DE1621263B2 - Verfahren zur herstellung cyclisch verlaufender schichten durch aufdampfen aufspruehen bestrahlen usw - Google Patents

Verfahren zur herstellung cyclisch verlaufender schichten durch aufdampfen aufspruehen bestrahlen usw

Info

Publication number
DE1621263B2
DE1621263B2 DE19671621263 DE1621263A DE1621263B2 DE 1621263 B2 DE1621263 B2 DE 1621263B2 DE 19671621263 DE19671621263 DE 19671621263 DE 1621263 A DE1621263 A DE 1621263A DE 1621263 B2 DE1621263 B2 DE 1621263B2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
substrate
diaphragm
relative
speed
movement
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19671621263
Other languages
English (en)
Other versions
DE1621263A1 (de
Inventor
Walter Dr habil 6500 Mainz Geffcken
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Schott AG
Original Assignee
Jenaer Glaswerk Schott and Gen
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jenaer Glaswerk Schott and Gen filed Critical Jenaer Glaswerk Schott and Gen
Publication of DE1621263A1 publication Critical patent/DE1621263A1/de
Publication of DE1621263B2 publication Critical patent/DE1621263B2/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C23C14/044Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks using masks to redistribute rather than totally prevent coating, e.g. producing thickness gradient

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung cyclisch verlaufender Schichten durch Aufdampfen, Aufsprühen, Bestrahlen usw. auf ein Substrat.
Zur Herstellung cyclischer Verlaufsinterferenzfilter ist es bekannt, vor dem Substrat zwei sektorenförmige Blenden mit verschiedenen, jedoch in rationalem Verhältnis stehenden Geschwindigkeiten zu bewegen. Dadurch entstehen periodisch sich öffnende und schließende Spalte, und die durch diese Spalte aufgedampften Schichten zeigen eine lineare Abhängigkeit der Schichtdicke von der Winkelkoordinate ψ auf dem Substrat.
An Hand der Zeichnung werden das bekannte Verfahren und das Verfahren gemäß der Erfindung erläutert. Es zeigt
F i g. 1 a den Verlauf der Schichtdicke h in Abhängigkeit von der Winkelkoordinate φ des Substrats, wie er nach Literaturangaben mit einfachen kontinuierlich gegeneinander bewegten Blenden erhalten wird,
F i g. 1 b den Schichtdickenverlaüf gemäß Literatur mit komplizierter geformten Blenden;
F i g. 1 c stellt den Idealfall des Schichtdickenverlaufes dar;
F i g. 3 erläutert die Blendwirkung eines Systems, das der Addition der Wirkungen von zwei Blendensystemen 1 und 2 entspricht, welche einzeln in Fig. 2a und 2b dargestellt sind, φ ist wieder die Winkelkoordinate des Substrats;
F i g. 4 a und F i g. 4 b erläutern die beiden Grenzstellungen eines Systems aus zwei Blenden von je 120° Ausdehnung. Die freie öffnung erreicht hier den Maximalwert, der mit zwei Einzelblenden erzielbar ist. Die einzelnen Buchstaben besitzen die gleiche Bedeutung wie1 in Fig. 3;
F i g. 2 a zeigt, wie sich die Blende Bl1 bewegt und damit auch die Kante K1 mit der Geschwindigkeit #,, die Blende BZ11 und damit die Kante Kn mit der (kleineren) Geschwindigkeit #n. Bl1 bleibt nach genau einer Umdrehung so lange stehen, bis auch Bln gerade eine Umdrehung vollendet hat;
F i g. 2 b zeigt, wie sich eine Blende Bin mit sektorförmigem Spalt der Breite Δ φ mit der konstanten Geschwindigkeit &n bewegt;
F i g. 3 entspricht bezüglich der Blendengeschwindigkeit Fig. 2a, jedoch ist die Kante Kn von Blende Bi11 um Δ φ verschoben;
F i g. 5 ist eine schematische Darstellung einer praktischen Ausführung des Verfahrens gemäß der Erfindung.
Ein bedeutender Nachteil dieser Anordnung ist, daß gebietsweise ein Steigen und anschließend ein Abfallen der Schichtdicke h auf dem Substrat auftritt. Im Normalfall ist die Neigung für beide Gebiete gleich (vgl. Fig. 1, Kurve α). Durch komplizierte Mehrfachschlitzung der Blenden ist noch eine Asymmetrie gemäß Kurve b erreichbar, aber der Idealfall, daß der Anstieg sich praktisch gleichmäßig auf den gesamten Drehwinkel φ von 360° verteilt und dann praktisch momentan der Abfall vom Maximalwert auf den Minimalwert erfolgt, ist mit den bekannten Anordnungen nicht erreichbar. Doch ist gerade dies von besonderer praktischer Bedeutung, da ein Filter von gegebener Dispersion, also Wellenlängenänderung je Winkeleinheit um so geringeren Durchmesser besitzt, also um so weniger Platz benötigt, auf je größerem Winkelbereich die Wellenlängenänderung sich verteilt.
Es wurde nun gefunden, daß sich diese ideale Form der Filterkurve (s. F i g. 1, Kurve 3) mit überraschend einfachen Mitteln erreichen läßt dadurch, daß man, ähnlich wie bei der bekannten Lösung, zwei ausreichend breite Teilblenden relativ zu dem Substrat um eine gemeinsame Achse mit verschiedenen Geschwindigkeiten rotieren läßt, wobei jedoch nur die Blende II mit der geringeren Relativgeschwindigkeit sich fortlaufend dreht, während die Blende I mit der höheren . Relativgeschwindigkeit nach Durchlaufen eines Relativwinkels von 2 π gegen das Substrat so lange relativ zum Substrat stehenbleibt, bis auch die Blende II nachgekommen ist, also ebenfalls den vollen Winkel von 360° durchlaufen hat. Sowie dies geschehen ist, beginnt nun die Blende I sich wieder zu bewegen. Die mathematischen Folgerungen dieser Kinematik werden im folgenden näher erläutert. Da die Gesamtbewegung beider Blenden die gleiche strenge Periode besitzt, kann das Geschwindigkeitsverhältnis der beiden Blenden in weiten Grenzen variiert werden. Grundsätzlich wird dabei noch keine engere Vorschrift über die Geschwindigkeit von II gemacht. Doch erhält man die mechanisch einfachsten Verhältnisse, wenn man die Geschwindigkeit der Blende II konstant hält. Da die erfindungsgemäße Bewegungsvorschrift sich nur auf die Relativ-Winkelbewegung der Blenden zum Substrat bezieht, kann sie natürlich auch erreicht werden, wenn die Blende II stillsteht und Substrat und Blende I sich bewegen. Es sind aber auch sämtliche Zwischenstufen zwischen den erwähnten kinematischen Extremen möglich. Dies ist deswegen wichtig, weil man bei Vakuumbedampfungen im Interesse der Gleichmäßigkeit der Schichten im allgemeinen anstrebt, die einzelnen Stellen des Substrats in verschiedener Stellung zu den Verdampferquellen beschichten zu lassen. Diese Stellungsänderung kann jedoch verhältnismäßig langsam erfolgen, während es wegen der besseren Gleichmäßigkeit des Laufes günstiger ist, die Blenden verhältnismäßig rasch rotieren zu lassen. Das genannte Verfahren kann selbstverständlich nicht nur bei Interferenzfiltern angewendet werden, sondern auch für beliebige keilförmige Schichten, etwa Metallschichten für Graufilter oder Filter aus aufgedampften Farbstoffen, für elektrisch leitende Schichten usw. Technisch ist die erfindungsgemäße Kinematik auf verschiedenste bekannte Weise lösbar. Besonders einfach erscheint es, die beiden Teilblenden durch getrennte Synchronmotoren antreiben zu lassen und den Motor für Blende I fotoelektrisch von der Bewegung der Blende II einschalten und von dem Stand seiner eigenen Bewegung ausschalten zu lassen. Dieses Verfahren ist deshalb besonders vorteilhaft, weil man dann mit recht einfachen Mitteln das gegenseitige Geschwindigkeitsverhältnis während des Laufes nach einem periodischen Programm steuern kann. Dies ist deshalb von Interesse, weil bei Interferenzfiltern infolge der beträchtlichen Dispersion der angewendeten hochbrechenden Stoffe eine lineare Änderung der Schichtdicke, wie sie bei völlig konstanten Geschwindigkeiten erzielt würde, nicht zu einer konstanten Dispersion führt, wie sie aus Gründen der einfachen Auswertung von Messungen, die mittels des fertigen Filters ausgeführt werden sollen, besonders erstrebenswert ist.
Man kann z. B. rein mechanisch über ein Differentialgetriebe, dessen eine Welle über eine Kurvenscheibe gesteuert wird, eine Drehbewegung periodisch
modifizieren oder aber rein elektrisch durch einen Phasenschieber, der den Lauf der Motoren gegeneinander abstimmt. Wichtig ist nur, daß dabei die gegenseitige Winkelstellung der Blendenkanten periodisch mit der relativen Verdrehung der Blende II verläuft, daß also auch die Phasenverschiebungen streng periodisch ablaufen.
Die Theorie der erfindungsgemäßen Kinematik iäßt sich am leichtesten verständlich machen, wenn man die benutzten beiden Blenden gedanklich in zwei Teilsysteme aufteilt, und zwar
1. ein System 1 mit zwei Blenden, deren Kanten bei Beginn der Bewegung genau aneinanderstoßen (vgl. Fig. 2a) und
2. ein System 2 mit konstanter Blendenöffnung (vgl. F ig. 2b).
Im System 1 möge sich Blende I mit der konstanten Winkelgeschwindigkeit I)x so lange drehen, bis die Kante K1 genau 2.τ durchlaufen hat und dann stehenbleibt; Blende II laufe fortgesetzt mit der konstanten Geschwindigkeit On.
Mm System 2 laufe die Blende II ebenfalls mit der Geschwindigkeit On, und zwar befinde sich die Kante/C1 im Ausgangspunkt der Bewegung an der Stelle r/ = 0, während Kn im gleichen Augenblick bei (/ = — I r/ liege.
Die Winkelgröße 7 diene hierbei zur Kennzeichnung der Lage.
Bei konstanter Verdampfungsgeschwindigkeit des aufzudampfenden Stoffes während einer Periode ist offenbar die Schichtdicke Zi1 (</), die sich mit dem ersten System nach Ablauf der Zeitperiode tp auf dem Substrat an der Stelle 7 gebildet hat, proportional der Zeit, die zwischen dem Zeitpunkt r, Of) der "»Öffnung«, d. h. Durchgang der Kante K1 durch den Punkt und dem Zeitpunkt tn Of) der »Schließung« durch Durchgang der Kante K2 durch den Punkt 7 verstrichen ist. Es gilt also
KU) = K Itn Iq)-
(D
K = Proportionalitätsfaktor.
Für konstante Geschwindigkeit Hn und I)x gilt
ferner
hx('l)
'■■('/)■=
'P-
(2)
(3)
tung gemäß F i g. 2b folgen läßt, bei der offenbar wegen der zeitlichen Konstanz von I 7 eine konstante Schichtdicke entsteht.
In praxi kann man nun diese beiden Beschichtungen nebeneinander herlaufen lassen, wenn man Blende II und Blende III, die ja mit gleicher Geschwindigkeit laufen, zu einer einzigen modifizierten Blende zusammenfaßt, wie sie in F i g. 3 dargestellt ist. Dies ist, wie man sich leicht klarmachen kann,
ίο immer möglich, wenn Blende I ausreichend schmal gemacht wird, so daß sie nicht mit der öffnung von Blende III zum überlappen kommen kann. Die modifizierte Blende II entsteht aus der normalen Blende, wenn man die Kante Kn um den Winkel I 7 gegen die +!/-Richtung verschiebt. Sie ist äquivalent mit der Wirkung der Summe der Systeme 1 und 2. Für die durch System 2 erzeugte Schichtdicke h2 gilt offenbar
nach einer Periodendauer tp.
Für die Gesamtschichtdicke/1(7) gilt also
hOi) = KOi) + h2
h Of) wird eine lineare Funktion von 7, tp = Umlaufzeit für Blende II.
Die Extremwerte /i„„IK und hmin betragen
/!„„·„ = K ■ tp ■ Ί ^ .
Alsi) das Verhältnis
''»Kl JC
Meist wird verlangt, daß
hmin
Dies bedeutet, daß
Damit wird (1) zu.
(4)
Die Schichtdicke /i, wird also proportional 7, d. h., sie beginnt mit Null bei 7 = O und läuft linear bis zum großen Wert bei 7 = 2.7.
Da jedoch bei einem Verlauffilter die Schichtdicke nicht mit Null, sondern mit einem endlichen Minimalwert /i„ beginnen soll, so kann man einen solchen Verlauf erhalten, wenn man nach der Beschichtung mit System 1 gemäß Fig. 2a eine zweite Beschich- "l " 2.-T--
Wählt man beispielsweise
Il - 1
2~i ~ 3 '
also
so wird
I7 = 120,
Dies bedeutet, wenn die Kante K, gerade um 360 gelaufen ist, ist Ku um 240' gelaufen. Somit befindet sich Kantell zu dem Zeitpunkt, wo Kante 1 gerade die Endstellung erreicht hat, bei
<, =240'■·- 120" = 120°.
Die diesen beiden Augenblicken entsprechenden Blendenstellungen zeigt F i g. 4.
Man erkennt, daß in der zweiten Stellung die beiden Blenden genau übereinanderliegen. Die Einzelblende darf also nicht breiter als 120°, sie darf aber auch nicht schmaler sein, da sonst in der Anfangsstellung ein zweiter Blendenschlitz zwischen den Blenden I und II sich öffnen würde, da diese bei 120° gerade genau aneinanderstoßen.
Bei ■!' * =2 ist also 1^ = 120° der maximal
mögliche Wert, wenn nur zwei bewegliche.Blenden verwendet werden. Er ist materialmäßig besonders wirtschaftlich, weil die auf die Blenden aufgedampfte Materialmenge am kleinsten wird.
Während in den bisher behandelten Fällen die »öffnungsblcnde« rascher lief als die »Schließblende« ist natürlich auch der umgekehrte Fall möglich. Man braucht sich dazu nur vorzustellen, daß sich die Bewegungsrichtung umkehrt und daß die Stellung Fig. 4b Ausgangs-, die Stellung Fig. 4a Endstellung ist. Die beiden Möglichkeiten sind also völlig gleichwertig. Im einen Fall nimmt h mit wachsendem 7 zu. im anderen ab. Das hat besonderen praktischen Wert * bei den sogenannten Metallinterferenzfiltern. Dort müssen nämlich die beiden Metallschichten, zwischen denen das Dielektrikum liegt, mit wachsender Wellenlänge dünner werden, während die Diclektrikumsschicht zunimmt. Auf demselben Substrat kann also lediglich durch Änderung der Blendenstellung und der Stoppzeiten der gewünschte Schichtdickenzuwachs oder Abfall hergestellt werden.
Es ist einleuchtend, daß zur Durchführung der erfindungsgemäßen kinematischen Vorschrift die verschiedenartigsten Mittel geeignet sind, so daß durch Beschreibung eines Durchführungsbeispiels die übrigen Möglichkeiten im Erfindungsgedanken gleichwertig erhalten bleiben.
Wie aus F i g. 5 ersichtlich, ist A eine Welle, durch die das Substrat S gedreht wird. Die Befestigung des letzteren erfolgt durch Auflegen des Substrats mit seiner konischen Innenbohrung auf die konische Trägerscheibe P, deren Achse St durch die Mittelbohrungen der Blenden B1 und Bn läuft und Aufschrauben der am unteren Ende von A vorhandenen Innenmutter H auf den oberen Gewindezapfen von P.
Wu und W1 sind Wellen, auf denen die Zahnräder Z, und Zn sitzen, die die Blenden B1 und B1, drehen.
Die gesamte Einrichtung befindet sich in einem evakuierten Gefäß, durch welches die Achsen W1, Wn und A vakuumdicht hindurchgeführt sind.
D1, D2, D3 und D4 symbolisieren die Richtung der Verdampfungsströmüng, die etwa von einer Zerstäubungskathode ausgeht.

Claims (8)

Patentansprüche:
1. Verfahren zur Herstellung cyclisch verlaufender Schichten durch Aufdampfen, Aufsprühen, Bestrahlen usw. auf ein. Substrat, vor dem sich zwei Blenden mit verschiedener Relativdrehgeschwindigkeit gegen das Substrat um einen gemeinsamen Drehpunkt bewegen, dadurchgekennzeichnet, daß einer Blende (B1) mit größerer Relativgeschwindigkeit eine relative Drehbewegung von 2.τ gegen das Substrat erteilt und anschließend so lange diese Relativbewegung gestoppt wird, bis eine andere Blende (Bn) mit geringerer Relativgeschwindigkeit ebenfalls eine relative Drehbewegung 2 .τ gegen das Substrat beendet hat und daß dieser Vorgang periodisch so oft wiederholt wird, bis die gewünschte Schichtdicke erreicht ist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Relativgeschwindigkeit I)n der Blende (Bn) gegen das Substrat zeitlich konstant gehalten wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat festgehalten wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Blende (Bn) festgehalten, wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Drehgeschwindigkeit der Blende (Bn) so eingestellt wird, daß sie größer als die des Substrats ist.
6. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Bewegung der Blenden durch getrennte Synchronmotoren vorgenommen und daß der die Blende (B,) bewegende Motor durch lichtelektrische Steuerung im gewünschten Zeitpunkt ab- bzw. angestellt wird.
7. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß durch bekannte Mittel, wie Differentialgetriebe oder Phasenschieber, eine geringfügige, streng periodische Änderung des Verhältnisses der Relativgeschwindigkeiten bewirkt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Relativgeschwindigkeiten Hn und Itι so eingestellt werden, daß sie sich wie 2 : 3 verhalten und eine Anfangsöffnung der Blende von rund 120 gewählt wird.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
DE19671621263 1967-04-11 1967-04-11 Verfahren zur herstellung cyclisch verlaufender schichten durch aufdampfen aufspruehen bestrahlen usw Pending DE1621263B2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEJ0033412 1967-04-11

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE1621263A1 DE1621263A1 (de) 1970-08-20
DE1621263B2 true DE1621263B2 (de) 1971-03-25

Family

ID=7204758

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19671621263 Pending DE1621263B2 (de) 1967-04-11 1967-04-11 Verfahren zur herstellung cyclisch verlaufender schichten durch aufdampfen aufspruehen bestrahlen usw

Country Status (4)

Country Link
US (1) US3561993A (de)
CH (1) CH525288A (de)
DE (1) DE1621263B2 (de)
GB (1) GB1217863A (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3816578C1 (en) * 1988-05-14 1989-03-16 Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen, De Process and device for the vapour deposition of graded-light filter layers on transparent plates

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3773541A (en) * 1970-11-02 1973-11-20 Gte Sylvania Inc Process for achieving a controlled gradient density coating on a light attenuation medium
US3914464A (en) * 1971-04-19 1975-10-21 Optical Coating Laboratory Inc Striped dichroic filter and method for making the same
US3899996A (en) * 1974-06-10 1975-08-19 Zenith Radio Corp Apparatus for making light attenuating filters
US4303489A (en) * 1978-08-21 1981-12-01 Vac-Tec Systems, Inc. Method and apparatus for producing a variable intensity pattern of sputtering material on a substrate
CA1197088A (en) * 1983-10-17 1985-11-26 Jerzy A. Dobrowolski Vapour deposition regulating apparatus
US4814056A (en) * 1987-06-23 1989-03-21 Vac-Tec Systems, Inc. Apparatus for producing graded-composition coatings
US5100599A (en) * 1989-06-15 1992-03-31 The Boeing Company Method for producing thin film particulates of controlled shape
US6176967B1 (en) 1998-09-16 2001-01-23 International Business Machines Corporation Reactive ion etch chamber wafer masking system
TW574592B (en) * 2003-01-29 2004-02-01 Asia Optical Co Inc Multi-color film-plating process of a single piece type filter and color rotation wheel set equipped with the filter
JP4078551B2 (ja) * 2003-08-08 2008-04-23 ミネベア株式会社 カラーホイール、その製造方法、およびそれを備えた分光装置並びに画像表示装置
DE102010021547A1 (de) * 2010-05-20 2011-11-24 Konstantinos Fostiropoulos Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten im Vakuumdepositionsverfahren

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3816578C1 (en) * 1988-05-14 1989-03-16 Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen, De Process and device for the vapour deposition of graded-light filter layers on transparent plates

Also Published As

Publication number Publication date
GB1217863A (en) 1970-12-31
US3561993A (en) 1971-02-09
DE1621263A1 (de) 1970-08-20
CH525288A (de) 1972-07-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1472196C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines optischen Kreiskeilfilters
DE2813180C2 (de) Vakuumbeschichtungsanlage zum allseitigen Beschichten von Substraten durch Rotation der Substrate im Materialstrom
DE1621263B2 (de) Verfahren zur herstellung cyclisch verlaufender schichten durch aufdampfen aufspruehen bestrahlen usw
DE3815006A1 (de) Vorrichtung zum herstellen von beschichtungen mit abgestufter zusammensetzung
DE3306870A1 (de) Vorrichtung zum herstellen von schichten mit rotationssymmetrischem dickenprofil durch katodenzerstaeubung
DE10392223T5 (de) Linien- oder Flächen-Verdampfer zum Steuern des Schichtdickenprofils
DE3925536A1 (de) Anordnung zur dickenmessung von duennschichten
DE102010047496B4 (de) Drehtellervorrichtung für Prozesskammer
DE2621565B2 (de) Schrittgetriebe
DE10062713C1 (de) Verfahren zum Beschichten von Substraten und Maskenhaltern
EP0892081B1 (de) Vakuumbeschichtungsvorrichtung zum allseitigen Beschichten von Substraten durch Rotation der Substrate im Partikelstrom
EP1702087A2 (de) Vakuumbeschichtungsanlage und ein verfahren zum zonenweise beschichten von brillengl sern
DE1621263C (de) Verfahren zur Herstellung cyclisch verlaufender Schichten durch Aufdampfen, Aufsprühen, Bestrahlen usw
EP0241589B1 (de) Testglaswechsler zur optischen Messung von Schichteigenschaften in Vakuumbeschichtungsanlagen
DE3424530A1 (de) Verfahren zur herstellung einer orientierungsschicht auf einer ebenen oberflaeche einer platte und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
DE102018204033A1 (de) Vorrichtung zur Beschichtung einer Vielzahl von Substraten
CH630417A5 (en) Process and apparatus for the uniform coating of sheet-like substrates
DE3034627A1 (de) Schrittantriebs-vorrichtung
DE4107711C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Abscheidung dotierter Schichten oder chemischer Verbindungen oder Legierungen mittels einer Magnetronkathode
DE1203075B (de) Getriebegehaeuse
DE4309717A1 (de) Verfahren zum Aufdampfen einer Schicht
DE675069C (de) Bronzeauftragwerk fuer Bronziermaschinen
DE1521250B2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Bedampfen von kleinen Gegenständen, insbesondere Linsen, mit Quarz oder Metallen
DE1273855B (de) Optisches Filter und Vorrichtung zu seiner Erzeugung
DE3008325A1 (de) Maskenanordnung, insbesondere fuer vakuumbeschichtungsvorrichtungen