DE1567572C - Verfahren zur Hersteilung von wasser freien kristallinen Alkalisilikaten - Google Patents
Verfahren zur Hersteilung von wasser freien kristallinen AlkalisilikatenInfo
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Description
3 4
/erden. Die Bewegung'der Teilchen kann auf ver- Durch Wiederholung der Filmbildung und an-
chiedene Weise erfolgen." Vorzugsweise wird ein schließerfden Trocknung kann die Teilchengröße in
otiereader Zylinder verwendet, der mit einer Anzahl gewissem Umfange variiert werden. Es wird daher der
on Einbauten versehen ist, welche die Teilchen von Überzug und Trockenschritt so lange wiederholt, bis
ier Oberfläche abheben und zurückfallen lassen. 5 die Größe der kristallisierten wasserfreien Alkali-
£ine andere Möglichkeit, die Teilchen in Bewegung silikatteilchen in gewünschtem Maße angestiegen ist.
u halten und mit dem Film zu versehen, ist die Das anfallende Produkt kann im übrigen gesiebt
anwendung der Wirbelschichttechnik, wobei über- werden, um eine besonders engbegrenzte Teilchen-
itzter Dampf als: die bewegende Phase eingesetzt größe abzutrennen. Die feineren Teilchen und die
vird. ·":■.':-.:..·,-'■'■■■■ ίο übergroßen Teilchen, letztere nach einem Mahlprozeß,
Die.„Masse der wasserfreien Alkalisilikatteilchen werden in die Apparatur zurückgeführt,
vird nahe, vorzugsweise oberhalb des Siedepunktes Je nach den Herstellungsbedingungen können die
er gesättigten Alkalisilikatlösung, die zur Anwendung anfallenden Alkalisilikate, insbesondere das Natrium-
elangt, erhitzt. Es hat sich gezeigt, daß unter diesen metasilikat, einen geringen Wassergehalt enthalten,
iedingungen beim Besprühen mit der Natriummeta- 15 Dieser hegt jedoch erheblich unter dem H2O-Anteil
ilikatlösung die Festteilchen nicht zusammenkleben, von Alkalisilikathydraten. Diese Produkte werden in
andern im frei fließenden Zustand verbleiben. Daher dem Begriff der weitgehend wasserfreien Alkalisilikate
)esteht eine bevorzugte Arbeitsweise darin, stets nur eingeschlossen.
0 viel Natriummetasilikat aufzusprühen, daß die Man erhält auf diese Weise in einem kontinuier-
"emperatur der Teilchenmasse nicht unterhalb des 20 liehen Prozeß weitgehend wasserfreie Alkalisilikate
Siedepunktes der Lösung absinkt, die in Kontakt mit in staubfreier Form, welche keine Verunreinigungen
em kristallisierten Alkalisilikat kommt. enthalten und gleichmäßige, im gewünschten Bereich
Während des Trocknungsprozesses, vorzugsweise liegende Teilchengrößen aufweisen. Die Produkte
lit überhitztem Wasserdampf, bleiben die Teilchen besitzen außerdem eine gute Löslichkeit.
omit oberhalb des Siedepunktes der aufgesprühten 35 In den nachfolgenden Beispielen wird die Her-
.ösung, bis die Hauptmenge des Wassers verdampft ist. stellung von weitgehend wasserfreien Alkalisilikaten
/ie gefunden wurde, wird ein frei fließender Zustand nach dem erfindungsgemäßen Verfahren nochmals im
ann erhalten, wenn die Temperatur des feinverteilten einzelnen an Hand der Herstellung von Natrium-
Jkalisilikats in dem Behälter oberhalb 1300C liegt metasilikat beschrieben. Dieses Produkt ist von
nd unterhalb des Schmelzpunktes des wasserfreien 30 besonderem technischem Interesse, und seine Her-
iilikats. : .; .. ■ stellung stellt daher die bevorzugte Ausführungsform
Durch zusätzliches Erhitzen kann jedoch die Ver- der Erfindung dar. In ähnlicher Weise können jedoch
ampfung des Wassers beschleunigt bzw. vervoll- auch insbesondere Kaliummetasilikat sowie weiterhin
tändigt werden, bevor zusätzliche Lösung hinzur andere wasserfreie Alkalisilikate in staubfreier Form
egeben wird, um einen neuen Überzug zu bilden. 35 der gewünschten Jeilchengröße und guter Löslichkeit
^ie Konzentration der aufzusprühenden Alkalisilikat- und frei von Verunreinigungen erhalten werden. Die in
isung kann in erheblichem Umfang schwanken. den Beispielen angegebenen Teile und Prozente sind
evorzugt werden solche Alkalisilikatlösungen, ins- Gewichtsteile und Gewichtsprozente, die Temperatur
ssondere Natriummetasilikatlösungen, verwendet, ist Raumtemperatur, sofern nichts anderes angegeben
sren Dichte zwischen 30 und 55 Baume liegt. Die 40 ist. Die Teilchengröße wurde mit Tyler-Standard-
äßrige Natriummetasilikatlösung wird in genügender Sieben bestimmt und in mm umgerechnet.
ienge und für einen genügend langen Zeitraum ■
urch Aufsprühen in Kontakt mit dem erhitzten
asserfreien kristallisierten Natriummetasilikat ge- : Beispiel 1
rächt, um einen großen Teil der Oberfläche mit einem 45 ,
ilm der Lösung zu überziehen. Die Wärme wird mit Wasserfreies kristallines Natriummetasilikat gemäß
lilfe von erhitzten Gasen zugeführt. Dabei werden der Erfindung kann betriebsmäßig in einer Anlage
orzugsweise solche Gase verwendet, die frei von - hergestellt werden, wie sie in F i g. 1 dargestellt ist.
Lohlendioxyd oder anderen sauren Komponenten Der Tank A enthielt eine Natriumsilikatlösung mit
ind. Vorzugsweise wird überhitzter Wasserdampf 50 einem Molverhältnis" SiO2: Na2O wie 3,22:1 und
!s wärmezuführendes Gas angewendet. Es ist zweck- einem Na2O-Gehalt von 8,6 Gewichtsprozent. Der
läßig, dieses im Kreislauf zuzuführen, da nur ein Tank B enthielt 50%ige Natriumhydroxydlösung.
eil des Wasserdampfes in jedem Kreislauf entfernt Diese wurde mit Wasserdampf auf 700C erhitzt und
ird. ' mit der oben beschriebenen Wasserglaslösung im
Steht nur ein Gas zur Verfügung, welches einen 55 Tank C gemischt. Man erhielt eine Natriumsilikat-
jwissen Anteil an CO2 enthält, so ist es erforderlich, lösung mit einem Molverhältnis SiO2: Na2O wie
aß das Verfahren "bei Temperaturen oberhalb von 1,008:1 und einer Dichte von 50° Baume mit 19,75 Ge-
W0C durchgeführt wird. Unter diesen Bedingungen wichtsprozent Na2O und 18,89 Gewichtsprozent SiO2.
itt keine Reaktion zwischen dem Alkalisilikat, Diese Lösung wurde mit einer Pumpe 10 aus dem
sbesondere dem Natriummetasilikat, und "dem CO2 6° Tank C gepumpt und durch neun Rohre Vl bis V9
n. Vorzugsweise wird im Gegenstrom das wärme- an neun Stellen in den Trockner D eingesprüht. Der
hrende Gas eingeleitet. rotierende Trockner D hat einen Durchmesser von
Die Wände der Apparatur in den Zonen, wo die etwa 1 in sowie eine Länge von etwa 12 m und ist mit
isprühung bzw. die Trocknung erfolgt, sind üblicher- einer Schräge von etwa 3 cm/m aufgestellt. Die
;ise auf einer geringeren Temperatur als der erhitzte 65 Umlaufgeschwindigkeit betrug 7 Umdr./Min.
asstrom, welcher zur Entwässerung benutzt wird, Die Größen der Düsenöffnungen und die Lage der
id bleiben daher frei von Ablagerungen, Überzügen Düsen, gemessen von dem Beschickungsende des
id Belägen. Trockners, waren wie folgt verteilt:
Düsen nummer |
Entfernung in m | Durchmesser der Düsenöffnung in mm |
1 | 0,75 | 0,75 |
2 | 4 - | 1 |
3 | 5,5 | 1 |
4 | 7 | 1 |
5 | 7,75 | 1,1 |
6 | 8,5 | 1,1 |
7 | 9,25 | 1,6 |
8 | 10 | 1,6 |
9 | 10,75 | 2 |
Das feinverteilte feste Natriummetasilikat wurde durch die. Vorrichtung 11 dem Trockner zugeführt.
Das Ausgangsprodukt hatte ein Molverhältnis von 1,023 Na2O : 1 SiO2 entsprechend einem Gewichtsverhältnis von 50,89 Na20:48,06 SiO2. Die Siebanalyse
ergab folgende Zusammensetzung:
über 2mm 0% ·
über 0,23 bis 2mm :v 23%
unter 0,23 mm 77%
unter 0,149 mm 38,9%
Der Umlauftrockner enthielt etwa 2725 kg feinverteiltes
Natriummetasilikat. Etwa 136 kg feinverteiltes wasserfreies Natriummetasilikatv wurde pro Stunde
zurückgeführt und nochmals die gleiche Feststoff menge in Form von etwa 993 kg Natriummetasilikatlösung
eingesprüht.
In der F i g. 2 ist ein Querschnitt des rotierenden Trommeltrockners D dargestellt. Die Linie 20 zeigt
die Höhe des ursprünglich eingesetzten feinverteilten Natriummetasilikates. Die einzelnen Teilchen werden
von den Metallplatten 18, deren Höhe etwa 7,6 cm beträgt, emporgehoben. Das Produkt fällt dann durch
die erhitzten Gase, die durch die Mitte des Trockners geführt werden. Die Metasilikatlösung wird an
bestimmten Punkten des Trockners in Form eines Sprühregens hinzugegeben. Bevorzugt sind die Stellen,
wo die größte Bewegung des Festmaterials erfolgt. Die Linie 19 zeigt die Tiefe der Festteilchen am Ende des
Trockners, .
Der als Wärmeübertragungsgas verwendete überhitzte Wasserdampf wurde im Erhitzer E auf 325° C
erwärmt und im Trockner D mittels eines Ventilators 12 mit einer Geschwindigkeit von etwa 150 ms/Min.
hindurchgesaugt. Das den Trockner verlassende Gas hatte eine Temperatur von etwa 150° C. Die Temperatur
der den Trockner verlassenden, weitgehend wasserfreien kristallinen Natriummetasilikatteilchen betrug
etwa 200°C. ■
Die Austrittsgase wurden dann durch einen Trockenentstauber F geschickt. Den Staub und die feinen
Teilchen, welche dort angesammelt wurden, führte man durch das Zuleitungsrohr 15 in die Beschickungseinrichtung
11 und von dort in den rotierenden Trockner D zurück. Die heißen Gase vom Entstauber
F wurden in zwei Ströme geteilt. Ein Teil wurde durch den Feuchtigkeitsabscheider G geleitet, wo der .größte
Teil des Dampfes kondensiert wird und die nicht kondensierbaren Gase in die Atmosphäre durch das
Ventil 17 abgeführt wurden. Es ist ein besonderer Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens, daß der
kondensierte Dampf alles feine Alkali mit sich niederschlägt und nur staubfreies, nicht kondensierbares
Gas durch das Ventil 17 abgeblasen wird. Der Hauptteil der heißen Gase wird in dem Erhitzer E wieder
erwärmt, bevor er in den Trockner D zurückgeführt
wird.
Durch die Förderschnecke 13 wird das Natriümmetasilikat aus dem Trockner D auf ein schräges
Sieb 14 transportiert. Der Behälter 15 sammelt die sehr feinen Anteile, der Behälter 16 dient der Aufnahme
des Natriummetasilikats in der erwünschten Teilchengröße. Der Behälter 17 nimmt schließlich die
übergroßen Teilchen des Produktes auf. Material von
ίο Behälter 15 kann zum Vorratsbehälter 11 zurückgeführt
werden. Material von Behälter 17 kann gemahlen und ebenfalls in dem Prozeß zurückgeführt werden.
' .. .
Das kristalline wasserfreie Natriummetasilikat, welches
nach der oben beschriebenen kontinuierlichen Arbeitsweise über einen längeren Zeitraum erhalten
wurde, hatte eine Zusammensetzung von 50,42 Gewichtsprozent Na2O und 48,11 Gewichtsprozent SiO2
bei einem Molverhältnis von 1,0 Na20:1,0 SiO2. Di&
Siebanalyse ergab folgende Werte:
über 2 mm 41,1%
von 0,23 bis 2 mm 58,9%
unter 0,23 mm 0%
Bei der beschriebenen Arbeitsweise wird mit einer Temperatur von etwa 200 bis 2500C gearbeitet. Man
kann jedoch auch mittels üblicher Methoden, wie z. B. in einem rotierenden Kühler, der vor die Förderschnecke
13 geschaltet ist, oder indem man eine weitere Besprühung mit Metasilikat kurz vor dem
Ausfahren vornimmt, das Endprodukt abkühlen. Das Kühlen erlaubt, die Produktionsgeschwindigkeit von
Natriummetasilikat zu erhöhen. . -
Bei der nachstehend beschriebenen Arbeitsweise wurde die im Beispiel 1 beschriebene Apparatur, soweit
keine Änderungen im einzelnen angegeben sind, verwendet. Der Tank C enthielt eine Natriummetasilikatlösung
mit einem Molverhältnis 1,07 Na2O: ISiO2
und einer Dichte von etwa 55° Baume, gemessen bei 21° C. Als festes Ausgangsmaterial wurde Natriummetasilikat
mit einer Teilchengröße von 0,84 bis 2 mm, wie sie nach der Arbeitsweise des Beispiels 1 unter
anderem angefallen war, verwendet. Der Umlauftrockner enthielt etwa 2800 kg Festsubstanz. Die
Besprühung erfolgte lediglich durch die Düsen 1, 2, 6, 8 und 9, während die übrigen Düsen stillgelegt
waren. Die Düse 2 hatte lediglich einen reduzierten Düsendurchmesser von 0,75 mm. Der Trockner rotierte
mit 11,5 Umdr./Min. Die Sprühdüsen waren zentral in der Achse des Trockners angeordnet und sprühten
die Lösung auf die herunterfallenden feinen Teilchen
in der sogenannten 3- und 4-Uhr-Position. Die Rohre, welche zu den Düsen führten, sowie auch die Düsen
selbst wurden durch Wasser, welches in konzentrischen Rohren floß, gekühlt. Der Düse 1 wurde praktisch
nur so viel Metasilikatlösung zugeführt, daß der Staub niedergehalten wurde. Bei der Düse 2 hatten
die Festteilchen eine Temperatur von etwa 135 bis 15O0C erreicht, so daß das überschüssige Wasser
verdampfte, ehe ein neuer Film gebildet wurde. Letzteres wiederholte sich von Sprühstation zu Sprühstation.
Die Höhe des Feststoffes betrug bei der Einführung etwa 12 cm und am Ende 27 cm. Die
Temperatur des eintretenden Gases lag zwischen 365 und 380° C und war bei Austritt aus dem Drehrohrofen
auf etwa 145° C abgesunken. Das Produkt
7 8
; bei seinem Austritt aus dem Ofen eine Tempera- 80 % Wasser, der Rest war Luft. Der Durchsatz an
• on ungefähr 195° C, der Durchsatz betrug pro heißen Gasen betrug etwa 141 m3/Min. Das anfallende
de etwa 400 kg. Das wasserfreie Natriummeta- Natriummetasilikat hatte ein Molverhältnis von
tt wurde mit einer Geschwindigkeit von etwa 190 kg 1,05 Na20:1 SiO2. Die Siebanalyse ergab folgende
stunde eingeführt und die Alkalisilikatlösung mit 5 Zusammensetzung:
Rate von etwa 135% des trockenen Produktes ^v^ 2 mm 40 5°/
e Lösung vor dem Sprühen hatte eine Temperatur über °>84 bis2mm 5^1 °t°
350C, der Dampf, welcher zur Erhitzung und zum üt)er 0,3 bis 0,84 mm 1,5%
ragen des Wassers eingesetzt wurde, enthielt etwa io unter 0,3 Spuren
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (7)
1. Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung 5 man versucht, aus Lösungen von Natriummetasilikat
von weitgehend wasserfreien kristallinen Alkali- durch Verdampfen ein kristallisiertes Produkt zu
Silikaten, dadurch gekennzeichnet, erhalten. Die WärmeaustauscHerflächen werden nämdaß
man auf feinverteiltem festem Alkalisilikat, lieh nach kurzer Zeit mit einem harten Überzug von
welches auf eine Temperatur von über 130° C wasserfreiem Natriummeiasilikat überzogen, welches
erhitzt ist und dauernd in Bewegung gehalten wird, io eine ökonomische Wärmeübertragung verhindert.
. durch Aufsprühen einer wäßrigen Alkalisilikat- Ebenfalls treten, infolge der erforderlichen hohen
lösung einen Film erzeugt und durch einen zusatz- Temperatureri gewisse Schwierigkeiten auf, wenn man
liehen heißen Gasstrom die Verdampfung des durch Versprühen von Natriummetasilikatlösung
. Wassers bewirkt, wobei- der Überzugs- und wasserfreie Produkte herstellen will. Insbesondere
Trocknungsschritt so lange wiederholt wird, bis 15 enthalten die sprühgetrockneten Produkte erhebliche
die Größe der kristallinen wasserfreien Alkali- Mengen Staub.
Silikatteilchen in gewünschtem Maße angestiegen Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde,
ist. weitgehend wasserfreie kristallisierte Alkalisilikate,
2. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch ge- insbesondere Alkalimetasilikate, unter Vermeidung
kennzeichnet, daß man auf feinverteiltes Alkali- 20 der oben aufgezeigten Nachteile herzustellen. Das
metasilikat, vorzugsweise Natriummetasilikat, neue Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von
durch Aufsprühen einer wäßrigen Alkalimetasilikat- weitgehend wasserfreien kristallinen Alkalisilikaten
lösung einen Film erzeugt. ist dadurch gekennzeichnet, daß man auf feinverteiltem
3. Verfahren gemäß Anspruch 1 und 2, dadurch festem Alkalisilikat, welches auf eine Temperatur von
gekennzeichnet, daß man das feinverteilte Alkali- 35 über 130° G erhitzt ist und dauernd in Bewegung
metasilikat auf eine Temperatur oberhalb des gehalten wird, durch Aufsprühen einer wäßrigen
Siedepunktes der gesättigten Alkalimetasilikat- Alkalimetasilikatlösung einen Film erzeugt und durch
lösung erhitzt. einen zusätzlichen heißen Gasstrom die Verdampfung
4. Verfahren gemäß Anspruch 1 bis 3, dadurch des Wassers bewirkt, wobei der Überzugs- und
gekennzeichnet, daß man eine. Alkalimetasilikat- 30 Trocknungsschritt so lange wiederholt wird, bis die
lösung mit einer Dichte von 30 bis 55 Baume Größe der kristallinen wasserfreien Alkalisilikatteilaufsprüht.
chen in gewünschtem Maße angestiegen ist.
5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch Eine vorzugsweise Ausführungsform besteht darin,
gekennzeichnet, daß man den heißen Gasstrom weitgehend wasserfreie kristalline Alkalimetasilikate
vorzugsweise in Form von überhitztem Wasser- 35 herzustellen, indem man unter Anwendung der oben
dampf im Gegenstrom zu dem Feststoff führt. beschriebenen Arbeitsweise auf feinverteiltem Alkali-
6. Verfahren gemäß Anspruch 1 bis 4, dadurch metasilikat, vorzugsweise Natriummetasilikat, durch
gekennzeichnet, daß man für die Erhitzung und Aufsprühen einer wäßrigen Alkalisilikatlösung einen
Trocknung ein Verbrennungsgas mit einer Tem- Film erzeugt.
peratur oberhalb 200° C, welches vorzugsweise im 40 Das als Ausgangsmaterial verwendete wasserfreie
Gegenstrom geführt wird, verwendet. Alkalisilikat, vorzugsweise Natriummetasilikat, kann
7. Verfahren gemäß Anspruch 1 bis 5, dadurch durch eine der bekannten Schmelz- oder Sinterungsgekennzeichnet,
daß man einen Teil des anfallenden methoden erhalten werden. Es kann auch aus solchem,
weitgehend wasserfreien Alkalisilikats dem konti- Material bestehen, welches bei diesen bekannten
nuierlichen Prozeß als Ausgangskomponente wieder 45 Prozessen als zu feines oder zu grobes Material
zuführt. . anfällt. Man kann jedoch vorzugsweise auch einen
Teil des nach dem neuen Verfahren hergestellten Alkalisilikats, vorzugsweise Natriummetasilikats, wie-
- derverwenden. .
50 Das als Ausgangsmaterial verwendete wasserfreie Alkalisilikat kann bezüglich der Teilchengröße in
erheblichem Umfange schwanken. Es ist allerdings zweckmäßig, solches Material zu verwenden, dessen
Die Erfindung betrifft ein kontinuierliches Verfahren Teilchen kleiner sind als das erwünschte Produkt,
zur Herstellung von weitgehend wasserfreien kristalli- 55 Bevorzugte Teilchengröße ist etwa 0,3 mm und
nen Alkalisilikaten, welche staubfrei anfallen und keine kleiner.
Verunreinigungen enthalten sowie in möglichst gleich- Die Durchführung des Verfahrens ist an keine
mäßiger Teilchengröße erhalten werden können. bestimmte Apparatur gebunden, vorzugsweise wird
Vorzugsweise betrifft das Verfahren die Herstellung von ein rotierender Zylinder verwendet, da dieser eine
weitgehend wasserfreiem kristallinem Natriummeta- Ho leicht verfügbare Apparatur darstellt. Die Größe des
silikat, welches unter anderem in technischen Reini- Trockners, vorzugsweise in Form eines Drehrohrofens,
gungsmitteln in größerem Umfang verwendet wird. hängt von dem gewünschten Durchsatz und der
Das handelsübliche wasserfreie Natriummetasilikat verfügbaren Trocknungskapazität ab. Es ist ein
wird durch Zusammenschmelzen oder Zusammen- Kennzeichen des Verfahrens, daß die Hauptmenge des
sintern von Soda und Sand hergestellt. Das in der 65 kristallisierten Alkalisilikats in einem dauernd be-Reaktionsmasse
kristallisierende Produkt enthält dann wegten Zustand gehalten wird, so daß die Oberdie
üblichen Verunreinigungen der Ausgangsmateria- flächen der kleinen Teilchen in verschiedenen Richlien
sowie gegebenenfalls auch zusätzliche Verunreini- tungen während der Erzeugung des Films bewegt
Applications Claiming Priority (2)
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DEH0057299 | 1965-09-30 | ||
DEH0057299 | 1965-09-30 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
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DE1567572A1 DE1567572A1 (de) | 1970-09-10 |
DE1567572B2 DE1567572B2 (de) | 1972-11-02 |
DE1567572C true DE1567572C (de) | 1973-05-30 |
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