist. Zudem besteht die Möglichkeit,
durch präzise Steuerung bzw* durch elektromagnetische. Ablenkung des Elektronenstrahls komplizierte Arbeitsprozesse
zu automatisieren. Bei kleinerer Strahlenenergie erfolgt keine Materialverdampfung sondern lediglich eine Verschweißung
der miteinander zu verbindenden Materialien.
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Der Laserstrahl, der eine wesentlich größere Wellenlänge aufweist als der Elektronenstrahl, erlaubt zwar nicht
die Bearbeitung so kleiner Dimensionen wie der Elektronenstrahl, doch sind die mit einem Laserstrahl bearbeitbaren Dimensionen immerhin noch in der Größenordnung von 1 Aim
und damit klein genug, um auch mit Laserstrahlen in Verbindung mfilt der Erfindung einen wesentlichen technischen
Fortschritt gegenüber bekannnten Techniken herbeizuführen. Im Gegensatz zum Elektronenstrahl erfordert der Laserstrahl kein Vakuum, was eine einfachere Arbeitsweise ermöglicht und weniger apparativen Aufwand erfordert.
die Bearbeitung so kleiner Dimensionen wie der Elektronenstrahl, doch sind die mit einem Laserstrahl bearbeitbaren Dimensionen immerhin noch in der Größenordnung von 1 Aim
und damit klein genug, um auch mit Laserstrahlen in Verbindung mfilt der Erfindung einen wesentlichen technischen
Fortschritt gegenüber bekannnten Techniken herbeizuführen. Im Gegensatz zum Elektronenstrahl erfordert der Laserstrahl kein Vakuum, was eine einfachere Arbeitsweise ermöglicht und weniger apparativen Aufwand erfordert.
Die Erfindung wird im folgenden an Ausführungsbeispielen näher erläutert. v
Die Figur 1 zeigt die Kontaktierung einer integrierten
Schaltung mit Hilfe eines Kontaktierungsbleches nach der Erfindung. Die zu kontaktierende Schaltung besteht aus dem Halbleiterplättchen 1, in dem sich die einzelnen Schaltelemente befinden. Auf der Oberfläche des Halbleiterplättchens befinden sich die zu kontaktierenden Kontaktflecken bzw. Elektroden 2, Die Kontaktierung der Kontaktflecken 2 und damit der integrierten Schaltung erfolgt mit Hilfe eines Kontaktierungsbleches 3» bei dem die Bereiche k und 5 zu
Schaltung mit Hilfe eines Kontaktierungsbleches nach der Erfindung. Die zu kontaktierende Schaltung besteht aus dem Halbleiterplättchen 1, in dem sich die einzelnen Schaltelemente befinden. Auf der Oberfläche des Halbleiterplättchens befinden sich die zu kontaktierenden Kontaktflecken bzw. Elektroden 2, Die Kontaktierung der Kontaktflecken 2 und damit der integrierten Schaltung erfolgt mit Hilfe eines Kontaktierungsbleches 3» bei dem die Bereiche k und 5 zu
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·· 5 —
unterscheiden sind. Wie,die Figur 1 zeigtj ist der Bereich 4
gegenüber dem Bereich 5 verbreitert und im Gegensatz zum
Bereich 5 vor dem Kontaktieren bereits mit Schlitzen 6 ver-sehen. Da der Bereich 4 breiter als der Bereich 5 i-st und
im Gegensatz.zum Bereich 5 nicht zur unmittelbaren Kontaktierung
der sehr eng benachbarten Kontaktflecken 2 dient, können die Schlitze 6 im Bereich 4 des Kontaktierungsbleches
wesentlich breiter als im Bereich 5*ausgebildet werden und
z. B. durch Ausstanzen, bereits vor dem Kontaktieren hergestellt
werden·
Im Gegensatz zum Bereich 4 ist der Bereich 5 des Kontaktie-·
rungsbleches 3 vor dem Kontaktieren noch ungeschützt und
damit zusammenhängend beziehungsweise noch nicht in Kontaktfinger aufgeteilt. Der zunächst, noch zusammenhängende Bereich
5 wird zur Kontaktierung auf die Kontaktflecken 3 einfach
aufgelegt und mit den Kontaktflecken verlötet oder verschweißt.
Da der Bereich 5 des Kontaktierungsbleches 3 im
Gegensatz zum Bereich 4 vor der Kontaktierung nicht geschlitzt ist, sind bei der Kontaktierung im Kontaktierungsbereich
noch keine Kontaktfinger vorhanden* Dadurch wird v aber
die Kontaktierung wesentlich erleichtert j da bei" einem
zusammenhängenden Blech eine Einjustierung von"sehr .schmälen
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Kontaktfingern auf extrem eng benachbarte Kontaktflecken
nicht erforderlich ist. Nach der Erfindung ist vielmehr
lediglich eine Einjustierung des ungeschlitzten Bereiches auf den Gesamthereich der Kontaktflecken 2 erforderlich,
was wesentlich einfacher vorzunehmen ist als eine Einjustierung
von wesentlich schmaleren Kontaktfingern· Die Aufteilung
des Bereiches 5 in die im Bereich 4 bereits vor dem Kontaktieren
vorhandenen Kontaktfinger 7 erfolgt gemäß der Erfindung
erst nach dem Kontaktieren. Die Kontaktfinger 7 irö
Bereich 5 des Kontaktierungsbleches 3 werden beispielsweise
durch eine Laser- oder Elektronenstrahlbehandlung hergestellt*
und zwar entlang der Linien 8. Das Kontaktierungsblech besteht
im allgemeinen aus Metall.
Nach dem Kontaktieren und nach dem Aufteilen des Bereiches
in Kontaktfinger 7 müssen die Kontaktfinger schließlich noch im Bereich k völlig voneinander getrennt werden, und
zwar durch einen Schnitt längs den Linien 9t Nach dem völligen
Auftrennen des Kontaktierungsbleches in voneinander getrennte Kontaktfinger ist das Kontaktieren nach der Erfindung
beendet. Wie bereits erwähnt, kann nach der Erfindung zum Kontaktieren entweder ein völlig ungeschlitztes
Kontaktierungsblech oder ein Kontaktierungsblech verwendet werden, welches bereits teilweise vorgeschlitzt ist» Ve*
sentlich an der Erfindung ist in jedem Fallt daß die
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Aufteilung in Kontaktfinger im Bereich der zu kontaktierenden Stellen erst nach dem Verbinden des Kontakt!erungsbleches
mit den Kontaktstellen erfolgt.
Während beim Kontaktieren einer Halbleiteranordnung gemäß
der Figur 1 für die links auf dem Halbleiterplättchen befindlichen Kontaktflecken 2 und für die rechts auf dem
Halbleiterplättchen 1 befindlichen Kontaktflecken 2 getrennte Kontaktierungsbleche 3 verwendet werden, zeigt die
Figur 2 eine Kontaktierung nach der Erfindung, bei der zur Kontaktierung der beiden Seiten einer integrierten Schaltung
eine- gemeinsames Kontaktierungsblech 3 vorgesehen ist,
welches in der Mitte eine Aussparung 10 aufweist. Auch bei diesem Kontaktierungsblech sind die Bereiche k bereits vorgeschlitzt,
d. h. mit Aussparungen versehen, während die zur unmittelbaren Kontaktierung vorgesehenen Bereiche 5 ungeschlitzt
sind. Die Figur 2 zeigt das Kontaktierungsblech 3 vor der Kontaktierung. Nach dem Kontaktieren des in der
Figur 2 nicht dagesteilten Halbleiterplättchens werden
die Bereiche 5 ebenfalls geschlitzt und anschließend Schnitte in den Bereichen.·"'^ längs den gestrichelt eingezeichneten
Schnittlinien 9 hergestellt, wodurch die einzelnen. Kontaktstreifen
7 völlig voneinander getrennt werden.
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Bei der Kontaktierung nach der Figur 3 erfolgt nicht nur .
wie bei der Figur 1 eine zweiseitige, sondern eine allseitige Kontaktierung des Halbleiterplättchens durch vier
Kontaktbleche 3·
Ein wesentlicher Vorteil der Erfindung wird beispieleweise
durch die Figur 4 verdeutlicht. Während bei der bekannten
Kontaktfingerkontaktierung eine Fehljustierung in den meisten
Fällen erhelbiche Konsequenzen hat, kann, wie die Figur 4 zeigt, nach der Erfindung eine gewisse Fehljustierung in
Kauf genommen werden, da auch bei einer nicht zu großen Fehljustierung das Kontaktierungsblech mit den zu kontaktierenden
Stellen verlötet oder verschweißt werden kann und erst danach in einzelne Kontaktfinger aufgeteilt wird.
Der Laser- oder Elektronenstrahl kann durch einen programmierten Rechner so gesteuert werden, daß er nacheinander
gemäß der Figur 5 die Schweiß- oder Lötkontakte mit den Kontaktflecken 2 sowie die Trennlinien 8 zur Herstellung
der Kontaktfinger 7 herstellt. Der Laser- oder Elektronenstrahl muß zur K ntaktierung zunächst längs den gestrichelt eingezeichneten
Linien 11 und zur Trennung der Kontaktfinger 7 anschließend längs den ebenfalls gestrichelt eingezeichneten Linien 8 gefahren werden. Es ist aber auch möglich,
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einen Laser·- oder Elektronenstrahl in mehrere Strahlen aufzuteilen,
und den Abstand der Teilstrahlen durch Einstellen geeigneter Atjlenkmittel für jedes Halbleiterplättchen
speziell herzustellen. Dadurch wird eine wesentliche Reduzierung
des Zeitablaufs erzielt.
Der Auflöt- oder Aufschweißprozess kann im selben Arbeitsgang
wie der Trennvorgang erfolgen, und zwar beispielsweise mittels Laser- oder Elektronenstrahlen. Ob nur geschweißt
bzw. gelötet oder getrennt bzw. geschlitzt wird, hängt bei einer Strahlenbehandlung nur von der jeweiligen Strahlenenergie ab, was' elektrisch gesteuert werden kann. Wie bereits
zum Ausdruck gebracht, sind in der Figur 5 die Linien die Lot- oder Schweißbahnen zur Kontaktierung und die Linien
die Trennbahnen.
Die Figuren 6 bis 9 befassen sich mit der Verbindungtechnik
von einzelnen Halbleiterplättchen zu Hybridschal.tkreisen. Die
gegenseitige Kontaktierung der einzelnen Halbleiterplättchen erfolgt nach dem erfindungsgemäßen Verfahren.
Die Figur 6 zeigt vier nach der Hybridtechnik miteinander zu verbindende Halbleiterplättchen 12, 13» I^ und 15 auf einem
gemeinsamen Substrat l6. Das gemeinsame Substrat l6 besteht
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beispielsweise aus einer Keramikplatte. Auf den einzelnen
Halbleiterplättchen befinden sich die miteinander zu verbindenden Kontaktierungsstellen 2. Da die Lage der
Halbleiterplättchen zueinander genau eingehalten werden muß, erfolgt ilir Auflöten auf das gemeinsame Substrat
beispielsweise mit Hilfe einer Schablone, die geeignete Aussparungen zur Aufnahme der Halbleiterplättchen auf·
weist.
Die Figur 7 zeigt das zur Kontaktierung der Hybridschaltung
nach der Erfindung vorgesehene Kontaktierungsblech J, Das Kontaktierungsblech 3 ist wiederum teilweise vorgeschlitzt,
während die Bereiche 5 ungeschlitzt und damit noch zusammenhängend
sind. Die Bereiche 5 des Kontaktierungsblech.es dienen
wie in den vorhergehenden Ausführungsbeispielen zur unmittelbaren Kontaktierung der Kontaktierungsstellen· Eine
Aufteilung der Bereiche 5 in Kontaktfinger 7 erfolgt ebenfalls
erst nach der Kontaktierung. Die bereits vor der Kontaktierung vorhandenen Schlitze sind in der Figur 7
mit der Bezugsziffer 6 bezeichnet.
In der Figur 8 ist das Kontaktierungsblech 3 bereits auf
die aus der Keramikplatte l6 und den Halbleiterplättchen 12, 13, lk und 15 bestehende Hybridschaltung aufgelegt und
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mit den Kontaktflecken 2 verlötet. Wie die Figur'8 weiter
erkennen läßt, ist das KontaktierungsbLeeh zudem nach dem
Kontaktieren längs .. den Trennlinien 8. geschlitzt worden, so daß die Kontaktstreifen 71 die die einzelnen Halbleiter- ,
plättchen miteinander ve.rbinden, bereits weitgehend voneinander getrennt sind und nur noch am Rand des Kontaktierungsbleches zusammenhängen* Um die Kontaktfinger auch noch
am Rand des Kontaktierungsbleches völlig voneinander zu trennen, erfolgen schließlich noch Schnitte längs den gestrichelt ■ . .
eingezeichneten Linien 9· Pie fertige Hybridschaltung zeigt
die Figur 9· Sowohl das Kontaktieren als auch das Trennen
der Koiitaktfinger bzw. Kontaktstreifen nach der Kontaktierung
im Kontaktierungsbereich längs den Trennlinien 8 (Fig. 8)
erfolgt vorzugsweise wieder durch eine Laser- bzw* Elektronenstrahlbehandlung.
■ · ,
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Claims (5)
- ν
Pat entansprücheJ ft<A )y Verfahren zum Xontaktieren einer Halbleiteranordnung mit mehreren Kontaktstellen mittels Kontaktstreifen',""da-"" durch gekennzeichnet, daß auf die Kontaktstellen ein zusammenhängendes Kontaktierungsblech aufgebracht und mit den Kontaktstellen elektrisch leitend verbunden wird und daß dieses Kontaktierungsblech zumindest im Kontaktierungsbereich erst nach dem Kontaktieren in voneinander getrennte Kontaktstreifen aufgeteilt wird. - 2) Verfahren nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch die Verwendung eines bereits mit Schlitzen versehenen Kontaktierungsbleches, welches jedoch im Dereich der Kontaktstellen zusammenhängend ist.
- 3) Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Auftrennen des Kontaktierungsbleches nach dem Kontaktieren in einzelne Kontaktstreifen durch eine Laser- oder Elektronenstrahlbehandlung erfolgt.
- 4) Verfahren nach einem der Ansprüche i bis 3t dadurch gekennzeichnet, daß das Kontaktierungsblech durch Löten oder409824/0926Schweißen mit den Kontaktierungsstellen der Halbleiteranordnung verbunden wird.
- 5) Anwendung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis k zur gegenseitigen Verbindung von auf einem gemeinsamen Substrat befindlichen integrierten Schaltkreisen zu einem Hybridschaltkreis.k ü i) 8 ':'/» / U :) 2 BLeerseite
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