DE1915714A1 - Vorrichtung zum AEtzen von Halbleiterscheiben - Google Patents
Vorrichtung zum AEtzen von HalbleiterscheibenInfo
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Description
1S157U
Anlage zur
t
Gebrauchsmusterhilfs-Anmeldung
HO BERTBQSGH GMBH, Stuttgart W4 Breitscheidstrasse 4-
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Ätzen von Halbleiterscheiben
mit einem in die Ätzflüssigkeit eingetauchten, mit waagrechter Achse rotierenden Ätzkorb, dessen Innenraum
durch Trennwände in einzelne Zellen unterteilt ist, welche je eine Halbleiterscheibe aufnehmen.
Es ist bereits eine Vorrichtung dieser Art bekannt, bei der die Trennwände des Ätzkorbes aus ebenen, mit Löchern versehenen
Kunststoffplatten bestehen. Die Außenwand des Ätzkorbes
'wird dabei durch einen Hohlzylinder gebildet, welcher ebenfalls aus Kunststoff besteht und mit Löchern versehen ist
Bei dieser bekannten Vorrichtung hat sich aber gezeigt, daß
die Halbleiterscheiben beim Ätzen nicht genügend planparallel v/erden, Diener Mangel tritt besonders dann auf, wenn die ab-
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MöBept BöscH
Stuttgart
Stuttgart
zutragenden Schichtstärken ein gewisses Mäßr-tife'ersciireiten^
z.B. größer-als 2GUuni pro Seite sind.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde^ eine Ifbrricntüiijg.^d-e
eingahgs genannten. Art zu entwibke'lii^ "bei der di^jir lia'cn-t'eil·;
beseitigt isti Insbesondere sbii dabei eüie;^ Yorritelitung änge-7
getieh vierdenj die Bei als zutragenden _Sbiiicintstär1fcbn:'in der ■ :;
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Parallelität der' Sciieibeii liefert * . ■ ; .
- . ' :: .:atfA
Erfindungsgemäß ist diese lüfgäbe' äädtirch gelöst^ daß der für
die Auflage der Halbleiterscneibe' bostiaiMte^ äußerste feil.
der Zelle als konkav gekrüiiiinte Führungsrilie ausgebildet: ist.
In dieser Führungsrille iiird die Mälbleiterscheibe stets etwa
in der Mitte geführt, so daß ein Anliegen der Scheibe mit
einer ihrer Planflächen an einer der beiden die Zelle seitlich begrenzenden Trennwände während des Ätzprozesses vermieden
wird.
In. Weiterbildung der Erfindung ist die Breite "der Zelle an der Stelle, an der der obere Rand der Halbleiterscheibe die
Zellwand berührt, so verringert, daß die Halbleiterscheibe in der Zelle an dieser Stelle nur ein geringes Spiel hat. Dadurch
wird erreicht, daß die Scheibe beim Ätzen mit ihrem oberen Rand statistisch zwischen den beiden einander gegenüberliegenden
Anschlagstellen hin- und herkippt, wobei sich eine weitere Erhöhung der Planparallelität der geätzten Scheiben
ergibt. In Weiterbildung der Erfindung wird vorgeschlagen, die radiale Begrenzung des Äbzkorbes als parallel zur Drehachse
verlaufende Stege auszubilden und die Pührungsrillen an
- 3 . 009843/1798 BAB OR1G3MAL
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den Stegen anzubringen. Dadurch wird ein guter Flüssigkeitsaustausch
erzielt. Dabei ist es besonders vorteilhaft, wenn der gegenseitige Abstand der Stege 25 bis 50 % des Durchmessers
der Halbleiterscheiben beträgt. Um zu verhindern,' daß die Halbleiterscheiben unrund geätzt werden, ist ferner
der gegenseitige Abstand der Stege so gewählt, daß bei jeder Umdrehung der Halbleiterscheibe im Ätzkorb andere Abschnitte
des Umfanges der Halbleiterscheibe von den Stegen berührt werden. Zweckmäßig wird der Ätzkorb so ausgestaltet, daß der
Abstand zwischen der Drehachse und dem von ihr entferntesten Punkt der Führungsrillen fünf Viertel des Durchmessers der
Halbleiterscheiben beträgt. Als besonders vorteilhaft hat sich die Verwendung der erfindungsgemäßen Ätzvorrichtung
für Halbleiterscheiben erwiesen, die mit einer Orientierungskante
versehen sind.
An einem in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiel soll die Erfindung näher erläutert werden.
Es zeigen:
Fig. 1 eine Ätzvorrichtung mit einem Ätzkorb mit eingesetzten
Siliziumscheiben, teilweise im Schnitt entlang der Achse des Ätzkorbes,
Fig. 2 eine einzelne Zelle des Ätzkorbes mit eingesetzter Siliziumscheibe in vergrößerter Darstellung, ebenfalls
im Schnitt entlang der Achse des Ätzkorbes,
Fig. 5 einen Schnitt nach der Linie HI-III in Fig. 2,
Fig. 4 eine Siliziumscheibe, welche mit einer Orientierungskante versehen ist, in der Draufsicht.
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In Fig. 1 ist mit 1 eine Halterung bezeichnet, die im wesentlichen
die form eines U hat, dessen freie Schenkel la, Ib nach unten gerichtet sind. Am rechten Schenkel la ist ein
Antriebsmotor 2 befestigt. Auf die horizontal verlaufende und nach links gerichtete Motorwelle 2a, die den linken Schenkel
Ib durchdringt, ist außerhalb dieses Schenkels ein erstes Zahnrad 3 starr aufgesetzt. Das Zahnrad 3 steht mit einem
zweiten Zahnrad 4 in Eingriff, welches unterhalb des Zahnrades 3 drehbeweglich angeordnet ist und dessen Achse ebenso
wie die Achse des Zahnrades 3 horizontal orientiert ist. Das Zahnrad 4 ist im unteren Teil des linken Schenkels Ib
der Halterung 1 gelagert. Koaxial zur Achse dieses Zahnrades ist zwischen den beiden Schenkeln la, Ib ein im wesentlichen
rotationssymmetrisch ausgebildeter Ätzkorb 5 drehbeweglich angeordnet und mit der Achse des Zahnrades 4 starr verbunden,
so daß der Ätzkorb über die Zahnräder 3,4 durch den Motor 2
in Drehung versetzt werden kann. Der Innenraum des Ätzkorbs 5 ist durch Trennwände 6 in einzelne Zellen unterteilt, in
welche je eine Halbleiterscheibe 7 eingesetzt ist.
Das beschriebene System ist in eine mit Ätzflüssigkeit 8 gefüllte Wanne 9 derart eingesetzt, daß sich der Ätzkorb 5"mit den
Halbleiterscheiben 7 unterhalb der Flüssigkeitsoberfläche befindet
.
Die Trennwände 6 sind als Massivwände ausgebildet. Ihre Wandstärke
nimmt mit zunehmendem Abstand von der Drehachse des Ätzkorbes linear ab, so daß die zur Aufnahme der Halbleiterscheiben dienenden Zellen sich mit zunehmendem Abstand
von dieser Achse verbreitern. Der Ätzkorb 5 ist in radialer
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Richtung durch acht parallel zur Drehachse verlaufende Stege 10 begrenzt, deren Querschnitt so bemessen ist, daß
der gegenseitige Abstand der Stege etwa 40 % des Durchmessers der Halbleiterscheiben beträgt.
Dieser Abstand ist ferner so gewählt, daß bei jeder Umdrehung der Halbleiterscheibe im Ätzkorb andere Abschnitte des Umfange
s der Halbleiterscheibe von den Stegen berührt werden. An den Stegen 10 sind an denjenigen Stellen, die für die Auflage
der Halbleiterscheiben bestimmt sind, konkav gekrümmte Rillen 11 angebracht, die zur Führung der Halbleiterscheiben
dienen. Der Abstand zwischen der Drehachse und dem von ihr entferntesten Punkt 12 der Führungsrillen 31 beträgt fünf
Viertel des Durchmessers der Halbleiterscheiben 7·
Wird der Ätzkorb 5 durch den Motor in Drehung versetzt, so
rollen die Halbleiterscheiben 7 im Ätzkorb gleichmäßig von
Führungsrille zu Führungsrille. Dies ist auch dann der Fall, wenn die Halbleiterscheiben, wie in Fig. 4 dargestellt, mit
einer Orientierungskante 13 versehen sind.
Es zeigt sich, daß, insbesondere bei Umdrehungsgeschwindigkeiten
des Ätzkorbes, die zu einer Umfangsgeschwindigkeit der Halbleiterscheiben im Bereich von ca. 3 cm pro Sekunde
führen, Scheiben erhalten werden, die mit Ausnahme eines l,5mni
starken Randes (der sowieso im Planarverfahren nicht ausnutzbar ist) planparallel auf - 2 /um sind und bei Verwendung einer
geeigneten Ätzlösung.eine spiegelblanke Oberfläche haben.
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Durch Erhöhung der Umfangsgeschwindigkeit läßt sich erreichen, daß der Rand nach dem Ätzen in einer Breite von ca. 3 mm um
10 bis 20 /um gegenüber der Mitte stärker ist, wodurch die
Anfälligkeit der Scheiben für Bruch stark herabgesetzt wird. Es wird dabei eine ausgesprochen stumpfe Scheibenkante erzielt.
· - ,
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Claims (9)
- Robert Bosch GmbH E. 94-30 Fb/MrStuttgartAnsprüche/ly Vorrichtung zum Ätzen von Halbleiterscheiben mit einem in die Ätzflüssigkeit eingetauchten, mit waagrechter Achse rotierenden Ätzkorb, dessen Innenraum durch Trennwände in einzelne Zellen unterteilt ist, welche je eine Halbleiterscheibe aufnehmen, dadurch gekennzeichnet, daß der für die Auflage der Halbleiterscheibe bestimmte, äußerste Teil der Zelle als konkav gekrümmte Führungsrille ausgebildet ist.
- 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Breite der Zelle an der Stelle, an der der obere Rand der Halbleiterscheibe die Zellwand berührt, so verringert ist, daß die Halbleiterscheibe in der Zelle an dieser Stelle nur ein geringes Spiel hat.
- 3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die radiale Begrenzung des Ätzkorbes durch parallel zur Drehachse verlaufende Stege gebildet ist.
- 4-. Vorrichtung nach Anspruch 35 dadurch gekennzeichnet, daß die Führungsrillen an den Stegen angebracht sind.009843/1798Robert Bosch GmbH R. 94-2QStuttgart
- 5. Vorrichtung nach Anspruch 3 oder 4,, dadurch gekennzeichnett
daß der gegenseitige Abstand, der Stege 25 bis 50% cLes
Durchmessers der Halbleiterscheiben beträgt. - 6. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 3'"bis 5*
dadurch gekennzeichnet, daß der gegenseitige Abstand der
Stege so gewählt ist, daß bei jeder Umdrehung der Halbleiterscheibe im Ätzkorb andere Abschnitte des Umfanges der Halbleiterscheibe von den Stegen berührt werden. - 7. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 6,
dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand zwischen der Drehachse und dem von ihr entferntesten Punkt der Führungsrillen fünf Viertel des Durchmessers der Halbleiterscheibe beträgt. - 8. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 7« dadurch gekennzeichnet, daß die Trennwände als Massivwände ausgebildet sind.
- 9. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8, gekennzeichnet durch ihre Verwendung zum Ätzen von Halbleiter-43/1790_ 191 57URobert Bosell GmbH ■ ' E. 94-30 Fb/MrStuttgartscheiben, welche mit einer Qrientierungskante versehen sind.Vorrichtung nach mindestens einem der Insprüche 1 his 8, gekennzeichnet durch ihre Verwendung zum Polierätzen von Halbleiterscheiben.Ζ.Ϋ. J.009843/1798Leerseite
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1915714A DE1915714C3 (de) | 1969-03-27 | 1969-03-27 | Vorrichtung zum Xtzen von Halbleiterscheiben mit einem mit Ätzflüssigkeit gefüllten Gefäß und einem in die Ätzflüssigkeit eingetauchten, mit waagrechter Achse rotierenden Ätzkorb |
FR6945499A FR2035929B1 (de) | 1969-03-27 | 1969-12-30 | |
US22627A US3679517A (en) | 1969-03-27 | 1970-03-25 | Apparatus for etching semiconductor bodies |
JP45024903A JPS50188B1 (de) | 1969-03-27 | 1970-03-26 | |
GB05114/70A GB1300333A (en) | 1969-03-27 | 1970-03-31 | Improvements in devices for etching semi-conductor discs |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1915714A DE1915714C3 (de) | 1969-03-27 | 1969-03-27 | Vorrichtung zum Xtzen von Halbleiterscheiben mit einem mit Ätzflüssigkeit gefüllten Gefäß und einem in die Ätzflüssigkeit eingetauchten, mit waagrechter Achse rotierenden Ätzkorb |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1915714A1 true DE1915714A1 (de) | 1970-10-22 |
DE1915714B2 DE1915714B2 (de) | 1974-11-28 |
DE1915714C3 DE1915714C3 (de) | 1975-07-10 |
Family
ID=5729517
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1915714A Expired DE1915714C3 (de) | 1969-03-27 | 1969-03-27 | Vorrichtung zum Xtzen von Halbleiterscheiben mit einem mit Ätzflüssigkeit gefüllten Gefäß und einem in die Ätzflüssigkeit eingetauchten, mit waagrechter Achse rotierenden Ätzkorb |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3679517A (de) |
JP (1) | JPS50188B1 (de) |
DE (1) | DE1915714C3 (de) |
FR (1) | FR2035929B1 (de) |
GB (1) | GB1300333A (de) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3964957A (en) * | 1973-12-19 | 1976-06-22 | Monsanto Company | Apparatus for processing semiconductor wafers |
US3951728A (en) * | 1974-07-30 | 1976-04-20 | Hitachi, Ltd. | Method of treating semiconductor wafers |
JPS5128760A (ja) * | 1974-09-04 | 1976-03-11 | Hitachi Ltd | Banjobutsunoetsuchingusochi |
US3977926A (en) * | 1974-12-20 | 1976-08-31 | Western Electric Company, Inc. | Methods for treating articles |
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-
1969
- 1969-03-27 DE DE1915714A patent/DE1915714C3/de not_active Expired
- 1969-12-30 FR FR6945499A patent/FR2035929B1/fr not_active Expired
-
1970
- 1970-03-25 US US22627A patent/US3679517A/en not_active Expired - Lifetime
- 1970-03-26 JP JP45024903A patent/JPS50188B1/ja active Pending
- 1970-03-31 GB GB05114/70A patent/GB1300333A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1915714C3 (de) | 1975-07-10 |
FR2035929B1 (de) | 1974-03-15 |
DE1915714B2 (de) | 1974-11-28 |
JPS50188B1 (de) | 1975-01-07 |
FR2035929A1 (de) | 1970-12-24 |
US3679517A (en) | 1972-07-25 |
GB1300333A (en) | 1972-12-20 |
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C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
EF | Willingness to grant licences | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |