DE1188210B - Halbleiterbauelement - Google Patents

Halbleiterbauelement

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DE1188210B
DE1188210B DES79641A DES0079641A DE1188210B DE 1188210 B DE1188210 B DE 1188210B DE S79641 A DES79641 A DE S79641A DE S0079641 A DES0079641 A DE S0079641A DE 1188210 B DE1188210 B DE 1188210B
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semiconductor
semiconductor component
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contact pressure
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DES79641A
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Herbert Vogt
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Siemens AG
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Description

  • Halbleiterbauelement Die vorliegende Erfindung hat einen verbesserten Aufbau eines Halbleiterbauelementes zum Gegenstand.
  • Für Halbleiterbauelemente kleinster Abmessungen, insbesondere für Transistoren, war bereits der Aufbau eines das Halbleiterelement einschließenden Gehäuses aus drei aneinanderliegenden ebenen Platten bekannt, wobei sowohl die mittlere Platte als auch die beidseitig anschließenden äußeren Platten zur gemeinsamen Bildung des Hohlraumes für die Aufnahme des Halbleiterbauelementes ausgespart und miteinander vakuumdicht verbunden sind. Der Halbleiterkörper wird dabei von einem Absatz der mittleren Platte getragen; zwischen seinem Rand und der mittleren sowie mindestens einer äußeren Platte wird ein Lot benutzt und von einer oder beiden Elektrodenmaterialkörpern des am Halbleiterkörper erzeugten Emitterbereichs und des Kollektorbereichs ein elektrischer Anschlußdraht durch eine elektrisch isolierte Durchführung in den äußeren Platten herausgeführt oder an Stelle eines solchen Anschlußdrahtes ein metallisches Zwischenstück mit der entsprechenden äußeren ebenen Platte verbunden, wenn diese zugleich aus Metall besteht und als äußerer elektrischer Anschluß des Halbleiterelementes benutzt wird.
  • Ferner war ein Aufbau einer Halbleiteranordnung bekannt, unter Benutzung zweier Gehäuseteile in Form von flachen Pfannen bzw. von Tellern mit vertieften Teilen, die über ihre einander gegenüberliegenden Ränder dicht miteinander verschweißt sind; hierbei ist mindestens am Boden eines Gehäuseteiles eine isolierte Durchführung zum Herausführen eines elektrischen Anschlußleiters von dem Halbleiterkörper vorgesehen, - ferner ist der Halbleiterkörper mindestens von dem dieser Durchführung gegenüberliegenden Gehäuseteil getragen, wobei der Halbleiterkörper auf einer besonderen Trägerplatte mittels eines Legierungsprozesses befestigt ist, die ihrerseits an über den Umfang des Halbleiterkörpers heraustretenden Flächenteilen mit dem einen bzw. den beiden Gehäuseteilen, insbesondere durch eine elektrische Widerstandsverschweißung, verschweißt ist.
  • Ziel der Erfindung ist, den Gehäusekörper unmittelbar als ein wirksames Element zur Abführung der an dem Halbleiterelement betriebsmäßig anfallenden Jouleschen Wärme zu benutzen, an welchem das oder die zu kühlenden Halbleiterelemente unmittelbar zur Anlage gebracht werden können, und wobei auch die elektrisch zu isolierenden Teile unmittelbar mit diesem Gehäuseteil zusammengebaut werden können, bevor der gasdichte Abschluß dieses Gehäuses dann in einfacher und wirksamer Weise durch eine elektrische Widerstandsverschweißung zwischen Körpern vorgenommen werden kann, die für einen solchen Verschweißungsprozeß geeignet sind. Dabei ergibt sich der Vorzug, daß durch die Anwendung der Widerstandsverschweißung nur relativ kurzzeitig Wärme auf das Gehäuse übertragen wird und somit keine nachteilige Beeinflussung des Halbleiterelementes durch eine zu ihm durch Leitung während des Schweißprozesses gelangende Wärme in Verbindung mit einer entsprechenden Temperatursteigerung am Sitz des Halbleiterelementes zur Entstehung gelangen kann. .
  • Zur Lösung der vorgezeichneten Aufgabe an einem Halbleiterbauelement wird erfindungsgemäß das Halbleiterelement mittels eines Kraftspeichers über einen Kontaktdruckkörper gegen eine Stirnfläche eines als elektrischer Pol und Kühlkörper benutzten Ringkörpers aus gut wärmeleitendem, metallischen Werkstoff gepreßt, der Druckkörper über einen nachgiebigen Zwischenteil mit einem starren Anschlußbolzen verbunden, der durch einen Kanal des Ringkörpers und gasdicht durch die innere Hülse einer elektrisch isolierenden Durchführung geführt ist, die mit der metallischen äußeren Fassung mindestens an der entgegengesetzten Stirnseite des Ringkörpers gasdicht befestigt ist, und als Abschluß des Gehäuseraumes und zum Aufladen des Kraftspeichers ist ein Gehäuseteil aus einem Material vorgesehen, das unmittelbar oder über einen Zwischenkörper mit dem Ringkörperteil durch einen elektrischen Widerstandsverschweißungsprozeß verbunden werden kann.
  • Der Ringkörper kann in diesem Sinne z. B. aus Kupfer oder aus versilbertem Kupfer bestehen. Beim gasdichten Abschluß des Gehäuses wird beim Aufladen des Kraftspeichers der gegenseitige Anpreßdruck an den in dem elektrischen Stromlauf über die Elemente des Halbleiterbauelementes liegenden elektrischen Kontaktstellen erzeugt.
  • Bei der vorliegenden Anordnung kann ohne weiteres als elektrisch isolierende Durchführung eine Druckglasdurchführung benutzt werden, da diese thermisch bei dem Fertigungsprozeß der Anordnung nicht nachteilig beeinflußt werden kann.
  • Damit eine wirksame Verschweißung zwischen dem abschließenden Teil und dem anderen Gehäuseteil von in ihrer Gasdichtheit großer Güte auf einfache Weise vorgenommen werden kann, wird zweckmäßig mit dem metallischen Ringkörper bzw. Gehäuseteil, der als Kühlkörper benutzt ist, ein Zwischenkörper aus einem Werkstoff durch Hartlötung verbunden, der aus gut verschweißungsfähigem Werkstoff, also vorzugsweise aus Stahl, besteht. Dieser Zwischenkörper kann ebenfalls ein Ringkörper sein, der dann mit seiner einen Stirnseite an dem als Kühlkörper benutzten Gehäuseteil befestigt ist, und auf dessen anderer Stirnseite dann z. B. ein Körper von Plattenform oder kappenförmiger Gestalt durch elektrische Widerstandsverschweißung aufgeschweißt werden kann.
  • Bei der. Montage der Anordnung ist es zweckmäßig, an dem als Gehäusekörper benutzten Ringkörper für das Halbleiterelement oder, wenn an der Anordnung mehrere Halbleiterelemente zu einer Einheit vereinigt sind, für jedes dieser Halbleiterelemente je einen entsprechend vorbereiteten Sitz vorzusehen, damit die Montage sich auf einfache und schnelle Weise durchführen läßt.
  • Sowohl zwischen dem als Kühlkörper benutzten ringförmigen Gehäuseteil oder dem an diesem vorbereiteten Sitz als auch zwischen dem Druckkontaktkörper, der auf den anderen Pol des eingesetzten Halbleiterelementes wirkt, wird eine gegenseitige Druckkontaktanlage benutzt. Diese hat bekanntermaßen den Vorzug, daß auch bei einem abweichenden thermischen Ausdehnungskoeffizienten derjenigen Körper, die an der Druckkontaktstelle zueinander in Beziehung treten, an dieser Kontaktfläche keine thermischen Schubspannungen zur Entstehung gelangen können, die zu einer nachteiligen Beanspruchung sowohl des Halbleiterelementes als auch der elektrisch und thermischen Übergangsstellen führen können. Zur Erzeugung des gegenseitigen Anpreßdruckes zwischen den elektrischen Kontaktstellen und denjenigen Stellen, welche für einen Wärmeübergang erforderlich sind, wird ein entsprechender Kraftspeicher vorgesehen. In dem Aufbausystem zwischen dem zweiten Pol des Halbleiterelementes und derjenigen Fläche, an welcher der Kraftspeicher seine mittelbare oder unmittelbare Abstützung in dem Aufbausystem erfährt, muß naturgemäß eine elektrische Zwischenisolation vorgesehen werden. Eine solche Zwischenisolation kann beispielsweise aus Glimmer oder einem anderen geeigneten isolierenden Werkstoff bestehen.
  • Wie bereits angeführt, liegt es im Rahmen der Erfindung, nicht nur solche Einheiten zu schaffen, an welchen ein einziges Halbleiterelement vorhanden ist, sondern auch solche, bei welcher an der Einheit mehrere Halbleiterelemente gemeinsam vereinigt sind. Diese an einer solchen Einheit vereinigten Elemente können beispielsweise zusammen eine elektrische Parallelschaltung bilden. Den einen Pol der Halbleiterelemente bildet dann der ringförmige Gehäuseteil, welcher gleichzeitig als Kühlkörper und elektrischer Anschlußpol der Halbleiterelemente benutzt wird. Der andere Anschlußpol der Halbleiterelemente kann durch einen starren Bolzen gebildet werden, der durch die isolierte Durchführung der Einheit hindurchgeführt worden ist und an seinem inneren Ende mit den Druckkontaktkörpern verbunden ist, welche gegen den anderen Pol der Halbleiterelemente angepreßt werden. In dem jeweiligen Verbindungsweg zwischen diesen Druckkontaktkörpern und dem starren Anschlußbolzen muß naturgemäß jeweils ein entsprechend nachgiebiger Teil vorgesehen sein, damit keine thermischen nachteiligen Beanspruchungen zur Entstehung gelangen können.
  • Es liegt aber auch im Rahmen der Erfindung, die Halbleiterelemente nicht an ihren beiden Polen unmittelbar zu einem elektrischen Anschluß an der Einheit zusammenzufassen. So ist es vielmehr auch möglich, für jedes an der Einheit vorhandene Halbleiterelement je einen entsprechenden starren Bolzen als Anschlußleiter durch den Isolierkörper der elektrisch isolierenden Durchführung hindurchzuführen. So kann beispielsweise eine entsprechende Anzahl solcher starrer Anschlußbolzen in den Ecken auf einer Kreislinie bzw. in den Ecken eines vorzugsweise regelmäßigen Vieleckes in dem Isolierkörper angeordnet sein. Ist eine solche Mehrzahl von Halbleiterelementen an der Einheit vereinigt, so kann die Zahl der aufzuwendenden Teile auch hinsichtlich des dabei jeweils zu benutzenden Kraftspeichers und der isolierenden Zwischenplatte in dem Drucksystem vereinfacht werden, indem für alle Halbleiterelemente oder Gruppen derselben nur jeweils ein gemeinsamer Kraftspeicher und eine entsprechende isolierende Zwischenlage vorgesehen wird.
  • Zur näheren Erläuterung der Erfindung an Hand eines Ausführungsbeispiels wird nunmehr auf die Figuren der Zeichnung Bezug genommen.
  • In F i g. 1 bezeichnet 1 einen ringförmigen Gehäuseteil, der aus gut wärmeleitendem Werkstoff, wie z. B. aus Kupfer besteht und an seiner Oberfläche gegebenenfalls versilbert sein kann. Dieser Körper 1 weist an seinem oberen Teil eine Eindrehung auf, so daß sich ein Absatz 2 ergibt. Auf diesen Absatz 2 ist als elektrisch isolierende Durchführung eine Druckglasdurchführung 3 eingesetzt, die aus dem äußeren Druckring 4, dem Glaskörper 5 und dem inneren metallischen Hülsenteil 6 besteht. Der Ringkörper 1 ist unterhalb desjenigen Teiles, wo der Isolierkörper 5 liegt, mit einer Aussparung 7 versehen. Die gegenseitige Verbindung zwischen dem Gehäuseteil 1 und dem Druckring 4 kann z. B. durch Hartlötung erfolgen. Der Ringkörper 1 weist einen zentralen Kanal 8 auf. Durch diesen und durch die innere metallische, für Hartlötung geeignete Hülse 6 der elektrischen, isolierenden Durchführung 3 ist der starre Anschlußbolzen 9 hindurchgeführt. Auf der unteren Stirnfläche des Ringes 1 ist ein pfannenförmiger Körper 10, z. B. aus Silber, als Sitz für das Einsetzen des Halbleiterelementes 11 vorgesehen. Dieses Halbleiterelement kann z. B. eine Diode auf der Basis eines Halbleiterkörpers aus Silizium sein, welcher gegebenenfalls mindestens an einer seiner beiden einander gegenüberliegenden Oberflächen noch mit einer ihn versteifenden Hilfsträgerplatte, z. B. aus Molybdän, Wolfram oder Tantal durch Anlegieren bzw. Anlöten versehen worden sein kann. Das in seinen Sitz an dem Halbleiterkörper 11 eingeführte Halbleiterelement wird an diesen durch einen Druckkontaktkörper 12 gepreßt. Dieser Druckkontaktkörperweist einen Teil größerer Dicke 12 a, über welchen er sich gegen das Halbleiterelement 11 legt, und einen Teil geringerer Dicke 12 b, der dann an dem starren Anschlußbolzen 9, z. B. durch Hartlötung oder bereits durch einen gegenseitigen mechanischen Eingriff mit diesem elektrisch und mechanisch verbunden ist, auf. Aui der dem Halbleiterelement gegenüberliegenden Fläche des Teiles 12 a von 12 liegt eine Isolierscheibe 13, die z. B. aus Glimmer bestehen kann. Auf diese Glimmerscheibe ist der kreisscheibenförmige Kraftspeicher 14 aufgelegt, der nach der Darstellung eine wellige Querschnittsform haben kann. Mit dem Ringkörper 1 ist zunächst ein Zwischenkörper 15 aus gut verschweißungsfähigem Werkstoff durch Hartlötung verbunden. Mit der anderen Stirnseite dieses Körpers 15 wird die ebenfalls aus gut verschweißungsfähigem Werkstoff, also Stahl, bestehende Deckplatte 16 durch elektrische Widerstandsverschweißung verbunden, nachdem alle bereits vorher geschilderten Teile in der angegebenen Weise zusammengebaut worden sind. Die Montage der Teile erfolgt dabei vorzugsweise in einer Stellung, in welcher die in der Darstellung untere Fläche von 1 oben liegt, so daß also die verschiedenen Teile in die dann vorhandene Becherform eingesetzt werden können, soweit diese Teile sich oberhalb dieser Fläche befinden und von dieser aus mit den anderen zusammengeführt werden können.
  • In dem Ausführungsbeispiel gemäß den einander entsprechenden Rissen nach den F i g. 2 und 3 sind diejenigen Teile, welche in gleichartiger Weise bereits in F i g. 1 vorhanden waren, wieder mit den gleichen Bezugszeichen versehen worden, wobei die F i g. 3 ein Schnitt nach der Linie III-III der F i g. 2 ist.
  • Nach dieser neuen Lösung ist an Stelle des Isolierkörpers bzw. der Isolierscheibe 13 ein Keramikkörper 17 benutzt, der in F i g. 4 nochmals in Einzeldarstellung in der Ansicht von links wiedergegeben worden ist. Er ist an der Unterseite mit einem in der Durchmesserrichtung von 17 verlaufenden Kanal 18 versehen. zwischen dessen Seitenwänden die als Kraftspeicher des Systems benutzte Blattfeder 19 mit ihren Längsseiten geführt ist, die sich oben gegen den Boden dieses Kanals abstützt. Auf seiner oberen Seite ist der Keramikkörper 17 ebenfalls mit einem, und zwar mit 20 bezeichneten Kanal versehen, in welchem der Kontaktkörper 12 a von 12 liegt. Das Halbleiterelement 11 findet seinen Sitz an der oberen Seite auf einem Blechkörper 21, z. B. aus Silber, der an seiner dem Halbleiterelement zugewandten, also unteren Fläche vier rippenartige Erhebungen 22 bis 25 in solcher Lage und von solcher Form besitzt, daß sie eine Fassund für das Halbleiterelement 11 bilden. Der Blechkörper 21 weist außerdem eine bogenförmige Aussparung 26 auf, mit welcher er mit entsprechendem Isolationsabstand den starren Anschlußbolzen 9 umgreift. Mit seinen sehnenartig verlaufenden Kanten 27, 28 greift er entweder in Schlitze des Isolierkörpers 17 ein, oder er legt sich gegen Anschläge 29, 30 an diesen. Diese sind dadurch gewonnen, daß die Höhe der Wände des in Durchmesserrichtung verlaufenden Kanals 20 an der oberen Fläche und dem linken Teil von 17 nicht so hoch, sondern niedriger als an dem restlichen rechten Teil der Länge gewählt sind, so daß sie je einen entsprechenden Anschlag 29 bzw. 30 bilden.
  • Wird nach F i g. 5 der Durchgangskanal 31 durch den dem Körper 1 nach den F i g. 1 und 2 entsprechenden Ringkörper 32 für einen abgekröpften starren Kontakt 36 aber exzentrisch angeordnet, so gelingt es, mindestens ein großflächigeres Halbleiterelement 33 in dem gleichen Gehäuse bei geringerer radialer Ausdehnung desselben unterzubringen. Diese Anordnung zeigt auch wieder einen Keramikkörper 34 nach Art von 17 gemäß F i g. 2, auf den der Kraftspeicher wirkt, der in diesem Falle erfindungsgemäß unmittelbar mit der aufgeschweißten Bodenfläche 35 aus Stahl als eine Einheit hergestellt ist, indem diese Platte einen gegenüber dem Druckkörper 12 a tiefgezogenen federnden Teil 35 a aufweist.
  • Der jeweilige Ringkörper kann, wie die F i g. 2 und 5 zeigen, an seiner Außenmantelfläche mit Längsrippen 37 bzw. einer Rändelung versehen sein, mit welcher er in eine entsprechende, seinem Umfang angepaßte Aussparung eines weiteren Trägers mit Preßsitz eingeführt werden kann. Diese Mantelfläche oder die freie Stirnfläche von 35 oder 4 könnte jedoch auch mit einem Lötiiberzug versehen sein, damit das Halbleiterelement an dem weiteren Träger durch Lötung mittels eines Lotes bei einer relativ geringen Temperatur befestigt werden kann.

Claims (13)

  1. Patentansprüche: 1. Halbleiterbauelement, d a d u r c h g e k e n nz e i c h n e t, daß das Halbleiterelement mittels eines Kraftspeichers über einen Kontaktdruckkörper gegen eine Stirnfläche eines als elektrischer Pol und Kühlkörper benutzten Ringkörpers aus wärmeleitendem, metallischen Werkstoff gepreßt wird, daß der Druckkörper über einen nachgiebigen Zwischenteil mit einem starren Anschlußbolzen verbunden ist, der durch einen Kanal des Ringkörpers und gasdicht durch die innere Hülse einer elektrisch isolierenden Durchführung geführt ist, die mit der metallischen äußeren Fassung mindestens an der entgegengesetzten Stirnseite des Ringkörpers gasdicht befestigt ist, und daß als Abschluß des Gehäuseraumes und zum Aufladen des Kraftspeichers ein Gehäuseteil aus einem Material vorgesehen ist, der unmittelbar oder über einen Zwischenkörper mit dem Ringkörperteil durch einen elektrischen Widerstandsverschweißungsprozeß verbunden werden kann.
  2. 2. Halbleiterbauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die elektrisch isolierende Durchführung eine Druckglasdurchführung ist.
  3. 3. Halbleiterbauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mit dem metallischen Ringkörper zunächst ein weiterer gut verschweißungsfähiger Ringkörper aus Eisen bzw. Stahl hart verlötet ist, auf dessen freien stirnseitigen Rand eine Stahlplatte aufgeschweißt ist.
  4. 4. Halbleiterbauelement nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß das Halbleiterelement an dem metallischen Ringkörper in einem vorbereiteten Sitz angeordnet ist, der für die Erhaltung einer betriebsmäßigen, gleitfähigen gegenseitigen Anlage zwischen Ringkörper und Halbleiterelement gestaltet ist.
  5. 5. Halbleiterbauelement nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß in dem Anpreßsystem von Kontaktdruckkörper und Halbleiterelement eine elektrisch isolierende Brücke bzw. Zwischenlage gegenüber dem als Abschluß des Gehäuseraumes dienenden Gehäuseteil vorgesehen ist.
  6. 6. Halbleiterbauelement nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Zwischenlage aus Glimmer bzw. Keramik besteht.
  7. 7. Halbleiterbauelement nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß an dem gleichen metallischen Ringkörper mehrere Halbleiterelemente über je einen Kontaktdruckkörper mit je einem nachgiebigen Teil angepreßt werden. B.
  8. Halbleiterbauelement nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß alle Kontaktdruckkörper über ihre nachgiebigen Teile mit dem ihnen gemeinsamen starren, zentral angeordneten Anschlußbolzen verbunden sind.
  9. 9. Halbleiterbauelement nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß durch den Isolierkörper der elektrisch isolierenden Durchführung eine der Zahl der notwendigen äußeren Anschlüsse der eingeschlossenen Halbleiterelemente eine entsprechende Anzahl von starren Anschlußbolzen hindurchgeführt ist, die mit den nachgiebigen Teilen der Kontaktdruckkörper verbunden sind.
  10. 10. Halbleiterbauelement nach Anspruch 7 oder einem der folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß für die Kontaktdruckkörper aller Halbleiterelemente ein gemeinsamer Kraftspeicher vorgesehen ist.
  11. 11. Halbleiterbauelement nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Kraftspeicher über eine gemeinsame Zwischenisolation auf die Halbleiterelemente wirkt.
  12. 12. Halbleiterbauelement nach den Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß der starre Anschlußbolzen mit einem abgekröpften Teil durch einen exzentrisch in dem Ringkörper angeordneten Kanal hindurchgeführt ist.
  13. 13. Halbleiterbauelement nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß der oder die Kraftspeicher mit dem als Abschluß des Gehäuseraumes dienenden Gehäuseteil eine bauliche Einheit bilden. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Auslegeschriften Nr. 1088 619, 1098618.
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Cited By (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2912189A1 (de) * 1978-03-30 1979-10-04 Sev Marchal Halbleiter-leistungsdiode

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DE1088619B (de) * 1957-04-18 1960-09-08 Siemens Ag Flaechengleichrichter- bzw. Flaechentransistoranordnung und Verfahren und Einrichtung zu ihrer Herstellung
DE1098618B (de) * 1958-07-25 1961-02-02 Telefunken Gmbh Gehaeuse fuer Halbleiteranordnungen kleinster Abmessungen

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