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TECHNISCHES GEBIET
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Die vorliegende Offenbarung betrifft ein Verarbeitungsverfahren für ein reflektierendes Polarisationselement und ein durch das Verarbeitungsverfahren erhaltenes reflektierendes Polarisationselement.
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HINTERGRUND DER ERFINDUNG
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Die Druckschrift
JP S61-025002 Y offenbart eine Anzeigeumschaltvorrichtung unter Verwendung einer Polarisationsplatte als ein Beispiel eines Polarisationselements.
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Das Polarisationselement weist eine Polarisationsachse auf, die sich in eine bestimmte Richtung erstreckt. Dabei kann Licht mit einem Polarisationsanteil parallel zur Polarisationsachse durch das Polarisationselement passieren. Nachstehend ist derartiges Licht als erstes polarisiertes Licht bezeichnet. Licht mit einem Polarisationsanteil, der nicht parallel zur Polarisationsachse ist, kann nicht passieren. Nachstehend ist derartiges Licht als zweites polarisiertes Licht bezeichnet.
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Bei der Anzeigeumschaltvorrichtung sind eine Vielzahl von Polarisationsplatten mit unterschiedlichen Richtungen der Polarisationsachsen auf einem von einer Lichtquelle emittiertem Lichtpfad angeordnet. Verschiedene transparente Muster sind bei der Vielzahl von Polarisationsplatten ausgebildet. Der Begriff „transparent“ bezeichnet nachstehend die Eigenschaft, dass sowohl das erste polarisierte Licht als auch das zweite polarisierte Licht passieren kann. Der Begriff „Muster“ soll nachstehend eine Grafik, ein Symbol, eine Markierung, ein Bild, und dergleichen beinhalten.
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Bei der Anzeigeumschaltvorrichtung wird eine Polarisationsrichtung einfallenden Lichts derart umgeschaltet, dass sich das zweite polarisierte Licht für eine spezifische Polarisationsplatte ausbildet. Einfallendes Licht passiert nur durch einen Bereich, in dem ein Muster in der spezifischen Polarisationsplatte ausgebildet ist. Infolgedessen wird das Muster von einem Benutzer visuell wahrgenommen. Die Polarisationsrichtung des einfallenden Lichts wird geändert, so dass die „spezifische Polarisationsplatte“ geändert werden kann, und das dem Benutzer zur Anzeige bereitgestellte Muster kann umgeschaltet werden.
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Ein Polarisationselement, das durch Absorption des zweiten polarisierten Lichts derartiges nicht passieren lässt, wird als ein absorbierendes Polarisationselement bezeichnet. Das absorbierende Polarisationselement kann beispielsweise durch Strecken eines mit einer Jodverbindung imprägnierten Polyvinylalkohol-Schichtsubstrats (PVA) in eine bestimmte Richtung und einer Vernetzungsbehandlung des Schichtsubstrats ausgebildet werden.
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Ferner ist ein Polarisationselement bekannt, das das zweite polarisierte Licht derart reflektiert, dass es keine Übertragung zulässt. Ein derartiges Polarisationselement wird als ein reflektierendes Ablenkelement bezeichnet. Als Beispiel des reflektierenden Ablenkelements ist eine reflektierende Ablenkschicht bekannt, bei der Metall auf ein Schichtsubstrat mit einer Gitterstruktur abgeschieden ist. Das Schichtsubstrat wird aus Triacetylcellulose (TAC), Cycloolefin-Polymer (COP) oder dergleichen ausgebildet. Beispiele für das abzuscheidende Metall beinhalten Aluminium, Silber und Chrom.
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Als Verfahren zum Ausbilden der zuvor beschriebenen Muster in dem absorbierenden Polarisationselement ist bekannt, dass ein Teil des Substrats entfernt wird, der einer Form des Musters entspricht. Andererseits ist kein Verfahren zum Ausbilden des vorstehend beschriebenen Musters in einem reflektierenden Polarisationselement bekannt.
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ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
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Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein gewünschtes Muster in einem reflektierenden Polarisationselement auszubilden.
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Eine Ausgestaltung zur Befriedigung der vorstehend beschriebenen Anforderung stellt ein Verarbeitungsverfahren für ein reflektierendes Polarisationselement bereit, das eine Metallgasphasenabscheidungsschicht beinhaltet, die dazu eingerichtet ist, Licht mit einem Polarisationsanteil parallel zu einer Polarisationsachse passieren zu lassen und Licht mit einem Polarisationsanteil, der nicht parallel zu der Polarisationsachse ist, zu reflektieren, das Verarbeitungsverfahren umfasst:
- Ausbilden eines Bereichs in dem die Metallgasphasenabscheidungsschicht sublimiert ist, so dass er eine Form aufweist, die einem gewünschten Muster entspricht, indem das reflektierende Polarisationselements mit Laserlicht bestrahlt wird,
- in dem eine Polarisationsrichtung des Laserlichts eine Richtung ist, die nicht parallel zur Polarisationsachse ist.
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Gemäß der vorstehend beschriebenen Konfiguration, kann Sublimationseffizienz der Metallgasphasenabscheidungsschicht durch Bestrahlen mit Laserlicht erhöht werden. Infolgedessen kann eine Verarbeitung zum Ausbilden des gewünschten Musters im reflektierenden Polarisationselement effizient durchgeführt werden.
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Gemäß dem vorstehend beschriebenen Verarbeitungsverfahren, ist es möglich ein reflektierendes Polarisationselement bereitzustellen, das eine Metallgasphasenabscheidungsschicht beinhaltet, die dazu eingerichtet ist, Licht mit einem Polarisationsanteil parallel zu einer Polarisationsachse passieren zu lassen und Licht mit einem Polarisationsanteil, der nicht parallel zu der Polarisationsachse ist, zu reflektieren, in dem ein Bereich durch Sublimierung der Metallgasphasenabscheidungsschicht durch Laserlicht mit einem Polarisationsanteil, der nicht parallel zur Polarisationsachse ist, mit gewünschtem Muster geformt wird.
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Figurenliste
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- 1 zeigt eine Konfiguration einer reflektierenden Polarisationsschicht gemäß einem Ausführungsbeispiel.
- 2 zeigt einen Ablauf eines Verarbeitungsverfahrens für die reflektierende Polarisationsschicht gemäß dem Ausführungsbeispiel.
- 3 zeigt ein Prinzip des Verarbeitungsverfahrens für die reflektierende Polarisationsschicht gemäß dem Ausführungsbeispiel.
- 4 zeigt eine Anzeigevorrichtung mit reflektierender Polarisationsschicht gemäß dem Ausführungsbeispiel.
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BESCHREIBUNG DER AUSFÜHRUNGSBEISPIELE
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Ausführungsbeispiele sind nachstehend unter Bezugnahme auf die beiliegende Zeichnung näher beschrieben. In jeder Figur, auf die nachstehend Bezug genommen wird, ist der Maßstab jedes Elements zweckmäßig angepasst, um jedes Element in einer erkennbaren Größe darzustellen.
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1 zeigt eine Konfiguration einer reflektierenden Polarisationsschicht 100 gemäß einem Ausführungsbeispiel. Die reflektierende Polarisationsschicht 100 ist ein Beispiel eines reflektierenden Polarisationselements.
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Die reflektierende Polarisationsschicht 100 beinhaltet ein Schichtsubstrat 102 und eine Metallgasphasenabscheidungsschicht 104.
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Das Schichtsubstrat 102 ist aus TAC oder COP gebildet. Das Schichtsubstrat 102 weist in einer bestimmten Richtung angeordnete Polymerketten auf. Die Metallgasphasenabscheidungsschicht 104 wird durch Abscheiden von Metall, wie Aluminium, Silber oder Chrom auf eine Hauptoberfläche des Schichtsubstrats 102 ausgebildet. Dementsprechend wird ein Farbstoff an den Polymerketten adsorbiert. Infolgedessen weist die reflektierende Polarisationsschicht 100 eine Nano-Gitterstruktur auf. Die Nano-Gitterstruktur weist eine Struktur auf, bei der eine Vielzahl von sich in eine Richtung der Polymerketten erstreckenden Gittern in der spezifischen Richtung in einem Nanometerabstand angeordnet ist.
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In einer orthogonalen Richtung zu einer Erstreckungsrichtung der Gitter oszillierendes Licht kann die reflektierende Polarisationsschicht 100 passieren. Mit anderen Worten, Licht mit einem Polarisationsanteil parallel zu einer Anordnungsrichtung der Vielzahl von Gittern kann die reflektierende Polarisationsschicht 100 passieren. Andererseits kann in eine Richtung parallel zur Erstreckungsrichtung der Gitter oszillierendes Licht die reflektierende Polarisationsschicht 100 nicht passieren. Mit anderen Worten, Licht mit einem Polarisationsanteil orthogonal zur Anordnungsrichtung der Vielzahl von Gittern kann die reflektierende Polarisationsschicht 100 nicht passieren.
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Um ein spezifisches Muster in der reflektierenden Polarisationsschicht 100 mit der vorstehend beschriebenen Konfiguration auszubilden, wie in 1 gezeigt, wird die Metallgasphasenabscheidungsschicht 104 mit von einer Lichtquelle (nicht gezeigt) emittiertem Laserlicht L bestrahlt.
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Die Metallgasphasenabscheidungsschicht 104 an einem mit Laserlicht L bestrahlten Abschnitt wird sublimiert. Dementsprechend wird ein Bereich am Schichtsubstrat 102 ausgebildet an dem die Metallgasphasenabscheidungsschicht 104 fehlt.
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Wie vorstehend beschrieben, kann Licht mit einem Polarisationsanteil orthogonal zur Anordnungsrichtung der Vielzahl von Gittern die reflektierende Polarisationsschicht 100 nicht passieren. Jedoch kann Lichteinfall auf den Bereich, in dem die Metallgasphasenabscheidungsschicht 104 fehlt (das ist ein Bereich in der nur das Schichtsubstrat 102 existiert) unabhängig von einer Polarisationsrichtung passieren. Den Bereich passierendes Licht wird visuell wahrgenommen, so dass ein Muster, das einer Form des Bereichs entspricht, zur Anzeige bereitgestellt wird.
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Daher kann durch geeignete Steuerung einer Bestrahlungsposition des Laserlichts L ein Bereich ausgebildet werden, in dem die Metallgasphasenabscheidungsschicht 104 entfernt wird, so dass er einer Form eines gewünschten Musters entspricht. Nachstehend wird Bestrahlen mit dem Laserlicht L zum Ausbilden des gewünschten Musters als „Musterausbildung“ bezeichnet. Die Musterausbildung ist ein Beispiel für die an einem reflektierenden Polarisationselement durchgeführte Verarbeitung.
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Eine Intensität des Laserlichts L wird derart festgelegt, dass die Metallgasphasenabscheidungsschicht 14 sublimiert werden kann und eine Wärmemenge, die keine Reaktion am Schichtsubstrat 102 bewirkt, zugeführt werden kann. Eine derartige Wärmemenge kann durch einen Ausgang der Lichtquelle des Laserlichts L, eine Distanz zwischen der Lichtquelle und der reflektierenden Polarisationsschicht 100, eine Musterausbildungsgeschwindigkeit und dergleichen entsprechend eingestellt werden.
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2 zeigt einen Musterausbildungsablauf, ausgeführt auf der reflektierenden Polarisationsschicht 100.
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Zuerst wird die unbearbeitete reflektierende Polarisationsschicht 100 an einer vorbestimmten Position S100 angeordnet. Die vorbestimmte Position ist eine Position, an der das Laserlicht L derart emittiert werden kann, dass es das gewünschte Muster in der reflektierenden Polarisationsschicht 100 ausbildet.
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Beispiele der vorbestimmten Position beinhalten eine Position an der die reflektierende Polarisationsschicht 100 durch eine Vorrichtung, wie ein Förderband oder einen Roboterarm, befördert werden kann.
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In diesem Fall kann die reflektierende Polarisationsschicht 100 durch die Vorrichtung an der vorbestimmten Position angeordnet werden. Anordnen der reflektierenden Polarisationsschicht 100 an der vorbestimmten Position kann manuell durchgeführt werden.
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Anschließend wird die Musterausbildung an der reflektierenden Polarisationsschicht 100, angeordnet an der vorbestimmten Position S102, durchgeführt. Die Musterausbildung wird durchgeführt während wenigstens die Intensität des Laserlichts L, die Bestrahlungsposition oder die Bestrahlungsrichtung zweckmäßig gesteuert wird.
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Wie vorstehend beschrieben kann Licht mit einem Polarisationsanteil parallel zur eigenen Polarisationsachse die reflektierende Polarisationsschicht 100 passieren, Licht mit einem Polarisationsanteil orthogonal zur eigenen Polarisationsachse kann jedoch nicht passieren. Daher nimmt eine Sublimationseffizienz der Metallgasphasenabscheidungsschicht 104 durch Bestrahlen mit dem Laserlicht L ab, wenn die Polarisationsrichtung des Laserlichts L parallel zur Polarisationsachse der Polarisationsschicht 100 ist.
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Eine Referenznummer A in 3 stellt einen derartigen Fall schematisch dar. Eine Referenznummer PA stellt die Polarisationsachse der reflektierenden Polarisationsschicht 100 dar. Eine Referenznummer PD stellt die Polarisationsrichtung des Laserlichts L dar.
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Im vorliegenden Ausführungsbeispiel wird die Musterausbildung durch Bestrahlen mit dem Laserlicht L durchgeführt, so dass die Polarisationsrichtung PD des Laserlichts L nicht parallel zur Polarisationsachse PA der reflektierenden Polarisationsschicht 100 ist.
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Das heißt, das Laserlicht L wird derart emittiert, dass ein Winkel der Polarisationsrichtung PD des Laserlichts L hinsichtlich der Polarisationsachse PA der reflektierenden Polarisationsschicht 100 größer als 0° und gleich oder kleiner als 90° ist. Dementsprechend kann die Sublimationseffizienz der Metallgasphasenabscheidungsschicht 104 durch Bestrahlen mit dem Laserlicht L zunehmen. Infolgedessen kann die Musterausbildung in der reflektierenden Polarisationsschicht 100 effizienter durchgeführt werden.
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Eine Referenznummer B in 3 stellt einen Fall dar, in dem ein Winkel der Polarisationsrichtung PD des Laserlichts L hinsichtlich der Polarisationsachse PA der reflektierenden Polarisationsschicht 100 90° ist. In anderen Worten, die Polarisationsrichtung PD des Laserlichts L ist orthogonal zur Polarisationsachse PA der reflektierenden Polarisationsschicht 100.
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Wenn sich der Winkel 90° annähert, nimmt die der Metallgasphasenabscheidungsschicht 104 durch Bestrahlen mit dem Laserlichts L zugeführte Wärmemenge zu. Daher kann eine Effizienz der Musterausbildung in der reflektierenden Polarisationsschicht 100 weiter erhöht werden.
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Als Laserlicht L kann Yttrium-Aluminium-Granat-(YAG)-Laserlicht oder YVO4-Laserlicht verwendet werden. Insbesondere im Fall von YAG-Laserlicht kann ein Muster effizienter ausgebildet werden, da die Metallgasphasenabscheidungsschicht 104 eine hohe Absorptionseffizienz aufweist.
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Eine Wellenlänge des Laserlichts L kann zweckmäßig bestimmt werden. Anstelle des infraroten YAG- oder YVO4-Laserlichts kann ein sichtbares, leicht verfügbares Laserlicht mit hohem Kostenkontrolleffekt verwendet werden.
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Die reflektierende Polarisationsschicht, die das mit dem vorstehend beschriebenen Verfahren ausgebildete gewünschte Muster aufweist, kann zum Beispiel auf einer Anzeigevorrichtung angebracht werden.
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4 zeigt eine Konfiguration einer derartigen Anzeigevorrichtung 1000. Die Anzeigevorrichtung 1000 beinhaltet eine erste reflektierende Polarisationsschicht 100A, eine zweite reflektierende Polarisationsschicht 100B, ein erstes Polarisationselement 200A, ein zweites Polarisationselement 200B, eine erste Lichtquelle LS1 und eine zweite Lichtquelle LS2.
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Eine Richtung einer Polarisationsachse der ersten reflektierenden Polarisationsschicht 100A und eine Richtung einer Polarisationsachse der zweiten reflektierenden Polarisationsschicht 100B sind orthogonal zu einander. Das heißt, polarisiertes Licht, das die erste reflektierende Polarisationsschicht 100A passiert, passiert die zweite reflektierende Polarisationsschicht 100B nicht. Ebenso passiert polarisiertes Licht, das die zweite reflektierende Polarisationsschicht 100B passiert, die erste reflektierende Polarisationsschicht 100A nicht.
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Ein erstes Muster 110A wird durch das vorstehend beschriebene Verarbeitungsverfahren in der ersten reflektierenden Polarisationsschicht 100A ausgebildet. Lichteinfall auf das erste Muster 110A kann unabhängig von dessen Polarisationsrichtung passieren. Ein zweites Muster 110B wird durch das vorstehend beschriebene Verarbeitungsverfahren in der zweiten reflektierenden Polarisationsschicht 100B ausgebildet. Lichteinfall auf das zweite Muster 110B kann unabhängig von dessen Polarisationsrichtung passieren.
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Eine Richtung einer Polarisationsachse des ersten Polarisationselements 200A und eine Richtung einer Polarisationsachse des zweiten Polarisationselements 200B sind orthogonal zu einander. Die Richtung der Polarisationsachse des ersten Polarisationselements 200A fällt mit der Richtung der Polarisationsachse der ersten reflektierenden Polarisationsschicht 100A zusammen. Die Richtung der Polarisationsachse des zweiten Polarisationselements 200B fällt mit der Richtung der Polarisationsachse der zweiten reflektierenden Polarisationsschicht 100B zusammen. Das erste Polarisationselement 200A und das zweite Polarisationselement 200A können ein absorbierendes Polarisationselement oder ein reflektierendes Polarisationselement sein.
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Das erste Polarisationselement 200A ist auf einem von der Lichtquelle LS1 emittierten Lichtpfad angeordnet. Das zweite Polarisationselement 200B ist auf einem von der Lichtquelle LS2 emittierten Lichtpfad angeordnet.
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Sowohl die erste Lichtquelle LS1 als auch die zweite Lichtquelle LS2 können mit wenigstens einem lichtemittierenden Halbleiterbauelement, das wenigstens Licht einer Farbe emittieren kann, eingerichtet sein. Beispiele von lichtemittierenden Halbleiterbauelementen beinhalten eine lichtemittierende Diode (LED), eine Laserdiode (LD) und ein organisches elektrolumineszierendes Bauelement (organisches EL Bauelement). Sowohl die erste Lichtquelle LS1 als auch die zweite Lichtquelle LS2 können eine Lampenlichtquelle, wie zu Beispiel eine Halogenlampe, sein. Einschalten/Ausschalten sowohl der ersten Lichtquelle LS1 als auch der zweiten Lichtquelle LS2 kann durch einen in der Anzeigevorrichtung 1000 bereitgestellten Prozessor (nicht gezeigt) gesteuert werden.
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Gemäß der Anzeigevorrichtung 1000 mit einer derartigen Konfiguration, können die drei nachstehenden Anzeigezustände durch Steuerung der lichtemittierenden Zustände der ersten Lichtquelle LS1 und der zweiten Lichtquelle LS2 erreicht werden.
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(1) Anzeige eines zweiten Musters 110B
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Wenn sich die erste Lichtquelle LS1 in einem lichtemittierenden Zustand befindet und die zweite Lichtquelle LS2 sich in einem nicht-lichtemittierenden Zustand befindet, kann nur ein Polarisationsanteil des von der Lichtquelle LS1 emittierten Lichts parallel zur Polarisationsachse des ersten Polarisationselements 200A durch dieses passieren.
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Da die Richtung der Polarisationsachse des ersten Polarisationselements 200A mit der Richtung der Polarisationsachse der ersten reflektierenden Polarisationsschicht 100A zusammenfällt, passiert polarisiertes Licht, das durch das erste Polarisationselement 200A passiert hat, die erste reflektierende Polarisationsschicht 100A.
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Da die Richtung der Polarisationsachse der zweiten reflektierenden Polarisationsschicht 100B und die Richtung der Polarisationsachse der ersten reflektierenden Polarisationsschicht 100A orthogonal zu einander sind, passiert ein polarisiertes Licht, das das erste Polarisationselement 200A und die erste reflektierende Polarisationsschicht 100A passiert hat, die zweite reflektierende Polarisationsschicht 100B nicht. Jedoch passiert das polarisierte Licht das in der zweiten reflektierenden Polarisationsschicht 100B ausgebildete zweite Muster 110B.
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Daher kann Licht, das das zweite Muster 110B passiert, von einem Benutzer visuell wahrgenommen werden. In anderen Worten, eine Form des zweiten Musters 110B kann zur Anzeige für den Benutzer bereitgestellt werden.
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(2) Anzeige eines ersten Musters 110A
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Wenn sich die erste Lichtquelle LS1 in einem nicht-lichtemittierenden Zustand befindet und die zweite Lichtquelle LS 2 sich in einem lichtemittierenden Zustand befindet, kann nur ein Polarisationsanteil des von der zweiten Lichtquelle LS2 emittierten Lichts parallel zur Polarisationsachse des zweiten Polarisationselements 200B durch dieses passieren.
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Da die Richtung der Polarisationsachse des zweiten Polarisationselements 200B und die Richtung der Polarisationsachse der ersten reflektierenden Polarisationsschicht 100A orthogonal zu einander sind, passiert ein polarisiertes Licht, das durch das zweite Polarisationselement 200B passiert ist, die erste reflektierende Polarisationsschicht 100A nicht. Jedoch passiert das polarisierte Licht das in der ersten reflektierenden Polarisationsschicht 100A ausgebildete erste Muster 110A.
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Da die Richtung der Polarisationsachse des zweiten Polarisationselements 200B mit der Richtung der Polarisationsachse der zweiten reflektierenden Polarisationsschicht 100B zusammenfällt, passiert ein polarisiertes Licht, das das zweite Polarisationselement 200B und das erste Muster 110A passiert hat, die zweite reflektierende Polarisationsschicht 100B.
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Daher kann Licht, das das erste Muster 110A passiert, von einem Benutzer visuell wahrgenommen werden. In anderen Worten, eine Form des ersten Musters 110A kann zur Anzeige für den Benutzer bereitgestellt werden.
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(3) Anzeige eines ersten Musters 110A und eines zweiten Musters 110B
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Wenn sich sowohl die erste Lichtquelle LS1 als auch die zweite Lichtquelle LS2 in einem lichtemittierenden Zustand befinden, werden das zweite Muster 110B, wie vorstehend in (1) beschrieben, und das erste Muster 110A, wie vorstehend beschrieben in (2), zur Anzeige bereitgestellt.
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Daher kann eine Vielzahl von reflektierenden Polarisationsschichten verwendet werden, von denen jede ein durch das vorstehend beschriebene Verarbeitungsverfahren ausgebildetes Muster aufweist, um eine Anzeigevorrichtung zu erhalten, die eine Vielzahl von Typen von Musteranzeigen umschalten kann.
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Die erste reflektierende Polarisationsschicht 100A, die zweite reflektierende Polarisationsschicht 100B, das erste Polarisationselement 200A, das zweite Polarisationselement 200B, die erste Lichtquelle LS1, und die zweite Lichtquelle LS2 müssen nicht an den in 4 gezeigten Positionen befestigt werden. Wenn eine in 4 gezeigte optische Positionsbeziehung bei der Anzeige eines gewünschten Musters erreicht werden kann, kann ein Mechanismus bereitgestellt werden, der mindestens die erste reflektierende Polarisationsschicht 100A, die zweite reflektierende Polarisationsschicht 100B, das erste Polarisationselement 200A, das zweite Polarisationselement 200B, die erste Lichtquelle LS1 oder die zweite Lichtquelle LS2 relativ zu den anderen bewegen kann.
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Das vorstehend beschriebene Ausführungsbeispiel ist lediglich ein Beispiel, um das Verständnis der vorliegenden Offenbarung zu erleichtern. Die Konfiguration gemäß dem vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiel kann in geeigneter Weise modifiziert und verbessert werden ohne vom Wesen der vorliegenden Offenbarung abzuweichen.
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Als Anwendungsziel des Verarbeitungsverfahrens gemäß der vorliegenden Offenbarung ist eine reflektierende Polarisationsschicht als ein Beispiel für ein reflektierendes Polarisationselement gezeigt. Ferner kann das Verarbeitungsverfahren gemäß der vorliegenden Offenbarung auf eine Musterausbildung in einer reflektierenden Polarisationsplatte angewendet werden.
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Als ein Beispiel der Verwendung des reflektierenden Polarisationselements mit einem durch das Verarbeitungsverfahren gemäß der vorliegenden Offenbarung ausgebildeten Muster ist ein Fall gezeigt, in dem das reflektierende Polarisationselement auf der Anzeigevorrichtung montiert ist.
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Als Teil der Beschreibung der vorliegenden Anmeldung ist der Inhalt der am 18. Juni 2018 eingereichten japanischen Patentanmeldung Nr.
2018-115438 einbezogen.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- JP 61025002 [0002]
- JP 2018115438 [0058]
