DE1165700C2 - Verfahren zum Herstellen von Bauelementen oder Baugruppen - Google Patents

Verfahren zum Herstellen von Bauelementen oder Baugruppen

Info

Publication number
DE1165700C2
DE1165700C2 DE1962S0080503 DES0080503A DE1165700C2 DE 1165700 C2 DE1165700 C2 DE 1165700C2 DE 1962S0080503 DE1962S0080503 DE 1962S0080503 DE S0080503 A DES0080503 A DE S0080503A DE 1165700 C2 DE1165700 C2 DE 1165700C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
mask
evaporation
distance
carrier
disc
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE1962S0080503
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
DE1165700B (de
Inventor
Dr Karl Siebertz
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens Corp
Original Assignee
Siemens Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to NL294779D priority Critical patent/NL294779A/xx
Application filed by Siemens Corp filed Critical Siemens Corp
Priority to DE1962S0080503 priority patent/DE1165700C2/de
Priority to CH749663A priority patent/CH443427A/de
Priority to FR940261A priority patent/FR1378052A/fr
Priority to GB28679/63A priority patent/GB978984A/en
Publication of DE1165700B publication Critical patent/DE1165700B/de
Application granted granted Critical
Publication of DE1165700C2 publication Critical patent/DE1165700C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/14—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using spraying techniques to apply the conductive material, e.g. vapour evaporation
    • H05K3/143—Masks therefor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H10P95/00—
    • H10W20/40—

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
DE1962S0080503 1962-07-20 1962-07-20 Verfahren zum Herstellen von Bauelementen oder Baugruppen Expired DE1165700C2 (de)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL294779D NL294779A (enExample) 1962-07-20
DE1962S0080503 DE1165700C2 (de) 1962-07-20 1962-07-20 Verfahren zum Herstellen von Bauelementen oder Baugruppen
CH749663A CH443427A (de) 1962-07-20 1963-06-17 Verfahren zum Herstellen von elektrischen Bauelementen oder Baugruppen
FR940261A FR1378052A (fr) 1962-07-20 1963-07-03 Procédé de fabrication de composants ou de groupes de composants électriques ou électroniques
GB28679/63A GB978984A (en) 1962-07-20 1963-07-19 Method and apparatus for the vapour deposition of patterns upon a carrier surface

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1962S0080503 DE1165700C2 (de) 1962-07-20 1962-07-20 Verfahren zum Herstellen von Bauelementen oder Baugruppen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE1165700B DE1165700B (de) 1964-03-19
DE1165700C2 true DE1165700C2 (de) 1964-09-24

Family

ID=7508916

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1962S0080503 Expired DE1165700C2 (de) 1962-07-20 1962-07-20 Verfahren zum Herstellen von Bauelementen oder Baugruppen

Country Status (5)

Country Link
CH (1) CH443427A (enExample)
DE (1) DE1165700C2 (enExample)
FR (1) FR1378052A (enExample)
GB (1) GB978984A (enExample)
NL (1) NL294779A (enExample)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL7413977A (nl) * 1974-10-25 1976-04-27 Philips Nv Aanbrengen van een geleiderlaagpatroon met op een geringe onderlinge afstand gelegen delen, in het bijzonder bij de vervaardiging van half- geleiderinrichtingen.
US4100313A (en) * 1975-10-28 1978-07-11 Rca Corporation Process for forming an optical waveguide
JPS54103552A (en) * 1978-02-01 1979-08-15 Hitachi Electronics Pattern formation method
US4469719A (en) * 1981-12-21 1984-09-04 Applied Magnetics-Magnetic Head Divison Corporation Method for controlling the edge gradient of a layer of deposition material
US4536419A (en) * 1983-03-10 1985-08-20 Hitachi, Ltd. Method for forming tapered films
DE3374790D1 (en) * 1983-03-11 1988-01-14 Hitachi Ltd Method for forming thin films
DE102017105379A1 (de) 2017-03-14 2018-09-20 Aixtron Se Substrathalteranordnung mit Maskenträger
DE102017105374A1 (de) * 2017-03-14 2018-09-20 Aixtron Se Vorrichtung zum Abscheiden einer strukturierten Schicht auf einem Substrat sowie Verfahren zum Einrichten der Vorrichtung
CN111479947A (zh) * 2017-12-29 2020-07-31 微软技术许可有限责任公司 使用通过被定位的阴影掩模进行气相沉积的制造工艺

Also Published As

Publication number Publication date
NL294779A (enExample)
GB978984A (en) 1965-01-01
DE1165700B (de) 1964-03-19
CH443427A (de) 1967-09-15
FR1378052A (fr) 1964-11-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2733924C3 (de) In zwei Richtungen wirksame Feinjustiereinrichtung
DE1165700C2 (de) Verfahren zum Herstellen von Bauelementen oder Baugruppen
DE4008155A1 (de) Piezoelektrischer nadelwaehler in einer rundstrickmaschine
DE19853093B4 (de) Verfahren und Anordnung zur Belichtung eines Substrates
DE3622557C2 (enExample)
AT241536B (de) Verfahren zum Herstellen von Bedampfungsoberflächen
DE1246087B (de) Elektrischer Stufendrehschalter
DE1764237B2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung
DE2259133B2 (de) Verfahren zum Kontaktieren einer Halbleiteranordnung und Anwendung des
EP0463187A1 (de) Medizinische Vorrichtung
EP0068493B1 (de) Kontaktsonden-Anordnung für integrierte Schaltungselemente
DE724183C (de) Anordnung zum Justieren von Objekttraegern, Blenden u. dgl. in Elektronenmikroskopen
DE2825417C2 (de) Verfahren und Objekteinstellvorrichtung zum Einstellen eines Objektträgers bezüglich der Geräteachse eines Korpuskularstrahlgerätes
DE1218411B (de) Verfahren zur Herstellung eines duennen einkristallinen Plaettchens
DE102021115602A1 (de) Verdampferschiffchen
DE3120644C2 (de) Justiereinrichtung für eine Magnetsonde
DE946727C (de) Elektronische Kontaktanordnung zu Schalt- und Kodierungszwecken
DE1589611C3 (de) Objektpatrone für ein Elektronenmikroskop oder eine Elektronenbeugungskamera
DE1065897B (enExample)
DE1222168B (de) Verfahren zum Erzeugen mindestens zweier dicht nebeneinanderliegender Elektroden aufHalbleiterkoerpern
DE1464857A1 (de) Vorrichtung zum Ausrichten von Hohlgegenstaenden
DE1082602B (de) Einstellvorrichtung fuer die Heberwalze in Druckmaschinen
DE2542350C3 (de) Schwenkbarer Blendenhalter für ein korpuskularstrahloptisches Gerät
DE1162406B (de) Kryotronanordnung mit zwei in geringem Abstand voneinander sich kreuzenden oder parallel zueinander verlaufenden duennen Leiterstreifen
DE1097714B (de) Vorrichtung zur gleichzeitigen Verstellung mehrerer Spalte fuer optische Instrumente