DE1496764A1 - Verfahren zur selektiven AEtzung von Silizium - Google Patents

Verfahren zur selektiven AEtzung von Silizium

Info

Publication number
DE1496764A1
DE1496764A1 DE19661496764 DE1496764A DE1496764A1 DE 1496764 A1 DE1496764 A1 DE 1496764A1 DE 19661496764 DE19661496764 DE 19661496764 DE 1496764 A DE1496764 A DE 1496764A DE 1496764 A1 DE1496764 A1 DE 1496764A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
silicon
organic liquid
electrolyte
bromine
dissolution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19661496764
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Kover Jean Francois
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alcatel Lucent SAS
Original Assignee
Compagnie Generale dElectricite SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Compagnie Generale dElectricite SA filed Critical Compagnie Generale dElectricite SA
Publication of DE1496764A1 publication Critical patent/DE1496764A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F1/00Electrolytic cleaning, degreasing, pickling or descaling
    • C25F1/02Pickling; Descaling
    • C25F1/12Pickling; Descaling in melts
    • C25F1/14Iron or steel
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P50/00Etching of wafers, substrates or parts of devices
    • H10P50/60Wet etching
    • H10P50/61Electrolytic etching
    • H10P50/613Electrolytic etching of Group IV materials

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
  • Weting (AREA)
DE19661496764 1965-05-07 1966-05-04 Verfahren zur selektiven AEtzung von Silizium Pending DE1496764A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR16295A FR1442535A (fr) 1965-05-07 1965-05-07 Procédé d'attaque sélective du silicium

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1496764A1 true DE1496764A1 (de) 1969-04-10

Family

ID=8578284

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19661496764 Pending DE1496764A1 (de) 1965-05-07 1966-05-04 Verfahren zur selektiven AEtzung von Silizium

Country Status (7)

Country Link
BE (1) BE679812A (https=)
CH (1) CH450856A (https=)
DE (1) DE1496764A1 (https=)
FR (1) FR1442535A (https=)
GB (1) GB1145876A (https=)
LU (1) LU50965A1 (https=)
NL (1) NL6605960A (https=)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9184364B2 (en) 2005-03-02 2015-11-10 Rosemount Inc. Pipeline thermoelectric generator assembly
CN100595894C (zh) * 2005-10-28 2010-03-24 关东化学株式会社 钯选择性蚀刻液以及控制蚀刻的选择性的方法
RU2308786C1 (ru) * 2006-05-26 2007-10-20 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Брянская государственная инженерно-технологическая академия" Раствор для электрохимического растворения кремния

Also Published As

Publication number Publication date
LU50965A1 (https=) 1966-10-25
FR1442535A (fr) 1966-06-17
CH450856A (fr) 1968-04-30
BE679812A (https=) 1966-10-21
GB1145876A (en) 1969-03-19
NL6605960A (https=) 1966-11-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AT271127B (de) Verfahren und Bad zur Herstellung eines Iridiumüberzuges
DE69534293T2 (de) Flüssige, hydrophobe Salze, ihre Herstellung und ihre Verwendung in der Elektrochemie
DE1255640B (de) Zelle zur elektrolytischen Reduktion oder Oxydation von fluessigen Stoffen mit geringer elektrischer Leitfaehigkeit
DE2259829B2 (de) Verfahren zur anodischen Bildung einer Oxidschicht auf mindestens 5% Gallium enthaltenden Verbindungshalbleitern, insbesondere GaP.GaAs, AIGaP, InGaP und InGaAs in einem wässrigen Elektrolyten
WO2000044042A1 (de) Verfahren zum galvanischen bilden von leiterstrukturen aus hochreinem kupfer bei der herstellung von integrierten schaltungen
JPS63243298A (ja) 有機薄膜の製造方法
DE1496764A1 (de) Verfahren zur selektiven AEtzung von Silizium
DE2114119A1 (de) Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Ruthenium und Elektrolysebad zur Durchfuehrung dieses Verfahrens
DE1168646B (de) Verfahren zur Herstellung von sehr reinem Indium
DE68908944T2 (de) Plattierungsbad für die Elektroplattierung von Aluminium und Plattierungsverfahren, das dieses Bad verwendet.
DE925330C (de) Verfahren zum elektrolytischen AEtzen von Tantal
DE3852818T2 (de) Ferrocenderivate, oberflächenaktive mittel, die diese enthalten und verfahren zur herstellung dünner organischer filme.
DE1954784A1 (de) Verfahren zur Gewinnung von reinen Metallsalzen aus verunreinigten Katalysatoren der Platinmetallgruppe
DE733728C (de) Verfahren zum Regeln des Kontrastes des Farbstoffbildes in Silberfarbbleichverfahren
DE3318001A1 (de) Verfahren zum stromlosen abscheiden von platin auf silicium
DE1915084A1 (de) Verbesserte Photoharze fuer die Halbleiterfertigung
DE1447024C3 (de) Verfahren zur Herstellung eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials und dessen Verwendung
DE2054391A1 (de) Zinnoxid Atzverfahren
DE69109416T2 (de) Verminderung oder Beseitigung der von der Wasserstoff-Ausgabe verursachten Filmsmangeln während der kathodischen Elektrotauchlackierung.
DE2239145A1 (de) Verfahren zur behandlung von halbleitermaterialien aus iii-v-verbindungen
EP0911428B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Wismutverbindungen
DE2725523A1 (de) Stabilisiertes 1,1,1-trichloraethan, verfahren zu seiner herstellung und seine verwendung
DE60121337T2 (de) Verfahren zur verbesserung einer elektrode
DE30294C (de) Umsetzung von Licht in Elektrizität
DE2802260C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines tetrasubstituierten Thiuramdisulfids