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HINTERGRUND DER ERFINDUNG
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1. Bereich der Erfindung
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Die vorliegende Erfindung betrifft das Bereich der Flüssigkristall-Paneelverfahren, und insbesondere auf ein Herstellungsverfahren für transparente Elektrode und Masken davon.
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2. Stand der Technik
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Die aktuelle Technik zur Herstellung von transparenten Elektroden der Substrat-Flüssigkristallpaneelvorrichtung ist aus Film auf einem Glassubstrat und dann der Beschichten mit einer Schicht aus Fotolack auf dem dünnen Film. Dann wird die Bestrahlung mit der Photolackmaske durchgeführt. Da die Abschirmung der Maske, wird das Muster, das dem Muster nicht ausgesetzt werden. In der späteren Entwicklung wird der belichtete Fotolack durch die Photolithographie-Lösung entfernt. Während des Ätzvorgangs wird der dünne Film, welcher durch den Fotolack geschützt ist, zur Ausbildung transparenter Elektroden bestehen bleiben.
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Unter Bezugnahme auf 1, in dem Substrat, die transparente Elektroden sind hauptsächlich im aktiven Bereich (AA) 110 verteilt. Daher kann die Dünnschicht erforderlich ist, um im aktiven Bereich verbleiben 110 mehr als erforderlich ist, um in nicht-aktiven Bereich 120 bleibt Dünnschicht. Daher beim Photolithographieverfahren. nicht-aktiven Bereich 120 verbraucht mehr Photolithographielösung als aktiver Bereich 110, so dass die Photolithographie-Lösung in nicht-aktiven Bereich 120 weist eine geringere Dichte als die Lösung in der Photolithographie aktiven Bereich 110. Darüber hinaus wird nach Diffusion (als Pfeile in 1 angibt Diffundieren niedriger Dichte), die Photolithographie-Lösung in dem Randbereich der aktiven Bereich 110, die an Nicht-aktiven Bereich 120 weist eine geringere Dichte als die Lösung in der Photolithographie zentralen Bereich der aktiven Bereich 110 von nicht-aktiven Bereich 120, der um den Spalt führt Fotolackmuster in dem Randbereich kleiner ist als der Spalt des Fotolack im zentralen Bereich. Eine ähnliche Situation tritt im Ätzverfahren, der Spalt der transparenten Elektroden in dem Randbereich des aktiven Bereichs 110 unterscheiden sich von dem Spalt von transparenten Elektroden sich im zentralen Bereich des aktiven Bereichs 110 führt, und betrifft den Paneeleffekt.
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ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
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Die technische Aufgabe, welche von der vorliegenden Erfindung gelöst wird, ist es, ein Verfahren zur Herstellung einer transparenten Elektrode vorzusehen und eine Maske dafür vorzusehen, welche in der Lage ist, Fehler am Spalt der gebildeten transparenten Elektroden in dem gesamten aktiven Bereich zu verringern, um den Displayeffekt zu verbessern.
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Die vorliegende Erfindung stellt ein Herstellungsverfahren für eine transparente Elektrode zur Verfügung, das die Schritte umfasst: mittels Vakuumabscheidung, Sputtern, Molekularstrahl-Dampfabscheidung oder chemischer Dampfabscheidung werden ein dünner Film auf einem Glassubstrat ausgebildet und die Beschichtung des Dünnfilms mit einer Schicht aus Fotolack durchgeführt; Bestrahlen des Fotolacks durch eine Maske, wobei die Maske beim entsprechenden aktiven Bereich des Flüssigkristallpaneels von der äußeren Bereich zur inneren Bereich einen ersten Bereich, einen zweiten Bereich und einen dritten Bereich ausbildet, wobei ein Spaltmuster entsprechend der transparenten Elektrode in dem ersten Bereich einen ersten Spalt ausbildet, wobei ein Spaltmuster entsprechend der transparenten Elektrode in einem zweiten Bereich einen zweiten Spalt ausbildet, wobei der erste Spalt größer als ein entsprechender Standardspalt ist, wobei die Differenz zwischen dem ersten Spalt und dem entsprechenden Standardspalt größer ist als die Differenz zwischen dem zweiten Spalt und dem entsprechenden Standardspalt, wobei der dritte Spalt zwischen dem ersten Bereich und dem zweiten Bereich angeordnet ist und wobei das Spaltmuster entsprechend der transparenten Elektrode in dem dritten Bereich der erste Spalt oder der zweite Spalt ist, wobei das Verhältnis des ersten Spaltes allmählich von dem äußeren Bereich zum inneren Bereich abnimmt, und wobei das Verhältnis des zweiten Spaltes allmählich vom äußeren Bereich zum inneren Bereich zunimmt; und Ausführen eines photolithographischen Prozesses und eines Ätzverfahrens auf dem Glassubstrat nach der Belichtung, um transparente Elektroden auf dem Glassubstrat auszubilden.
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Die vorliegende Erfindung stellt ein Verfahren zur Herstellung einer transparenten Elektrode bereit, das die Schritte umfasst: Ausbilden eines dünnen Films auf einem Glassubstrat, und Beschichtung des dünnen Films mit einem Fotolack; Bestrahlen des Fotolacks durch eine Maske, wobei die Maske beim entsprechenden aktiven Bereich des Flüssigkristallpaneels von der äußeren Bereich zur inneren Bereich mindestens einen ersten Bereich und einen zweiten Bereich ausbildet, wobei ein Spaltmuster entsprechend der transparenten Elektrode in dem ersten Bereich einen ersten Spalt ausbildet, wobei ein Spaltmuster entsprechend der transparenten Elektrode in dem zweiten Bereich einen zweiten Spalt ausbildet, wobei der erste Spalt größer als ein entsprechender Standardspalt ist, wobei die Differenz zwischen dem ersten Spalt und dem entsprechenden Standardspalt größer ist als die Differenz zwischen dem zweiten Spalt und dem entsprechende Standardspalt; und Ausführen eines photolithographischen Prozesses und eines Ätzverfahren auf dem Glassubstrat nach der Belichtung, um transparente Elektroden auf dem Glassubstrat auszubilden.
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Gemäß einer zweckmäßigen Weiterbildung der vorliegenden Erfindung bildet die Maske an dem entsprechenden aktiven Bereich des Flüssigkristallpaneels von dem Außenbereich zum Innenbereich einem ersten Bereich, einen zweiten Bereich und einen dritten Bereich aus, wobei der dritte Bereich zwischen dem ersten Bereich und dem zweiten Bereich angeordnet ist und wobei das Spaltmusters entsprechend der transparenten Elektrode in dem dritten Bereich die erste Spalt bzw. die zweite Spalte ist; wobei das Verhältnis des ersten Spaltes allmählich von dem Außenbereich zum Innenbereich nimmt und wobei das Verhältnis des zweiten Spaltes allmählich vom äußeren Bereich zum inneren Bereich zunimmt.
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Gemäß einer zweckmäßigen Weiterbildung der vorliegenden Erfindung sind der erste Bereich, der zweite Bereich und der dritte Bereich rechteckig mit gleichen Verhältnis von Breite und zu Länge.
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Gemäß einer zweckmäßigen Weiterbildung der vorliegenden Erfindung bildet die Maske an dem entsprechenden aktiven Bereich des Flüssigkristallpaneels von dem Außenbereich zum Innenbereich einen ersten Bereich, einen zweiten Bereich und einen dritten Bereich aus, wobei der dritte Bereich zwischen dem ersten Bereich und dem zweiten Bereich angeordnet ist und wobei das Spaltmusters entsprechend der transparenten Elektrode in dem dritten Bereich allmählich vom äußeren Bereich zum inneren Bereich abnimmt.
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Die vorliegende Erfindung stellt eine Maske zur Verfügung, wobei die Maske an einem entsprechenden aktiven Bereich des Flüssigkristallpaneels vom äußeren Bereich in Richtung Innenbereich zumindest einen ersten Bereich und einen zweiten Bereich ausbilden, wobei das Spaltmuster entsprechend einer transparenten Elektrode in dem ersten Bereich einen ersten Spalt ausbildet, wobei das Spaltmuster entsprechend der transparenten Elektrode in dem zweiten Bereich einen zweiten Spalt ausbildet, wobei der erste Spalt größer als ein entsprechender Standardspalt ist, und wobei die Differenz zwischen dem ersten Spalt und dem entsprechenden Standard-Spalt größer ist als die Differenz zwischen dem zweiten Spalt und dem entsprechenden Standard-Spalt ist.
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Gemäß einer zweckmäßigen Weiterbildung der vorliegenden Erfindung bildet die Maske an dem entsprechenden aktiven Bereich des Flüssigkristallpaneels von dem Außenbereich zum Innenbereich einem ersten Bereich, einen zweiten Bereich und einen dritten Bereich aus, wobei der dritte Bereich zwischen dem ersten Bereich und dem zweiten Bereich angeordnet ist und wobei das Spaltmuster entsprechend der transparenten Elektrode in dem dritten Bereich der erste Spalt bzw. der zweite Spalt ist; wobei das Verhältnis des ersten Spaltes allmählich von dem Außenbereich zum Innenbereich abnimmt und das Verhältnis des zweiten Spaltes allmählich vom äußeren Bereich zum inneren Bereich zunimmt.
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Gemäß einer zweckmäßigen Weiterbildung der vorliegenden Erfindung bildet die Maske im entsprechenden aktiven Bereich des Flüssigkristallpaneels von dem Außenbereich zum Innenbereich einen ersten Bereich, einen zweiten Bereich und einen dritten Bereich aus, wobei der dritte Bereich zwischen dem ersten Bereich und dem zweiten Bereich angeordnet ist und wobei das Spaltmuster entsprechend der transparenten Elektrode in dem dritten Bereich allmählich vom äußeren Bereich zum inneren Bereich abnimmt.
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Die Wirksamkeit der vorliegenden Erfindung ist es sich vom Stand der Technik abzugrenzen. Die vorliegende Erfindung verwendet die Maske, um einen ersten Bereich in der Nähe der nicht-aktiven Bereich und einen zweiten Bereich weit weg von dem nicht-aktiven Bereich anzuordnen. Das Spaltmuster in dem ersten Bereich größer ist als das Spaltmusters in dem zweiten Bereich, sind die Dichte der Photolithographie-Lösung und der Dichte der Ätzlösung im ersten Bereich niedriger; Dann wird der Standard-Spalt der Bereich angeordnet, größer zu sein. Die Dichte der Photolithographie-Lösung und der Dichte der Ätzlösung im ersten Bereich höher sind; Dann wird der Standard-Spalt des Bereichs angeordnet, um kleiner zu sein. Als solche Folge der Abstandsdifferenz von der Dichtdifferenz kompensiert wird, so dass Spaltfehler gebildeten transparenten Elektroden in dem gesamten aktiven Bereich zu verringern, um den Displayeffekt zu verbessern.
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KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
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Um die technische Lösung der Ausführungsformen gemäß der vorliegenden Erfindung herzustellen, wird eine kurze Beschreibung der Zeichnungen, die zur Veranschaulichung der Ausführungsformen notwendig sind, wie folgt angegeben werden. Offenbar sind die nachfolgend beschriebenen Zeichnungen sind nur beispielhafte Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung und für Leute mit gewöhnlichen Fähigkeiten auf diesem Bereich, können andere Zeichnung einfach aus diesen Zeichnungen erhalten ohne Zahlung einer kreativen Leistung.
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In den Zeichnungen:
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1 ist eine schematische Ansicht, die Dichte Diffusion eines bekannten Herstellungsverfahrens der transparenten Elektrode;
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2 ist ein Flussdiagramm einer Ausführungsform des Herstellungsverfahrens der transparenten Elektrode gemäß der vorliegenden Erfindung;
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3 ist eine schematische Ansicht, die die Struktur der Maske in einer Ausführungsform des Herstellungsverfahrens der transparenten Elektrode gemäß der vorliegenden Erfindung;
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4 ist eine schematische Ansicht der Struktur der Maske in einer anderen Ausführungsform des Herstellungsverfahrens der transparenten Elektrode gemäß der vorliegenden Erfindung; und
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5 ist eine schematische Ansicht der Struktur der Maske in noch einer anderen Ausführungsform des Herstellungsverfahrens der transparenten Elektrode gemäß der vorliegenden Erfindung.
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DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
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Die folgende Beschreibung bezieht sich auf die Zeichnungen und Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung.
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Bezugnehmend auf 2, 2 ist ein Flussdiagramm einer Ausführungsform des Herstellungsverfahrens der transparenten Elektrode gemäß der vorliegenden Erfindung. Das Herstellungsverfahren der transparenten Elektrode die Schritte umfasst:
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Schritt 201: Bildung eines dünnen Films auf einem Glassubstrat, und Beschichtung des dünnen Filmes mit einer Schicht aus Fotolack.
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Ein Dünnfilm durch Vakuumabscheidung, Sputtern, Molekularstrahl-Dampfabscheidung oder chemische Dampfabscheidung auf einem Glassubstrat und einer Schicht aus Fotolack wird durch Fotolack-Beschichtungsmaschine auf dem dünnen Film beschichtet ist.
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Schritt 202: Bestrahlen des Fotolacks durch die Maske.
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Das mit dem Fotolack beschichtete Glassubstrat wird zu einem Photolithographie-Gerät transportiert, die Photolithographie-Lichtquelle bestrahlt den Fotolack durch die Maske. Siehe auch 3. Die Maske beim entsprechenden aktiven Bereich 300 des Flüssigkristallpaneels bildet von dem Außenbereich zum Innenbereich zumindest einen ersten Bereich 310 und einen zweiten Bereich 320 aus. Das Spaltmuster entsprechend der transparenten Elektrode in dem ersten Bereich 310 ist ein erster Spalt 312 und das Spaltmuster entsprechend der transparenten Elektrode in dem zweiten Bereich 320 ist ein zweiter Spalt 322. Der erste Spalt 312 ist größer als ein entsprechender Standard-Spalt. Die Differenz zwischen dem ersten Spalt 312 und dem entsprechenden Standard-Spalt ist größer als die Differenz zwischen dem zweiten Spalt 322 und dem entsprechenden Standard-Spalt.
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Der Standard-Spalt ist der erwartete Spalt zwischen den dünnen Schichten nach dem photolithographischen Ätzen. Idealerweise sollte der Spalt zwischen den dünnen Filmen nach dem photolithographischen Ätzen gleich dem erwarteten Abstand sein.
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Schritt 203: Durchführen eines Photolithographieverfahrens und eines Ätzverfahrens auf dem Glassubstrat nach der Belichtung, um transparente Elektroden auf dem Glassubstrat auszubilden.
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Nach der Belichtung wird das Glassubstrat in der Photolithographie-Lösung für die Photolithographie gestellt zum Entfernen unbelichteter Fotolack. Dann wird die Post-Photolithographie Glassubstrat abgerufen, gewaschen und zu ätzen Gerät transportiert. Ätzlösung hinzugefügt wird, um den Teil nicht mit Photolack beschichtet, wegzuätzen. Schließlich wird der Fotolack entfernt, um das Substrat zu bilden.
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Die Wirksamkeit der vorliegenden Erfindung ist, dass, um getrennt von dem Stand der Technik sein. Die vorliegende Erfindung verwendet die Maske, um einen ersten Bereich in der Nähe der nicht-aktiven Bereich und einen zweiten Bereich weit weg von der nicht-aktiven Bereich anzuordnen. Das Spaltmuster in dem ersten Bereich größer ist als das Spaltmuster in dem zweiten Bereich. Die Dichte der Photolithographie-Lösung und der Dichte der Ätzlösung in dem ersten Bereich niedriger sind; Dann wird der Standard-Spalt, der im Bereich angeordnet ist, größer zu sein. Die Dichte der Photolithographie-Lösung und der Dichte der Ätzlösung im ersten Bereich höher sind; Dann wird der Standard-Spalt, der im Bereich angeordnet ist, kleiner zu sein. Als solche Folge der Abstandsdifferenz von der Dichtdifferenz kompensiert wird, so dass Spaltfehler gebildeten transparenten Elektroden in dem gesamten aktiven Bereich zu verringern, um Paneeleffekt zu verbessern.
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Bezugnehmend auf 4, 4 ist eine schematische Ansicht, die die Struktur der Maske in einer anderen Ausführungsform des Herstellungsverfahrens der transparenten Elektrode gemäß der vorliegenden Erfindung. Das vorliegende Ausführungsbeispiel des Herstellungsverfahrens der transparenten Elektrode ist ähnlich zu der vorhergehenden Ausführungsform, mit der Ausnahme, dass die Maske an entsprechenden aktiven Bereich der Flüssigkristallpaneel bildet, von der Außenbereich zur Innenbereich, einem ersten Bereich 310, einen zweiten Bereich 320 und einen dritten Bereich 330. Der dritte Bereich 330 ist zwischen dem ersten Bereich 310 und zweiten Bereich 320 und das Spaltmuster entsprechend transparenten Elektrode in dem dritten Bereich 330 angeordnet ist, ist der erste Spalt 312 oder der zweite Spalt 322. Auch sinkt Verhältnis der ersten Spalt 312 allmählich von der äußeren Bereich der inneren Bereich und das Verhältnis der zweiten Spalt 322 nimmt allmählich von der Außenbereich zur Innenbereich.
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Insbesondere ersten Bereich 310, der zweite Bereich 320 und der dritte Bereich 330 verwendet die Pixelgröße als Einheit in rechteckige Bereiche mit dem gleichen Verhältnis von Breite und Länge zu unterteilen. Das Spaltmuster in dem Bereich von der ersten Bereich 310 wird als der erste Spalt 312 definiert. Das Spaltmuster in dem Bereich von dem zweiten Bereich 320 wird als der zweite Spalt 322 definiert. Im dritten Bereich 330 ist der Bereich nah an der ersten Bereich 310 mit der Einheit der ersten Spalt 312 angeordnet ist, ist in der Nähe von 100%, und das Bereich in der Nähe von zweite Bereich 320 ist mit Einheit der zweite Spalt 322 angeordnet ist, ist in der Nähe von 100%. Zwischen den beiden Bereiche, von der äußeren Bereich zu der inneren Bereich, die Anzahl der Einheiten der ersten Spalt 312 allmählich abnimmt und die Zahl der Einheiten der zweiten Spalt 322 allmählich zunimmt.
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Durch Einstellen des Spaltmusters entsprechend transparenten Elektrode in dem dritten Bereich 330, wie der erste Spalt 312 oder dem zweiten Spalt 322, und von dem äußeren Bereich zu dem inneren Bereich, schrittweise Verringerung der Anzahl der Einheiten der ersten Spalt 312 und die schrittweise Erhöhung der Zahl Einheiten der zweite Spalt 322 allmählich zunimmt, wird der Abstandsfehler zwischen den transparenten Elektroden in der gesamten aktiven Bereich nach der Ausbildung reduziert und zusätzliche Herstellungsspezifikation vermieden, um die Schwierigkeiten bei der Maskenverarbeitung zu reduzieren und die Maskenbearbeitungsgenauigkeit.
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Bezugnehmend auf 5, 5 ist eine schematische Ansicht, die die Struktur der Maske in noch einer anderen Ausführungsform des Herstellungsverfahrens der transparenten Elektrode gemäß der vorliegenden Erfindung. Das vorliegende Ausführungsbeispiel des Herstellungsverfahrens der transparenten Elektrode ist ähnlich der vorherigen Ausführungsform, außer dass das Spaltmusters entsprechend transparenten Elektrode in dem dritten Bereich 530 nimmt allmählich von der Außenbereich zur Innenbereich ab. Insbesondere kann das Spaltmuster als der Spalt 1 Spalt 2, Spalt 3, Spalt 4 usw. ausgebildet sein, wobei Spalt 1 > Spalt 2 > Spalt 3 > Spalt 4 > ... usw. ist.
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Die vorliegende Erfindung stellt weiterhin ein Herstellungsausrüstung für eine transparente Elektrode, die einer Photolithographie-Lichtquelle und der Maske umfasst. Die Photolithographielichtquelle erzeugt photolithographisches Licht auf die Maske, wobei die Maske, wie beschrieben. 3 und 4, und die Details werden hier nicht wiederholt.
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Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung beschrieben wurden, aber nicht beabsichtigt ist, irgendeine Einschränkung ungebührlich auf die beigefügten Ansprüche zu verhängen. Jede Änderung des äquivalenten Struktur oder gleichwertige Verfahren hergestellt gemäß der Offenbarung und der Zeichnungen der vorliegenden Erfindung, oder einer beliebigen Anwendung davon direkt oder indirekt, zum anderen verwandten Bereichen der Technik wird als eingeschlossen in den Schutzbereich durch die Muscheln aus dem definierten Erfindung.
