DE1915933B2 - Vorrichtung zur Steuerung oder Regelung der Aufdampfrate beim Aufdampfen von Metallen im Vakuum - Google Patents
Vorrichtung zur Steuerung oder Regelung der Aufdampfrate beim Aufdampfen von Metallen im VakuumInfo
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Description
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Sonde (50) als eine
Dreifingersonde ausgebildet ist.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Sondenstrom
einem Regler (26) zugeführt wird, der die Energiedichte des Elektronenstrahles (15) der Elektronenstrahlkanone
(16) beeinflußt.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6. dadurch gekennzeichnet, daß der Regler als Zweipunktregler
(41) ausgebildet ist, der innerhalb eines Sondenstrombereiches die Energiedichte des Elektronenstrahles
(15) auf einen einstellbaren Sollwert der Dampfstrahldichte regelt.
8. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Sondenstrom einem zur Beeinflussung
der Bandgeschwindigkeit dienenden Steuergerät zugeführt ist.
9. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Sondenstrom einem Steuergerät
zur Verstellung von mindestens einer vor dem zu bedampfenden Band (61) angeordneten, in den
Dampfstrahl (66) reichenden Blende (65a) dient.
enfischen und mechanischen
auf dLe Weise aufgedampften
10
15
20 sss
nachteilig und störend aus.
ftberhjt7ung an einzelnen Stellen.
ETS MtS abzuh'äen8 müssen enge Fertigu^gstXanzen
für die Schichtdicke angehalten wer-
d ist bekannt, die Schichtdicke des aufgedampften
Si bei der Vakuumbedampfung von Isolier-
ode "ine ^I ^ Zusammenhängende Größe wie der
ih Wdstand oder die opt.sche Durchlässig-
der anordnete Rollen hinweggeführt, an die
fined Spannung angelegt ist. Der zwischen,beulen
Rollen durch den Metallbelag des Bandes fließende Ström ist abhängig vom Schichtwiderstand des Me a
belages er ist proportional der Sch.chtd.cke. Dieser Wer! wird auf einem Meßinstrument angezeigt und be,
Schwankungen der Stromstärke wird die Heizleitung
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Steuerung oder Regelung der Aufdampfrate beim Aufdampfen
von Metallen im Vakuum, wobei das zu verdampfende Metall durch einen Elektronenstrahl erhitzt wird,
der den aufsteigenden Dampfstrahl durchdringt, und die hierbei entstehenden Ladungsträger als Steuergröße
dienen.
Bei der Bedampfung eines kontinuierlich über einen Tiegel hinwegbewegten Bandes hängt die aufgedampfte
Schichtdicke in erster Linie von der Biindgeschwinrlicrkeit
und der Dampfstrahldichte ab. Bei konstanter Oanz aDgesencii ua.u,i, daß bei dieser Messung nur
ein Mittelwert aus dem zwischen den zwei Rollen befindlichen Bandabschnitt erfaßt wird, hat diese Methode
den entscheidenden Nachteil, daß die Messung erst erfolgt, wenn der betreffende Bandabschnitt die Bedampfungszone
längst verlassen hat. Das gleiche gilt auch für Regelmethoden mit der optischen Durchlässigkeitsmessung.
Zwischen den Dampfstrahlschwankungen und ihrer meßtechnischen Erfassung und ihrer
Nachregelung findet folglich eine erhebliche zeitliche Verzögerung statt und der zwischen Bedampfungszone
und Meßstelle liegende Bandabschnitt wird von dieser Nachregelung nicht erfaßt. Es ergeben sich daraus
zwangläufig erhebliche Schichtdickenschwankungen von 10 bis 20% über entsprechende Bandlängen. Die
Größe der Abweichung der Dampfstrahldichte vom Sollwert sowie die Frequenz der Änderungen hängen
daher weitgehend von dem zu bedampfenden Material den verwendeten Einrichtungen und von der Güte de«
Vakuums ab.
Ferner ist es aus der US-PS 31 68 418 bekannt, be
fio einer Vorrichtung zur Regelung der Aufdampfrate dei
Dampfstrahl! durch eine Meßkammer zu leiten, in der e von einem Elektronenstrahl ionisiert wird, der voi
einer separaten, von der Heizung des Verdampfungs tiegels getrennten Elektronenstrahlkanone erzeug
f>5 wird. Eine solche Anordnung ist sehr aufwendig, da ne
ben der regelbaren Heizleistung für den Verdampfe noch eine getrennte Elektronenstrahlkanone m:
Stromversorgung und Steuereinrichtung bereitgestel
werden muß.
Aus der GB-PS 10 10456 ist eine Einrichtung zur Bestimmung der Aufdampfrate von Metallbelägen bekannt,
bei der durch thermische Emission aus der Badoberfläche des Verdampfers austre'ende Ionen zur Bestimmung
der Dampfdichte und somit der Aurdampfrate herangezogen werden. Die Anzahl der durch thermische
Emission erzeugten Ionen verhältnismäßig gering und erlaubt nur mit erheblichem Verstärkungsaufwand
eine einigu maßen brauchbare Messung. Für die industrielle
Verwendung erscheint dieses Prinzip ungeeignet. Bei der Messung treten dadurch Schwierigkeiten
auf, daß neben c'.en Metallionen auch die Restgasionen erfaßt werden müssen, um eine grobe Fehlmessung zu
verhindern. Hierdurch wird der Aufwand der Meß- und Steuereinrichtung so groß, daß die Anlage neben den
bereits genannten Schwierigkeiten hinsichtlich der Meßgenauigkeiten auch noch störanfäll;2 wird. Bei hohen
Dampfdichten müßte das Meßteif ständig stark erstrahldichte anzustreben ist.
Dies wird gemäß der Erfindung dadurch erreicht, daß Ladungsträger durch eine in den Dampfstrahl hineinragende
Sonde erfaßt werden und daß eine Span-
nung zwischen der Sonde und dem zu verdampfenden Metall angelegt wird. Die Sonde führt dann einen unmittelbar
von der Dampfstrahldichte abhängigen Strom, der zur Steuerung oder Regelung der Schichtdicke
des Metallbelages dient. Die Stromstärke in der
Sonde ist dabei von der Dichte der im Dampfstrahl vorhandenen Ladungsträger sowie von der Höhe und
der Polarität des Sondenpotentials abhängig. Durch die Anordnung der Sonde in einem durch einen Elektronenstrahl
ionisierten Dampfstrahl erzielt man eine be-
sonders große Anzahl von Ladungsträgern, ohne daß eine getrennte Heizung für die Bedampfungsanlage erforderlich
ist; der zur Metallverdampfung benötigte Elektronenstrahl einer Elektronenstrahlkanone ist zugleich
noch zur Ionisierung des Dampfstrahles ver-
hitzt werden, um die Ablagerung von Metall auf den 20 wendbar.
Meßgliedern zu verhindetn. Hierdurch wird die Ein- Der Vorteil dieser erfindungsgemäßen Anordnung
satzmöglichkeit dieser bekannten Meßeinrichtung wei ter verringert und im Grenzfall wegen der auftretenden
Fehlmessungen unmöglich gemacht. Im übrigen beschäftigt sich diese Veröffentlichung ausschließlich mit
der Erfassung von Metallionen, die Messung der Dampfdichte durch Erfassung der Elektronen im
Dampfstrahl nicht möglich.
Schließlich ist es aus der FR-PS 14 93 987 bekannt, eine sondenartige Anordnung zur Messung der Dainpfdichte
einer durch einen Elektronenstrahl beheizten Verdampfungsanlage zu verwenden, wobei die Meßanordnung
rieben dem Verdampfungstiegel angeordnet ist und aus zwei massiven, elektrisch leitenden Platten
besteht. Diese Aufnehmerplatten befinden sich außernalb des Dampfstrahles an Stellen der größten magnetischen
Induktion in unmittelbarer Nachbarschaft der besteht insbesondere darin, daß man einen von Störungen
weitgehend freien, relativ großen Meßeffekt erhält, weil die an der Badoberfläche ausgelösten Sekundärelektronen
sowie auch austretende thermische Elektronen die Sonde nicht erreichen können. Diese werden
vielmehr im Magnetfeld auf wendeiförmigen Bahnen gefangen und auf die Polschuhe des Magneten gelenkt.
Für die Elektronen, die zu den ionisierten Dampfatomen gehören, trifft dies nicht zu. Sie werden durch das
von den Ionen ausgehende elektrische Feld durch das Magnetfeld geführt und im Dampfstrahl mitgezogen.
Durch die erfindungsgemäße Ausbildung und Anordnung der Sonde im Dampfstrahl geraten sie auf ihrem
weiteren Weg in den Einzugsbereich der Sonde und können zur Messung der Dampfdichte verwendet werden.
Der charakteristische Unterschied zu den bekannten Anordnungen, insbesondere zu der Anordnung
nach der FR-PS 14 93 987 zeigt sich auch darin, daß die
Magnetpole. Dabei fliegen die nicht durch Ionisierung
der Dampfatome entstandenen und den Meßeffekt stö- _- _ . . .
renden Elektronen auf gekrümmten Bahnen auf die 40 erfindungsgemäße Sonde auch mit negativen Potential
Magnetpole zu. Gerade dort aber sind bei der bekann- betrieben werden kann. Es wird dann ein der Dampften
Anordnung nach der FR-PS 14 93 987 die als Meßaufnehmer dienenden elektrisch leitenden Platten an
dichte proportionaler Ionensi;rom gemessen.
Liegt die Sonde gegenüber dem zu verdampfenden
gcui<n_ui. i^.iw ....—~. —^.. o o_. — Metall auf einem negativen Potential, so werden, wie
den, die nicht aus der Dampfionisierung stammen, zeigt 45 zuvor schon angedeutet, die Ionen im Dampfstrahl von
auch der in F i g. 3 dieser Veröffentlichung angegebene der Sonde aufgenommen, wobei nur geringe Störungs-
einfliJsse auftreten. Bei positiven Sondenpotential sind
durch die von der Sonde aufgenommenen, relativ massearmen Elektronen stärkere Störungseinflüsse festzustellen,
die aber durch ein Magnetfeld auszuschalten sind. Der Vorteil einer Regelung mit positivem Sondenpoteniial
besteht darin, daß im Vergleich zum negativen Sondenpotential selbst bei herabgesetzter Span-
gebracht. Daß hierbei auch Ladungsträger erfaßt wer-
Kurvenverlauf des Meßstromes in Abhängigkeit von der Abdampfrate. Bei einer Extrapolation der Dampfrate
auf den Wert Null zeigt sich, daß der Strom nichi Null wird, wenn kein Material mehr abdampft. Es fließt
vielmehr weiter ein Strom beträchtlicher Höhe, der auf Sekundär- und thermischen Elektronen, die aus der
Badoberfläche ausgelöst werden, zurückzuführen sein dürfte. Zum Betrieb dieser bekannten Einrichtung wird
nung ein wesentlich höherer Sondenstrom fließt, dei
ferner eine relativ hohe Saugspannung von 100 Volt an 55 innerhalb des Regelbereichs annähernd proportiona
der Dampfstrahldichte ist.
In der Zeichnung sind zwei Ausführungsbeispiele de: Erfindungsgegenstandes dargestellt. Es zeigt
F i g. 1 die BedampfungSAone einer Vakuum-Bandbe
dainpfungsanlagc mit einem elektronenstrahlgeheiztei
Verdampfer und einer im Dampfstrahl angeordneter an einen Regelkreis zur Regelung der Dampfstrahl
dichte angeschlossenen Sonde,
konstanter Bandgeschwindigkeit die Schichtdicke pro- F i g. 2 den Regelkreis der Bandbedampfungsanlag'
portional der Dampfstrahldichte ist und daß folglich <>5 mit einem Zweipunktregler zur Konstanthaltung de
eine verzögerungs'.rme präzise Regelung bzw. Steue- Dampfstrahldichte,
J u ~: -~ F i g. 3 ein Diagramm zur Darstellung des zeitliche
den Platten benötigt, was für den Betrieb der Vorrichtung hinsichtlich Wirkungsgrad und Meßgenauigkeit
nachteilig ist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine möglichst
verzögerungsarmc Hcgei bzw. Steuereinrichtung
zu entwickeln, die es gestattet, die Schichtdickenschwankungen in möglichst engen Grenzen zu halten.
Dabei wird von der Erkenntnis ausgegangen, daß bei
rung der aufgedampften Schichtdicke durch eine mög liehst genaue meßtechnische Erfassung der Dampf-Verlaufs
der Sondenstromstärke und der Heizleistun
der Elektron^nstrahlkanone,
F i g. 4 ehe Sonde aus drei parallelen Stäben;
F i g. 5 zeigt eine Bandbedampfungsanlage mit einer Sonde zur Steuerung der Bandgeschwindigkeit
und/oder Blenden.
In F i g. 1 ist das in einer Vakuum-Bandbedamplungsanlage
mit Metall zu bedampfende Band mit 10 bezeichnet. Es läuft über eine in Pfeilrichtung ro.ierende
Walze 11 durch die Beda.npfungszone 12 der Anlage. Im unteren Teil der Anlage ist ein Tiegel 13 mit dem
zu verdampfenden Metall 14 angeordnet, der auf Massepotential liegt. Das Metall 14 wird von einem Elektronenstrahl
15 beheizt, der aus einer Elektronenstrahlkanone 16 austritt und durch ein Magnetfeld auf das zu
verdampfende Metall 14 gelenkt wird. Das Magnetfeld verläuft senkrecht zum Elektronenstrahl 15 zwischen
zwei Holschuhen eines Elektromagneten 17, von denen nur der hintere Polschuh 18 dargestellt ist. Die Elektronenstrahlkanone
16 besteht aus einer elektrisch geheizten Kathode 19, einer Fokussierungselektrode 20 und
einer an Masse liegenden Anode 21. Die Kathode 19 wird bei Betrieb der Anlage an ein negatives Potential
von etwa 10 kV gelegt. Die durch thermische Emission aus der Kathode 19 austretenden Elektronen werden
durch die hohe Potentia'idifferenz zur Anode 21 stark
beschleunigt und schießen, an der Anode 21 vorbei, durch das Magnetfeld des Elektromagneten 17 auf die
Oberfläche des in den Tiegel 13 eingefüllten Metalls 14. Beim Aufprall wird die kinetische Energie der Elektronen
in Wärme umgewandelt und das Metall wird im Auftreffpunkt 22 des Elektronenstrahls 15 augenblicklich
verdampft. Auf diese Weise wird ein auf die Walze 11 gerichteter Dampfstrahl 23 erzeugt, dessen Dichte
von der Konzentration des Elektronenstrahls 15 und von der Energie seiner Elektronen, also von der Energiedichte
im Auftreffpunkt 22 abhängt Dabei durchdringt der Elektronenstrahl 15 auf dem letzten Teil seines
Weges den von ihm erzeugten Dampfstrahl 23 und ionisiert ihn dabei mehr oder weniger stark. Unterhalb
der Walze 11 sind zwei Blenden 24 so angeordnet, daß das zu bedampfende Band 10 beim Durchlauf durch die
Bedampfungszone 12 dem Dampfstrahl 23 nur in dem zwischen ihnen liegenden Bereich ausgesetzt ist.
Zwischen dem im Tiegel 13 verdampfenden Metall
14 und dem zu bedampfenden Abschnitt des Bandes 10 ist eine in den Bereich des Dampfstrahles 23 hineinragende
Sonde 25 angeordnet die gegenüber dem Tiegel 13 an eine Gleichspannung gelegt ist Der Sondenstrom,
der von den aus dem ionisierten Dampfstrahl 23 auf die Sonde auftreffenden Ladungsträgern herrührt,
wird einem Regler 26 zugeführt und die Stromstärke als unmittelbar von der Dampfstrahldichte abhängige
Größe zur Regelung der Dampfstrahldichte und damit der Schichtdicke des auf dem Band 10 aufzudampfenden
Metallbelages herangezogen.
Nach F i g. 1 wird die am Auftreffort 22 der Elektronen
vorhandene Energiedichte des Elektronenstrahls
15 dadurch geregelt daß die Heizleistung der Elektronenstrahlkanone
15, die über ein Umformeraggregat 28 einem Stromversorgungsnetz entnommen wird, über
ein Stellglied 27 vom Regler 26 beeinflußt wird Die Regelung der Heizleistung kann dabei auf verschiedene
Weise kontinuierlich oder diskontinuierlich, z. B. durch elektrische oder mechanisch bewirkte Strom- oder
Spannungsänderungen erfolgen. «5
Die Sonde 25 ist über dem Magnetfeld des Elektromagneten 16 angeordnet und erfaßt im wesentlichen
nur die durch den Elektronenstrahl 15 im Dampfstrahl 23 erzeugten Ionen, während die im Auftreffpunkt 22
des Elektronenstrahls 15 durch thermische Emission freigewordenen Elektronen und die an der Oberfläche
des Metallbades 22 reflektierten Elektronen des Elektronenstrahls 15 sowie die durch den Aufprall des Elektronenstrahls
15 aus dem Metallbad 22 herausgeschleuderten Sekundärelektronen durch das Magnetfeld abgelenkt
und von der Sonde 25 ferngehalten werden. Die oberhalb des Polschuhes 18 befestigte Sonde 25
ragt quer zur Transportrichtung des Bandes 10 in den Metalldampfstrahl 23 hinein, wodurch die Bildung eines
Bedampfungsschattens auf dem fortlaufenden Band 10 vermieden wird. Bei dieser Anordnung ergab sich bei
einer Sonde 25 aus einem Draht von 1 mm Durchmesser und 80 mm Länge beim Anlegen einer negativen
Spannung von 100 V gegenüber dem Tiegel 13 eine mittlere Stromstärke von 2 mA an der Sonde. Bei einer
positiven Spannung von nur 10 V ergab sich dagegen eine mittlere Stromstärke von 12OmA. Diese Gegenüberstellung
zeigt, daß der zur Regelung der Dampfstrahldichte verwendete Sondenstrom bei positivem
Sondenpotential wesentlich höher ist als bei negativem Sondenpotential. Da bei einem hohen Sondenstrom
auch geringste Änderungen der Dampfstrahldichte vom Regler erfaßt werden, ist eine Regelung mit positivem
Sondenpotential besonders vorteilhaft, wenn ein zur Umlenkung des Elektronenstrahles 15 vorhandenes
Magnetfeld wie F i g. 1 zeigt, zugleich zur Ablenkung bzw. Unterdrückung von Störelektronen verwendbar
ist
F i g. 2 zeigt den Schaltungsaufbau eines zur Regelung der Dampfstrahldichte verwendeten Zweipunktreglers.
Dabei ist die in F i g. 1 dargestellte Bandbedampfungsanlage nur angedeutet. Der Tiegel 13 wird
von einer Elektronenstrahlkanone 16 beheizt, deren Kathode an die Sekundärwicklung eines Trenntransformators
30 angeschlossen ist, die über eine Mittelanzapfung 31 an einer Gleichspannung von —10 kV liegt Die
Gleichspannung ist über einen Drehphasen-Gleichrichter 32 einem Drehstromnetz entnommen. Der Trenntransformator
30 ist primärseitig über einen Vorschaltwiderstand 33 von 5 Ohm, 30 W und einen Stelltransformator
34 an ein Wechselstromnetz mit 220 V, 50 Hz angeschlossen. Der Vorschaltwiderstand 33 ist durch
einen im wesentlichen aus einem Stromrelais 35 bestehenden Zweipunktregler 41 mit einem Schaltkontakt
36 zu überbrücken.
Das Relais 35 hat eine für eine Spannung von 2 V ausgelegte Arbeitsspule 37, zu der ein Stellwiderstand
38 von maximal 1000 Ohm-parallel geschaltet ist und liegt mit einem Anschluß an Massepotential und mil
dem anderen Anschluß am Minuspol einer 12 V-Batterie 39. Der Pluspol der Batterie 39 ist über ein Strom
meßgerät 40 mit der Sonde 25 verbunden, so daß sie gegenüber dem auf Massepotential liegenden Tiegel 13
eine positive Spannung von 10 V hat
Bei Inbetriebnahme der Bandbedampfungsanlage wird zunächst das zu bedampfende Band 10 auf dei
Aufdampfwalze 11 in Pfeilrichtung in Bewegung ge setzt das Vakuum erzeugt das Metall im Tiegel 1;
durch den Elektronenstrahl 15 der Kanone 16 erhitz und ein Dampfstrahl 23 erzeugt dessen Dichte durcl
die Heizleistung der Elektronenstrahlkanone 16 beein flußt wird. Die Grundeinstellung der Heizleistung er
folgt von Hand durch die Einstellung der 10 kV Gleich
spannung und der mit dem Trenntransformator 30 se kundärseitig überlagerten 50 Hz-Wechselspannung, dii
durch den Stelltransformator 34 von 0 bis 30 V einstell
bar ist.
Eine Feinregelung der Heizleistung und somit cer Energiedichte im Auftreffpunkt des Ele'c'ronenitrahls
15 auf die Oberfläche des im Tiegel 13 befinHi|c',ien Metalls
erfolgt durch den Zweipunktregler 41 innerhalb eines Sondenstrombereichs von 20 bis 400 mA auf
einen einstellbaren Sollwert der Dampfstrahldichte. Durch den Stellwiderstand 38 kann dabei sowohl der
Sollwert des Sondenstromes und damit der Dampfstrahldichte als auch die zulässige Sollwertabweichung
und damit die Empfindlichkeit und die Regelfrequenz des Reglers eingestellt werden. Nach erfolgter Grundeinstellung
wird nun der Vorschaltwiderstand 33 in Abhängigkeit von den Schwankungen der Dampfstrahldichte
und d*amit des Sondenstromes von dem Relais 35 in den Primärstromkreis des Trenntransformators 30
eingeschaltet bzw. überbrückt. Die Schaltung ist so dimensioniert, daß durch dieses Einschalten und Überbrücken
des Vorschaltwiderstandes 33 die Leistung der Elektronenstrahlkanone um etwa 20% verändert wird,
was eine entsprechende Änderung der Dampfstrahldichte zur Folge hat.
In F i g. 3 ist an Hand eines Diagrammes die Sondenstromstärke
Isund die Heizleistung A/der Elektronenstrahlkanone
über der 21eitachse t aufgezeichnet und ihr durch den Zweipunktregler 41 bedingter periodischer
Verlauf unmittelbar erkennbar. Der Kurvenverlauf ist dabei idealisiert dargestellt, da der tatsächliche
Verlauf durch verschiedene Rückwirkungen und andere Einflüsse von dem Idealverlauf abweicht und dadurch
die direkten Zusammenhänge zwischen Heizleistung und Sondenstrom weniger deutlich erkennbar
wären. Der Zweipunktregler 41 ist so eingestellt, daß der Sollwert des Sondenstromes 100 mA beträgt, was
z. B. bei Aluminiumbedampfung einer Dampfstrahldichte an der Bandoberfläche von 200 μg/cm2 · see entspricht,
und daß der Regler bei einer Soilwerlabweichung von ± 10 mA den Vorschaltwiderstand 33 aus-
oder einschaltet. Das Diagramm zeigt bei eingeschaltetem Vorschaltwiderstand 33 eine um etwa 20% vom
Ausgangswert reduzierte Heizleistung, die ein Abfallen der Dampfstrahldichte und — da der Sondenstrom im
Regelbereich annähernd proportional der Dampfstrahldichte ist — einen entsprechenden Rückgang der
Sondenstromstärke zur Folge hat. Beim Erreichen der unteren Ansprechgrenze des Reglers 41 im Punkt A
fällt das Relais 35 ab und schließt den Schaltkontakt 36, so daß der Vorschaltwiderstand 33 überbrückt wird.
Damit wird die Heizleistung wieder auf den höheren Wert gebracht und durch die dadurch erhöhte Energie
des Elektronenstrahles 23 eine Erhöhung der Dampfstrahldichte bewirkt Der Sondenstrom steigt nun wieder
an, bis er im Punkt B die obere Ansprechgrenze des Reglers 41 erreicht Das Relais 35 zieht nun an und
öffnet den Schaltkontakt 36, so daß der Vorschaltwiderstand 33 nunmehr erneut in den Primärstromkreis
des Trenntransformators 30 eingeschaltet wird und die Heizleistung auf den kleineren Wert reduziert Bei dieser
Arbeitsweise des Reglers 41 ergibt sich ein periodisches Ein- und Ausschalten des Vorschaltwiderstandes
33. Ändert sich die Dampfstrahldichte durch Auftreten von Störgrößen wie z. B. Spannungsschwankungen im
Netz oder Verschlechterung des Vakuums, so wird das durch den Regler 41 dadurch ausgeglichen, daß infolge
der nunmehr mehr oder weniger steil verlaufenden Kurve des Sondenstromes das Verhältnis von Ein- und
Ausschaltdauer des Vorschaltwiderstandes 33 bei etwa eleichbleibender Regelfrequenz von 10 Hz verändert
wird (s. rechter Teil des Diagrammes). Je nach Dimensionierung des Reglers 41 und des Vorschaltwiderstandes
33 ist es möglich, daß bei gelegentlich auftretenden starken Störgrößen die Feinregelung nicht mehr ausreicht.
Für solche Fälle können ohne größeren Aufwand weitere, vorzugsweise mit Verzögerung schaltende
Kontakte des Relais 35 zum Einschalten eines Antriebsmotors für den Stelltransformator 34 verwendet
und damit eine Grobregelung vorgenommen werden.
ίο Die Geschwindigkeit des zu bedampfenden Bandes
10 und die Regelfrequenz des Zweipunktreglers 41 sind zur Erzeugung eines möglichst gleichmäßig dicken Metallbelages
des Bandes 10 so aufeinander abgestimmt, daß die zu bedampfenden Flächenteile des Bandes 10
jeweils über mindestens eine Regelperiode T dem Dampfstrahl 23 ausgesetzt sind, so daß die durch den
Zweipunktregler 41 verursachten periodischen Schwankungen der Dampfstrahldichte auf die Schichtdicke
des Metallbelages keinen Einfluß haben.
Die in F i g. 4 dargestellte Sonde 50 ist mit drei in einem Abstand von 20 mm zueinander parallelverlaufenden
Meßstäben 51 versehen. Sie ist in der Bedampfungszone 12 (F i g. 1) so anzubringen, daß alle Meßstäbe
51 auf gleicher Höhe in den Dampfstrahl 23 hineinragen. Da der mit dieser Anordnung erzielte Sondenstrom
etwa 2- bis 3mal so groß ist wie bei einer einfachen Sondenausführung (Fig. 1), eignet sie sich ganz
besonders zur Messung geringer Dampfstrahldichten und -dichtenschwankungen. Die Sonde 50 ermöglicht
selbst bei hohen Bandgeschwindigkeiten insbesondere bei der Aufdampfung sehr dünner Metallbeläge von
0,1 μπι und weniger eine gute Regelung der Dampfstrahldichte.
In F i g. 5 ist als weiteres Ausführungsbeispiel des Erfindungsgegenstandes
eine Bandbedampfungsanlage 60 dargestellt, bei der ein gleichmäßig dicker Metallbelag
durch die Steuerung der Bedampfungszeit der zu bedampfenden Flächenteile eines Bandes 61 erzielt wird.
Das Band 61 läuft von einer Vorratsrolle 62 ab und gelangt über eine Umlenkrolle 63 auf eine Aufdampftrommel
64. Der zwischen zwei Blenden 65,65a liegende Bandabschnitt wird von einem Dampfstrahl 66 mit
Metall bedampft. Das bedampfte Band 61a läuft hierauf von der Aufdampftrommel 64 ab, über eine Umlenkrol-Ie
63a und wird auf eine Speicherrolle 67 aufgewickelt. Der Dampfstrahl 66 geht von einem an Masse liegenden
Tiegel 68 aus, in dem ein Metall im Auftreffpunkt eines Elektronenstrahls 69 verdampft wird Die Dampfstrahldichte
wird durch die Heizleistung einer Elektronenstrahlkanone 71 an einem Hochspannungsaggregal
70 auf einen Grundwert eingestellt Sie wird von einer Sonde 72 gemessen, die mit einem Steuergerät 73 verbunden
ist Der Ausgang des Steuergerätes 73 ist mii einem Antriebsmotor 74 des Bandes 10 verbunden
Diese Anordnung stellt eine Steuerstrecke dar, bei dei
der Sondenstrom als Steuergröße zur Beeinflussung der Bandgeschwindigkeit dem Steuergerät 73 züge
führt wird. Eine Änderung der Dampfstrahldichte führ
dabei sofort zu einer Änderung der Bandgeschwindig keit und damit zu einer längeren oder kürzeren Be
dampfungszek der dem Dampfstrahl 66 ausgesetztei
Flächenteile des Bandes 61, durch welche die Änderunj
der Dampfstrahldichte ausgeglichen wird.
Eine veränderliche Bedampfungszeit kann aber aucl
dadurch erreicht werden, daß in der Bedampfungszon eine vor dem Band angeordnete Blende verstellt un<
damit der den. Dampfstrahl 66 ausgesetzte Bandab schnitt verändert wird. Dies ist in F i g. 5 durch eine
W 542/35
ίο
gestrichelt dargestellten Verstellmotor 75 angedeutet, der durch die gestrichelt gezeichnete Verbindungsleitung
an das Steuergerät 73 angeschlossen ist. Im Bedarfsfalle
kann die Bedampfungszeit durch den Antriebsmotor 74 der Speicherrolle 67 und/oder durch
den Verstellmotor 75 der Blende 65a in Abhängigkeit von der Dampfslrahldichte gesteuert werden.
Die Erfindung ist nicht auf die Ausführungsbeispiele beschränkt, sondern umfaßt vielmehr alle Bcdampfungseinrichtungen,
bei denen der Sondenstrom als Funktion der Dampfstrahidichte zur Regelung oder
Steuerung der Schichtdicke von mit Metall zu bedampfenden Bändern benutzt wird. Auch die hierfür in Frage
stehenden Regeleinrichtungen sind nicht auf die Verwendung von Zweipunktreglern beschränkt. So ist es
z. B. durchaus möglich, daß bei Bandbedampfungsanlagen mit sehr hohen Bandgeschwindigkeiten die Regelfrequenz
des in F i g. 2 dargestellten Zweipunktreglers 41 unter anderem durch die Schaltverzögerung des Relais
35 nicht mehr ausreicht, oder daß bei der Leistungsregelung der Kathodenstrahlkanone die Regelfrequenz
durch die Trägheit der Kathode begrenzt ist. Dann wird die Sonde an einen verzögerungsarmen Regler
z. B. an einen elektronischen Regler angeschlossen, der eine Steuerspannung am Wehnelt-Zylinder oder an
einer Fokussierungselektrode beeinflußt. Da die insgesamt von der Badoberfläche abdampfende Metallmenge
bei entsprechender Fokussierung zu einem hoher
ίο Prozentsatz aus dem unmittelbaren Auftreffen de;
Elektronenstrahls stammt und dabei nur ein sehr kiel· nes Metallvolumen beeinflußt werden muß um schnelle
und ausreichend große Änderungen der Dampfstrahl dichte zu erzielen, besteht bei der Verwendung eine:
elektronischen Reglers und der Beeinflussung de Energiedichte des Elektronenstrahls durch seine Fo
kussierung praktisch keine Begrenzung der Regelfre quenz im Rahmen der technisch interessanten Dampf
Strahldichteänderungen und Bandgeschwindigkeiten.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
- Patentansprüche:L Vorrichtung zur Steuerung oder Regelung der Aufdampfrate beim Aufdampfen von Metallen im Vakuum, wobei das zu verdampfende Metall durch einen Elektronenstrahl erhitzt wird, der den aufsteigenden Dampfstrahl durchdringt, und die hierbei entstehenden Ladungsträger als Steuergröße dienen, dadurch gekennzeichnet, daß Ladungsträger durch eine in den Dampfstrahl hineinragende Sonde (25; 50; 72) erfaßt werden, und daß eip.e Spannung zwischen der Sonde und dem zu verdampfenden Metall (14) angelegt wird.?.. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Sonde (25) gegenüber dem zu verdampfenden Metall (14) an positivem Potential liegt.3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Sonde über einem Magnetfeld (17) angeordnet ist, welches den Elektronenstrahl auf das zu verdampfende Metall lenkt, wobei die Sonde quer zur Transportrichtung eines zu bedampfenden Bandes (10) in den Dampfstrahl (23) hineinreicht.4. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Sonde (25) als eine stabförmige Einfingersonde ausgebildet
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CH331470A CH528603A (de) | 1969-03-28 | 1970-03-06 | Einrichtung zum Aufdampfen von Metallbelägen auf Isolierstoffbänder im Vakuum |
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Family Applications (1)
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