DE1219954B - Verfahren zur Herstellung abloesbarer, aetzbestaendiger Filme auf einer metallischen Fotogravur-Druckplatte - Google Patents
Verfahren zur Herstellung abloesbarer, aetzbestaendiger Filme auf einer metallischen Fotogravur-DruckplatteInfo
- Publication number
- DE1219954B DE1219954B DED46284A DED0046284A DE1219954B DE 1219954 B DE1219954 B DE 1219954B DE D46284 A DED46284 A DE D46284A DE D0046284 A DED0046284 A DE D0046284A DE 1219954 B DE1219954 B DE 1219954B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- plate
- minutes
- temperature treatment
- coated
- solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
- B41N3/038—Treatment with a chromium compound, a silicon compound, a phophorus compound or a compound of a metal of group IVB; Hydrophilic coatings obtained by hydrolysis of organometallic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G13/00—Electrographic processes using a charge pattern
- G03G13/26—Electrographic processes using a charge pattern for the production of printing plates for non-xerographic printing processes
- G03G13/32—Relief printing plates
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/142—Inert intermediate layers
- G03G5/144—Inert intermediate layers comprising inorganic material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
Int. CL:
B41n
Deutsche Kl.. 151-2/01
Nummer: 1219954
Aktenzeichen: D 46284 VI b/151
Anmeldetag: 18. Januar 1965
Auslegetag: 30. Juni 1966
Die Erfindung fällt in das Gebiet der elektrofotografischen Reproduktionstechnik und betrifft insbesondere
ein Verfahren zur Herstellung eines ablösbaren, ätzungsbeständigen Oberflächenfilms auf einer
metallischen Fotogravur-Druckplatte mit einem Magnesium- oder Zinkgrundgehalt, welche mit einer
fotoleitenden Masse zu beschichten ist.
Bei der Herstellung von fotografisch gravierten Druckplatten, z. B. den sogenannten »Fiats«, die
beim Zeitungsdrucken häufig verwendet werden, werden Metallbleche mit einem Magnesiumgrundgehalt
zu Stücken der jeweils gewünschten Größe geschnitten. Die zugeschnittenen Stücke werden zunächst
gereinigt und oberflächenbehandelt, worauf sie mit einer fotoleitenden Masse beschichtet werden,
beispielsweise mit Zinkoxyd, das in einem isolierenden, vernetzbaren Bindemittelharz dispergiert
ist. Nach Trocknung der beschichteten Platte wird diese elektrisch aufgeladen und im aufgeladenen Zustand
einer Belichtung ausgesetzt, wobei ein latentes, elektrostatisches Bild entsteht. Das Bild wird hierauf
durch Kontakt mit einem Katalysator entwickelt und anschließend erhitzt auf eine Temperatur von
etwa 2450C, einer Temperatur, bei der eine Vernetzung
des Harzes in den elektrostatischen Bildzonen eintritt. Die fotoleitende Masse wird dadurch
in den elektrostatisch aufgeladenen Bildzonen beständig gegen Ätzbadeinwirkungen. Die nicht vernetzten
Teile der fotoleitenden Masse werden anschließend aus den belichteten Zonen beseitigt, wodurch
die darunterliegende Metallplatte frei wird. Die Platte trägt nunmehr ein ätzbeständiges Bild in
Form der verbliebenen, vernetzten fotoleitenden Masse und wird nunmehr geätzt, vorzugsweise nach
dem in jüngerer Zeit entwickelten pulverlosen Ätzverfahren, das auch unter der Bezeichnung Dow-Ätzverfahren
und Einstufen-Ätzverfahren bekannt ist; dabei entsteht eine fotografisch gravierte Druckplatte.
Es ist bekannt, daß es in der Regel schwierig ist, Anstrichmassen auf reine Metallflächen, etwa von
Magnesium und Zink zum Haften zu bringen. Solche Flächen werden deshalb gewöhnlich mit einem sogenannten
Chromatumwandlungsbelag versehen, dessen Zweck es ist, die Haftung zu verbessern.
Chromatumwandlungsbeläge werden gewöhnlich durch eine ziemlich lang dauernde Eintauchung in
Chromatsalz oder chromsäurehaltige Lösungen gewonnen. Bei der Herstellung von fotografisch gravierten
Druckplatten muß der Chromatbelag nicht nur die auf ihm folgende fotoleitende Masse gut
halten, sondern darüber hinaus einen dünnen ätzverfahren
zur Herstellung ablösbarer,
ätzbeständiger Finne auf einer metallischen
Fotogravur-Druckplatte
ätzbeständiger Finne auf einer metallischen
Fotogravur-Druckplatte
Anmelder:
The Dow Chemical Company,
Midland, Mich. (V. St. A.)
Vertreter:
Dipl.-Ing. F. Weickmann, _
Dr.-Ing. A. Weickmann,
Dipl.-Ing. H. Weickmann
und Dipl.-Phys. Dr. K. Fincke, Patentanwälte,
München 27, Möhlstr. 22
Als Erfinder benannt:
James Allen Brown,
John Alexander Easley,
Midland, Mich. (V. St. A.)
James Allen Brown,
John Alexander Easley,
Midland, Mich. (V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 26. Februar 1964
(347 387, 347 393)
V. St. v. Amerika vom 26. Februar 1964
(347 387, 347 393)
beständigen Film ergeben, da die fotoleitende Masse von der Ätzbadflüssigkeit während der Ätzung
durchdrungen wird. Weiter besteht die Forderung, daß der Belag in kurzer Zeit aufgetragen werden
kann und daß er in denjenigen Zonen, die kein Bild ergeben, in denen also die fotoleitende Masse nicht
gehärtet ist, leicht gelöst werden kann.
Die bisher bekannten Chromatumwandlungsbeläge, die insbesondere in der Farbanstrichtechnik angewandt
worden sind, haben sich bei der Herstellung von fotografisch gravierten Druckplatten mit Magnesium-
oder Zinkgrundgehalt nicht bewährt, insofern, als die verhältnismäßig langen Tauchzeiten unwirtschaftlich
sind und die verhältnismäßig starken Beläge nur mit Schwierigkeiten in denjenigen Zonen
gelöst werden können, in denen kein Bild entsteht, d. h. in denen keine Vernetzung der fotoleitenden
Masse eingetreten ist. Andererseits haben sich dünne Beläge bekannter Art nicht bewährt, denn sie liefern
nicht die notwendige Adhäsion, die sie beim Abtragen der nicht vernetzten Zonen der fotoleitenden
Schicht benötigen würden. Auch sind sie nicht beständig gegen die Ätzbadflüssigkeit, die durch die
609 587/301
gehärtete fotoleitende Schicht hindurchtritt. Andere Chromatlösungen greifen Magnesiumplatten während
der Behandlung an. Es besteht deshalb ein dringender Bedarf nach einem sowohl für Magnesium- als
auch für Zinkplatten geeigneten Verfahren, das in kurzer Zeit einen häffungsfördernden Chromatumwandlungsbelag
Eefert, der eine auf ihm aufliegende fotoleitende Masse festhält, gegen Ätzbäder
beständig ist und in den für die Ätzung vorgesehenen Zonen leicht gelöst werden kann.
Lösbar heißt, daß der ätzbeständige Chromatnlm
auf der Magnesium- oder Zinkplatte durch Anwendung einer sauren Lösung leicht aus den zu gravierenden
Zonen heraus gelöst werden kann, der Zonen also, die kein Bild liefern sollen und in denen keine
Vernetzung der fotoleitenden Masse eingetreten is.t.
Der Ausdruck »Platten auf Zink- oder Magnesiumbasis« will besagen, daß Magnesium und Zink
sowie deren Legierungen verwendet werden können, soweit diese überhaupt für die Herstellung von fotografisch
zu gravierenden Platten geeignet sind.
Die Reinigung der Oberflächen der Platten ist so zu verstehen, daß. -diese Oberflächen von Fett,
Schmutz, verschiedenen Oxyden und anderen Verunreinigungen befreit werden, so daß ein gleichmäßiger
Chromatfüm auf ihnen gebildet werden kann.
Wie bereits festgestellt, muß der trockene, ätzbadbeständige
Chromatfilm lösbar sein, da ja diejenigen Bereiche der Platte, die kehl Bild erzeugen sollen,
nach Beseitigung der-iotoleitenden Masse geätzt werden
müssen und deshalb der Ätzung nicht auf Grund ernes Oberflächenfihns widerstehen dürfen. Bei der
Verwendung von Platten mit einem Magnesiumgrundgehalt erfolgt die Lösung gewöhnlich durch
Wischen mit 10%-iger Salpetersäurelösung; im Falle
von Zinkplatten erfolgt die Beseitigung des Filmes zunächst durch Wischen mit einer 10°/»igen Salpetersäurelösung
und durch anschließendes Nachwischen mit einer lOtyoigen Schwefelsäurelösung.
Erfindungsgemäß wird zur Gewinnung des ätzbadbeständigen Films eine wäßrige Lösung verwendet,
"die etwa 50 bis etwa 180 g Natriumdichromat pro Liter, vorzugsweise 50 g, enthält und außerdem
Kliumchromsulfat in einer Menge von etwa 10 bis etwa 50 g pro Liter^ vorzugsweise etwa 10 g pro
Liter; es kann aber auch eine wäßrige Lösung verwendet werden, die etwa 8 bis 12 g, vorzugsweise
etwa 10 g Chromsäure pro Liter enthält und so viel Kalziumsulfat, daß die Chromsäurelösung etwa 7,5 g
Kalziumsulfat pro Liter enthält. Vorzugsweise taucht man die gereinigte Platte bei Zimmertemperatur in
eine dieser Lösungen, während diese einen pH-Wert von 1,3 bis 5,0, vorzugsweise 1,5 bis 2,65 besitzen,
und zwar für eine Tauchzeit von etwa 5 bis etwa 20 Sekunden, vorzugsweise 10 bis 15 Sekunden. Bei
diesem Vorgehen wird erne dünne Chromatschicht erhalten, die anschließend gespült und getrocknet
werden kann, z. B. durch einen Trockenluftstrom. Auf dem so erhaltenen. Film· kann dann eine Schicht
aus fotoleitender Masse gut haftend aufgetragen werden. Genaue Bestimmungen der Flächeneinheitsgewichte
des Chromatfilms sind sehr schwierig, wenn nicht unmöglich.
Wenn es auch im, wesentlichen nur darauf ankommt, die Platte vor der erfindungsgemäßen Behandlung
zu reinigen, so mag es doch zweckmäßig sein, jedenfalls bei Magnesiumplatten, diese zum
Zwecke der Entfettung mit einer Aufschlämmung von wäßriger Trinatriumphosphatlösung und wäßrigem
Bimsstein bei Zimmertemperatur zu bürsten. Eine solche Aufschlämmung gewinnt man z. B. dadurch
daß man FFFF Bimsstein zu 5G g einer Natriumphosphatlösung (Na3PO412H2O) zugibt und
so viel Wasser zusetzt, das 1 1 Aufschlämmung entsteht. Nachdem eine Platte mit einer solchen Aufschlämmung
geschrubbt ist, wird sie mit kaltem
ίο Wasser gespült und anschließend mit einem Filztuch
gewischt. Hierauf wird sie gegebenenfalls nach vorangehender Trocknung in die erfindungsgemäße
Chromatlösung eingetaucht. An Stelle des Reinigens mit Bimssteinaufschlärnmung kann auch in an sich
is bekannter Weise mit alkalischen Reinigungsmitteln
gereinigt werden.
. Anschließend an-die Chromattauchung wird die Platte mit kaltem Wasser von annähernd 2O0C ger
spült und hierauf getrocknet, zweckmäßig in einem Zwangslüftstrom. Hierauf wird die Platte auf eine
,. Temperatur zwischen 150 und 275° C erhitzt, und
zwar etwa 1 bis 10 Minuten -lang. Dabei wird der Chromatnlm getrocknet und gehärtet. Besonders bewährt
hat sich eine Behandlungstemperatur von 265° C und eine Behandlungszeit von etwa 6 Minuten.
In der Praxis wird' diese Hochtemperaturbeh'andlung ausgeführt nachdem die fotoleitende
Masse aufgetragen, elektrisch aufgeladen, belichtet und mit einem Katalysator entwickelt worden ist, da
die fotoleitende Masse zum Zwecke der Vernetzung ._. und Aushärtung ohnehin auf eine Temperatur dieser
'Λ Größenordnung erhitzt Werden muß. Bei dieser bekannten
Durchführungsweise, wird die chromätüberzogene Platte vor der Auftragung der fotoleitenden
3./ Masse einer Niedertemperaturbehandlung bei etwa
80 bis 150° C während einer Zeitspanne von etwa 1 bis etwa 15 Minuten unterworfen,, wobei der
Chromatfihn trocknet, so daß er gespeichert und mit der fotoleitenden Masse beschichtet werden kann.
Anschließend an diese Niedertemperaturtrocknung der Platte kann diese gewünschtenfahY mit kaltem
Wasser erneut gespült und wieder getrocknet werden.
Selbstverständlich kann die Platte auch nach der
Chromattauchung sofort auf eine Temperatur von 150 bis 275° C erhitzt und dann mit der fotoleitenden
Masse beschichtet werden, so daß die Niedertemperaturbehandlung entfällt. Indes muß nach
Auftragung der fotoleitenden Masse Aufladung, Belichtung und Entwicklung derselben erneut eine
Hochtemperaturbehandlung einsetzen, um das Harz zu vernetzen. Eine Hochtemperaturbehandlung bei
150 bis 275° C nach Auftragung der fotoleitenden Masse, jedoch vor deren elektrischer Aufladung, Belichtung
und Entwicklung sollte indes vermieden werden.
Die nun folgenden Beispiele erläutern die Erfindung. ".-"".
Mehrere Druckplatten (Fiats) von 22,9-30,5 cm
aus Fotogravur-Magnesiumblech wurden gereinigt und insbesondere entfettet, indem sie von Hand mit
einer rotierenden Bürste geMrstet wurden unter Verwendung einer Aufschlämmung von FFFF Bims
in einer wäßrigen 50 g Trinatriumphosphat (Na3PO4
12H2O) pro Liter enthaltenden Lösung. Die gebürsteten
Platten wurden sodann mit kaltem Wasser gespült und mit einer Filzbürste gewischt,, um etwaige
lose auf ihnen aufliegende Teilchen zu beseitigen und hierauf erneut mit kaltem Wasser gespült. Die
Platten wurden ohne vorheriges Trocknen einzeln ungefähr 15 Sekunden in verschiedene Bäder eingetaucht,
die 50 bis 180 g Natriumdichromat pro Liter und 10 bis 50 g Kaliumchromsulfat pro Liter enthielten;
die pH-Werte der Lösungen bei Zimmertemperatur gemessen waren auf Werte zwischen 1,5
und 5,0 eingestellt. Anschließend wurden die nunmehr mit einem Chromatfihn überzogenen Platten in
kaltem Wasser gespült und in einem Trockenluftstrom getrocknet, worauf sie einer Niedertemperaturbehandlung
in einem Ofen von 93° C während einer Zeitspanne von 5 Minuten ausgesetzt wurden. Nach
Abkühlung wurden die Platten erneut gewischt und in einem Zwangsluftstrom getrocknet. Die mit. einem
dünnen Chromatfilm überzogenen Platten wurden sodann mit einer fotoleitenden Zinkoxyd-Harzmasse
beschichtet; die Harzmasse wurde getrocknet und hierauf elektrostatisch aufgeladen, belichtet und entwickelt
durch Naßkontakt mit einem Katalysator. Schließlich wurden die Platten 5 Minuten lang bei
246° C einer Hochtemperaturbehandlung ausgesetzt. Nunmehr wurden diejenigen Zonen der Platte, die
kein Bild ergeben sollten, mit einem aromatischen Lösungsmittel, nämlich Solvesso 150 ®, gebürstet, um
so den unter den abbürstbaren Stellen liegenden Chromatfilmbereich freizulegen. Es zeigte sich, daß
in den für die Bilderzeugung bestimmten Zonen sich kein Material löste, sondern dort fest an den Platten
haftete. Hierauf wurden die freigelösten Zonen der Platten mit einer Säurelösung gewischt, um die Platten
für die dann folgende Ätzung vorzubereiten. Es zeigte sich, daß der Chromatfilm in den freigelegten
Zonen leicht lösbar war. Hierauf wurden die Platten dem üblichen pulverlosen Ätzprozeß unterworfen
und bis zu einer Tiefe von 0,89 mm geätzt. Die Untersuchung der Platten nach erfolgter Ätzung ergab,
daß in den zur Bilderzeugung bestimmten Zonen, die mit ausgehärtetem ZnO-Harzgemisch beschichtet
waren, kein Ätzbad eingedrungen und keine Ätzung eingetreten war. Die Platten waren für den
nun folgenden Druckvorgang voll tauglich.
45
Ähnlich wie im Beispiel 1 wurden mehrere Druckplatten auf Magnesiumbasis entfettet, gereinigt, mit
kaltem Wasser gespült, mit einer Filzbürste gewischt und sodann erneut mit kaltem Wasser gespült. Ohne
vorangehende Trocknung wurden die Platten einzeln 10 Sekunden in ein auf Zimmertemperatur eingestelltes
Bad eingetaucht, welches 8 bis 12 g Chromsäure und 7,5 g Kalziumsulfat pro Liter enthielt. Die
Lösung war auf einen pH-Wert von 1,3 bis 1,7 eingestellt. Hierauf wurden die mit Chromatfihn überzogenen
Platten wie in Beispiel 1 weiter behandelt. Anschließend wurden die Platten der üblichen
pulverlosen Ätzung unterworfen und auf eine Tiefe von 0,889 mm geätzt. Untersuchung der Platten ergab
wieder, daß die Ätzbadfiüssigkeit nicht in diejenigen Zonen vorgedrungen war, die zur Bilderzeugung
bestimmt und mit der ZnO-Harzmasse sowie dem Chromatfilm beschichtet waren. Die Platten
waren für den Druckvorgang voll tauglich.
Vergleichsbeispiele
Das Verfahren von Beispiel 1 wurde unter Verwendung einer entsprechenden Zahl gleich großer
und gleich gearteter Platten wiederholt. Die Platten wurden aber diesmal nicht mit Chromatfihn überzogen.
Beim Abtragen der belichteten Zonen der fotoleitenden Schicht, d. h. derjenigen Zonen, die
nicht zur Bilderzeugung bestimmt waren, wurden auch erhebliche Teile der Masse aus denjenigen
Zonen mit abgewaschen, die für die Bilderzeugung bestimmt waren. Nach erfolgtem Ätzen wiederum
unter Anwendung des pulverlosen Ätzverfahrens drang das Ätzbad in die Schicht aus Zinkoxyd und
Harz ein und griff das Metall an, so daß viel von dem Metall fortgeätzt wurde. Die Platten waren folglich
untauglich.
Zur weiteren Erläuterung des Bedarfs und der Bedeutung der erfindungsgemäßen Behandlung wurden
mehrere Magnesiumplatten zunächst durch Bürsten mit Trinatriumphosphat-Bimssteinaufschlämmung
gereinigt und hierauf in eine 2,5 g Chromsäure pro Liter enthaltende Lösung von Zimmertemperatur
10 bis 60 Sekunden eingetaucht. Die getauchten Platten wurden hierauf mit kaltem Wasser gespült,
im Ofen getrocknet und einer Temperatur von annähernd 246° C ausgesetzt. Hierauf wurden die
Platten in ein Ätzbad gegeben und es zeigte sich, daß die zur Bilderzeugung bestimmten Zonen nur
sehr schlecht geschützt waren und von dem Ätzbad angegriffen wurden.
In ähnlicher Weise wurden mehrere Magnesiumplatten nach vorheriger Reinigung mit Bimsstein
1 Minute in eine Chromatlösung getaucht, wie sie zur chemischen Vorbehandlung für Farbauftragung
bekannt ist. Die Chromatlösung enthielt 180 g Natriumbichromat pro Liter und 180 ml 7Ofl/oiger Salpetersäure
pro Liter, im übrigen soviel Wasser, daß die Gesamtmenge 11 betrug. Die Platten wurden
hierauf in kaltem Wasser gespült und getrocknet. Einige Platten wurden erhitzt, andere nicht. Es
zeigte sich, daß es sehr schwierig war in denjenigen Zonen, die nicht zur Bilderzeugung bestimmt sind,
den Chromatfihn zu beseitigen.
Claims (7)
1. Verfahren zur Herstellung eines ablösbaren, ätzungsbeständigen Oberflächenfilms auf einer
metallischen Fotogravur-Druckplatte mit einem Magnesium- oder Zinkgrundgehalt, welche mit
einer fotoleitenden Masse zu beschichten ist, dadurch gekennzeichnet, daß die mit
dem Film zu überziehenden Flächen zunächst gereinigt werden, daß die Platte hierauf für 5 bis
20 Sekunden in eine wäßrige Chromatlösung mit einem pH-Wert von etwa 1,3 bis 5,0 und mit
einem Gehalt von etwa 50 bis etwa 180 g Natriumdichromat pro Liter Lösung oder einem
Gehalt von etwa 8 bis etwa 12 g Chromsäure pro Liter Lösung eingetaucht und anschließend
einer Hochtemperaturbehandlung bei etwa 150° C bis etwa 275° C unterworfen wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Hochtemperaturbehandlung
durchgeführt wird, nachdem die Platte mit der fotoleitenden Masse beschichtet, getrocknet,
elektrisch aufgeladen, belichtet und durch Kontakt mit einem Vernetzungskatalysator entwickelt
worden ist.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die mit dem Chromatfilm
überzogene Platte gespült und vor der Beschichtung mit der fotoleitenden Masse einer 1 bis
15 Minuten, vorzugsweise etwa 5 Minuten währenden Niedertemperaturbehandlung bei einer
Temperatur von etwa 80 bis etwa 150° C ausgesetzt wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, ,daß die Reinigung
der mit dem Chromatfilm zu überziehenden
Flächen mit einer Reinigungskomposiiton durchgeführt wird, welche pulverisierten Bims aufgeschlämmt in einer wäßrigen Lösung von Trinatriumphosphat
enthält.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Reinigung
mit einem alkalischen Reinigungsmittel erfolgt.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß im Falle der
Verwendung einer wäßrigen Chromatlösung, diese auf einen pH-Wert von ungefähr 2,65 eingestellt
wird, die Platte etwa 15 Sekunden bei Zimmertemperatur getaucht wird, die Niedertemperaturbehandluhg
bei etwa 93 bis etwa 107° C etwa 5 Minuten lang und die Hocl· temperaturbehandlung bei etwa 265° C etwa
6 Minuten lang durchgeführt werden.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß im Falle der
Verwendung einer wäßrigen Chromatlösung, deren pH-Wert auf etwa 1,5 eingestellt, die
Platte bei Zimmertemperatur etwa 10 Sekunden getaucht, die Niedertemperaturbehandlung bei
etwa 93 bis etwa 107° C etwa 5 Minuten lang und die Hochtemperaturbehandlüng bei etwa
265° C etwa 6 Minuten lang durchgeführt werden.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US34739364A | 1964-02-26 | 1964-02-26 | |
US34738764A | 1964-02-26 | 1964-02-26 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1219954B true DE1219954B (de) | 1966-06-30 |
Family
ID=26995251
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DED46284A Pending DE1219954B (de) | 1964-02-26 | 1965-01-18 | Verfahren zur Herstellung abloesbarer, aetzbestaendiger Filme auf einer metallischen Fotogravur-Druckplatte |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1219954B (de) |
FR (1) | FR1431175A (de) |
GB (1) | GB1072865A (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2137723A1 (de) * | 1971-05-13 | 1972-12-29 | Grace W R Ltd | |
FR2323169A1 (fr) * | 1975-09-08 | 1977-04-01 | Nippon Paint Co Ltd | Plaque d'impression en photopolymere, pour gravure en creux |
-
1965
- 1965-01-18 DE DED46284A patent/DE1219954B/de active Pending
- 1965-01-28 GB GB376565A patent/GB1072865A/en not_active Expired
- 1965-02-25 FR FR7045A patent/FR1431175A/fr not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2137723A1 (de) * | 1971-05-13 | 1972-12-29 | Grace W R Ltd | |
FR2323169A1 (fr) * | 1975-09-08 | 1977-04-01 | Nippon Paint Co Ltd | Plaque d'impression en photopolymere, pour gravure en creux |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR1431175A (fr) | 1966-03-11 |
GB1072865A (en) | 1967-06-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2413669C3 (de) | Verbundfolie, ihre Verwendung und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE1243700B (de) | Vorsensibilisierte Flachdruckplatte mit einer hydrophilen Zwischenschicht und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE2157511B2 (de) | Verfahren zum erneuten Aufbringen von Überzügen aufgebrauchte, dimensionsstabile Elektroden | |
EP0048909B1 (de) | Verfahren zur anodischen Oxidation von Aluminium und dessen Verwendung als Druckplatten-Trägermaterial | |
DE1118009B (de) | Verfahren zur Herstellung einer vorsensibilisierten Flachdruckplatte | |
DE69935488T2 (de) | Herstellung eines Trägers für Flachdruckplatte | |
DE2905633C2 (de) | ||
DE2328606B2 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen vorbehandlung von aluminiumband fuer die herstellung lithografischer platten | |
EP0089509B1 (de) | Verfahren zur elektrophoretischen Aufbringung von strahlungsempfindlichen Beschichtungen auf Metallträger und die Verwendung des beschichteten Materials als Offsetdruckplatte | |
DE2917019C2 (de) | Verfahren zur Metallisierung von Verbundmaterial und dazu geeignete Badzusammensetzung | |
DE1956795A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Offsetdruckplatten aus eloxiertem Aluminium | |
DE1228118B (de) | Verfahren zur kathodischen Oberflaechen-behandlung von Eisen- und Stahlgegenstaenden | |
DE1219954B (de) | Verfahren zur Herstellung abloesbarer, aetzbestaendiger Filme auf einer metallischen Fotogravur-Druckplatte | |
DE1497130A1 (de) | Verfahren zum Auswaschen elektrophotographischer Platten | |
DE120061C (de) | ||
DE2810309A1 (de) | Verfahren zur herstellung von offsetdruckplatten | |
DE239807C (de) | ||
DE2805219A1 (de) | Verfahren zur herstellung von offsetdruckplatten | |
DE1497194C3 (de) | Verfahren zur Herstellung eines elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials | |
DE2617473A1 (de) | Durch diffusionsuebertragung bildmaessig gestaltbare lithographische platte | |
DE2934597A1 (de) | Aluminiumblech oder -platte mit fester und gleichmaessig aufgerauhter oberflaeche, insbesondere fuer die lithographie, sowie verfahren zu dessen herstellung | |
DE743162C (de) | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen | |
DE2259182A1 (de) | Verfahren zum herstellen einer matrix zur verwendung in der galvanoformung | |
DE2323824C3 (de) | Überzugssystem zur dekorativen Oberflächenveredelung | |
DE1496902C3 (de) | Verfahren zum galvanischen Abscheiden einer Kupfer/Zinn-Legierung auf Aluminium |