DE1590786C - Verfahren zur Herstellung von Mikro Miniatur Schaltungen bzw Schaltungsbauele menten - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Mikro Miniatur Schaltungen bzw Schaltungsbauele mentenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Mikro-Miniatur-Schaltungen bzw. Schaltungsbauelementen
durch Aufsprühen bzw. Niederschlagen einer dünnen Metallschicht im Vakuum oder einer Gasatmosphäre auf eine Unterlage, wobei die
Metallschicht aus zwei Metallen gleichzeitig gebildet wird.
Um die Anforderungen zu erfüllen, die eine Metallschicht bei der Verwendung in Mikro-Miniatur-Schaltungen
bzw. in Bauteilen wie Widerständen und Kondensatoren aufweisen muß, sollte sie die nachfolgenden
Eigenschaften besitzen: '■ ,
1. sie muß eine gute Haftung auf der glatten Oberfläche einer Unterlage, z. B. Glas, besitzen;
2. sie muß genügend korrosionsfest sein, so daß keine Kavitation od. dgl. auftritt, wenn sie beispielsweise
einer Ätzung unterworfen wird, um bestimmte Muster herzustellen; das Metall muß vielmehr gleichmäßig geätzt werden; .
3. sie muß eine ausreichende Konstanz der elektrischen
Eigenschaften sowohl im Betriebe als auch bei der Lagerung aufweisen, und zwar
auch bei Schichten, deren Widerstand größer als 8 Ohm/cm2 besitzt; und
4. sie muß oxydierbar sein, wobei sich ein widerstandsfähiges schichtförmiges Dielektrikum bildet,
sofern eine Kapazität hergestellt werden soll; handelt es sich jedoch um Widerstände, so
dient das Dielektrikum zur Erleichterung des Widerstandsabgleich auf einen bestimmten, eng
tolerierten Wert.
Es ist bekannt, daß zum Erfüllen dieser Forderungen das betreffende Metall unter jenen ausgesucht
werden soll, welche ein amphoterisches Oxyd bilden. Es ist auch bekannt, daß Tantal die obenerwähnten
Eigenschaften in bemerkenswertem Ausmaß besitzt, und daher ist es das meistens für solche Zwecke verwendete
Metall. Tantal ist ungewöhnlich Widerstandsfähig gegen praktisch alle chemischen Einflüsse unterhalb
15O0C, und es ist unwahrscheinlich, daß irgendein
anderes reines Metall, welches ein amphoterisches Oxyd bildet, verwendet werden kann, um stabilere
dünne Schichten herzustellen. Freilich ist auch Tantal nicht als idealer Werkstoff anzusehen; insbesondere
erfüllt er nicht völlig die unter 3 aufgeführte Forderung der elektrischen Stabilität. So ist es bekannt,
daß der Widerstandswert eines aus reinem Tantal durch Aufsprühen (»Sputtering«) hergestellten
Widerstands sich langsam ändert — und zwar ständig zunimmt —, wenn der Widerstand dauernd bei einer
erhöhten Temperatur von beispielsweise 15O0C betrieben
wird. :
Diese Änderung der Widerstandszunahme kann man feststellen, wenn eine Probe einem mehrfach
wiederholten Temperaturzyklus ausgesetzt wird, oder wenn man die Probe während einer beträchtlichen
Zeitspanne auf erhöhter Temperatur hält. In jedem Falle zeigt sich, daß der Widerstand der Probe sowohl
bei höherer Temperatur als auch bei normaler Temperatur etwas zugenommen hat.
Dementsprechend wurden bereits verschiedene Versuche zur Verbesserung unternommen. Bei einem
Verfahren, das von einer Sprühtechnik Gebrauch macht, wird ein Gas, ζ. Β. Sauerstoff oder Stickstoff,
in die Sprühkammer eingeleitet (Gerstenberg and Calbick, the American Journal of Applied Physics,
Vo. 35, number 2, February 1964). Bei einem anderen Verfahren wird ein Metall'der Gruppe Ib des
Periodischen Systems der Elemente, z. B. Gold, in das Tantal eingebracht, und zwar indem man erstens
eine Tantalschicht durch Spritzen aufbringt, zweitens eine Goldschicht und drittens «eine weitere Tantalschicht. Die drei Schichten läßt man dann ineinander
diffundieren, indem man sie für eine ausreichende Zeitspanne auf einer Temperatur von 35O0C hält.
(Schaible and Mais se 11, of the Components
division of International Business/Machines Corp., New York, the 1962 Transactions of the Ninth Vacuum
Symposium of the American Vacuum Society.)
Es sei auch bemerkt, daß von diesen Vorschlägen sich nur der zuerst genannte eignet, wenn die Schaltung
oder das Schaltungsbauelement eine Kapazität enthält.
Es ist ferner bekannt, Bauelemente in Dünnfilmtechnik
durch direktes Aufdampfen oder Kathodenzerstäuben derart herzustellen, daß die Metallschicht
aus zwei Metallen gleichzeitig gebildet wird, z. B. aus Nickelchrom zur Herstellung von Widerständen.
Es ist die Aufgabe der Erfindung, dünne Metallschichten herzustellen, welche die eingangs gestellten
Forderungen erfüllen, und die insbesondere eine hohe Konstanz der elektrischen Eigenschaften aufweisen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß bei dem Verfahren der eingangs erwähnten
Gattung als Metalle Tantal und Aluminium verwendet werden, von denen mindestens eines in reiner
Form oder als Legierung oder als aus den beiden Metallen bestehende chemische Verbindung vorliegt.
Die hierbei gegebenenfalls verwendete chemische Verbindung kann Aluminium-Tantalid sein.
Zweckmäßig wird aus den Metallen eine zweiteilige Kathode geformt, welche aus einer Tantalscheibe
und einem diese umgebenden Ring aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung besteht.
Die Oberfläche des Aluminiums in der Kathode sollte etwa 8 bis 14°/o, vorzugsweise etwa 11,6%
der Gesamtoberfläche betragen.
Der Vorteil der nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Metallschichten besteht insbesondere
in ihrer hohen elektrischen Konstanz, die sie z. B. zur Herstellung von Widerständen geeignet
machen.
Bei der Durchführung der Erfindung werden Schichten aus den genannten Metallen durch kathodisches
Aufsprühen von einer zusammengesetzten Kathode gebildet, welche aus einer Scheibe aus einem
der Metalle besteht, die vor einer Hinterplatte mittels eines Ringes aus dem anderen Metall gehalten wird.
Tantal und Aluminium wurden als übliche Metallpaarung gewählt, weil sie leicht in Blechform von
hoher Reinheit erhältlich sind. Die Existenz der stabilen Verbindung Aluminium—Tantalid, die unmittelbar
aus den beiden Elementen hergestellt werden kann, war ein weiterer Anreiz zur Verwendung dieser
Kombination.
Es wird eine Anzahl von Versuchen durchgeführt, um die günstigsten Anteile des Aluminiums in einer
Aluminium-Tantal-Schicht festzustellen. Diese Anteile wurden nicht als Bruchteile der Schicht selbst
ausgedrückt, da dies eine nicht leicht bestimmbare Größe wäre, jedenfalls bei den zur Zeit verfügbaren
Meßeinrichtungen; die Angaben beziehen sich vielmehr auf den Bruchteil des Aluminiums in der
Kathodenfläche, die beim Niederschlagen im Vakuum verwendet wird.
Also wurde in einer Reihe von Versuchen eine Scheibe aus reinem Tantal benutzt, deren Außendurchmesser
etwa 20 cm betrug, und aus einem
miniumblech mit einer Reinheit von 99,999 °/o wurde eine große Ringscheibe ausgeschnitten, deren Außendurchmesser 21,6 mm und deren Innendurchmesser 15,2 mm betrug. Diese bildeten zusammen die Kathode, welche nach einem Sprühen von einer Stunde sauber war und ein Sprühen von 10 Minuten erlaubte, um eine Schicht herzustellen, aus der Widerstände ausgeätzt wurden. Aus zwei dickeren Schichten wurden Kapazitäten hergestellt. Der Versuch wurde dann wiederholt, wobei man den Innendurchmesser des Ringes vergrößerte. So wurde, ausgehend von einer Kathode, bei der die Fläche des Aluminiums 20% der Gesamtfläche ausmachte, bis herab zu einer Fläche von ungefähr 3 °/o gearbeitet.
miniumblech mit einer Reinheit von 99,999 °/o wurde eine große Ringscheibe ausgeschnitten, deren Außendurchmesser 21,6 mm und deren Innendurchmesser 15,2 mm betrug. Diese bildeten zusammen die Kathode, welche nach einem Sprühen von einer Stunde sauber war und ein Sprühen von 10 Minuten erlaubte, um eine Schicht herzustellen, aus der Widerstände ausgeätzt wurden. Aus zwei dickeren Schichten wurden Kapazitäten hergestellt. Der Versuch wurde dann wiederholt, wobei man den Innendurchmesser des Ringes vergrößerte. So wurde, ausgehend von einer Kathode, bei der die Fläche des Aluminiums 20% der Gesamtfläche ausmachte, bis herab zu einer Fläche von ungefähr 3 °/o gearbeitet.
In der nachstehenden Aufstellung sind einige der erzielten Resultate angegeben:
Widerstandes. Um diesen Einfluß innerhalb vernünftiger Grenzen zu halten, ergab sich, daß ein
Bereich von ungefähr 8 bis 14% Aluminium tragbar erschien.
- 5 Es sei darauf hingewiesen, daß der Temperaturkoeffizient
des Widerstandes einer Tantal-Aluminium-Schicht, die aus einer nicht gekühlten Kathode hergestellt
ist, zum Teil von der Länge des vorangehenden Betriebes abhängt. Wenn dieser vorangehende
ίο Betrieb sehr lang ist, dann besitzt die Schicht einen
niedrigen Temperaturkoeffizienten des Widerstandes, und zwar weil die Kathodenoberfläche überheizt
worden ist. Bei einem Betrieb von weniger als etwa Minuten wird der Temperaturkoeffizient des
Widerstandes groß, weil die Kathodenoberfläche von Oxyd saubergesprüht worden ist, ohne daß sie dabei
überheizt wurde.
ι empcriiLur- koeffizient des |
Prozentuale Wider | |
Prozentuale | Widerstandes | standszunahme nach |
Fläche der Kathode des |
1000 Stunden bei 104° C bei einer |
|
Aluminiums | -138 | Schichtbelastung von |
-122 | 4 W/cm2 | |
16,25 | -120 | 0,28 |
11,60 | -48 | 0,11 |
7,25 | N -61 | 0,39 |
5,15 | 2,72 | |
3,14 | 0,84 | |
Der optimale Anteil von Aluminium ergab sich also bei einem Aufsprühen, bei dem die Fläche des
Aluminiums zur Fläche des Tantals im Verhältnis 11,6 : 88,4 stand, d. h. bei 11,60% der Gesamtfläche.
In diesem Falle war die Konstanz der elektrischen Eigenschaften, insbesondere des Widerstandes,
größenordnungsmäßig etwa zehnmal so groß wie bei reinem Tantal. Außerdem wurde beim Abweichen
von diesem Optimalwert von 11,60% nach oben und nach unten festgestellt, daß sich die elektrischen
Eigenschaften sehr schnell verschlechterten, insbesondere hinsichtlich des Temperaturkoeffizienten des
Claims (5)
1. Verfahren zur Herstellung von MikroMiniatur-Schaltungen bzw. Schaltungsbauelementen
durch Aufsprühen bzw. Niederschlagen einer dünnen Metallschicht im Vakuum oder einer Gasatmosphäre
auf eine Unterlage, wobei die Metallschicht aus zwei Metallen gleichzeitig gebildet
ist, dadurch gekennzeichnet, daß als Metalle Tantal und Aluminium verwendet werden,
von denen mindestens eines in reiner Form oder als Legierung oder als aus den bei den Metallen
bestehende chemische Verbindung vorliegt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die chemische Verbindung
Aluminium-—Tantalid ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß aus den Metallen eine zweiteilige
Kathode geformt wird,' welche aus einer Tantalscheibe und einem diese umgebenden Ring
aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung besteht.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche des Aluminiums
in der Kathode etwa 8 bis 14% der Gesamtoberfläche ausmacht.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,
daß die Oberfläche des Aluminiums etwa 11,6% der Gesamtoberfläche beträgt.
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