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TECHNISCHES GEBIET
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Die
vorliegende Erfindung betrifft einen Polierkopf zum Halten einer
Rückseite eines Werkstücks, wenn eine Vorderseite
des Werkstücks poliert wird, eine Poliervorrichtung, die
diesen Polierkopf aufweist, und ein Verfahren zum Ablösen
des Werkstücks von einem Polierkissen.
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STAND DER TECHNIK
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Als
Vorrichtung zum Polieren einer Oberfläche eines Halbleiterwafers,
wie beispielsweise eines Siliziumwafers, gibt es eine Einseitenpoliervorrichtung,
bei der das Werkstück jeweils an einer Seite poliert wird,
und eine Doppelseitenpoliervorrichtung, bei der beide Seiten des
Werkstücks zur selben Zeit poliert werden.
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Wie
beispielsweise in der 10 gezeigt ist, umfasst eine übliche
Einseitenpoliervorrichtung einen Drehteller 73, an dem
ein Polierkissen 74 befestigt ist, eine Poliermittel-Zuführeinrichtung 76,
einen Polierkopf 72 und dergleichen. Die Poliervorrichtung 71 poliert
einen Wafer W dadurch, dass der Wafer W mit dem Polierkopf 72 gehalten
wird, dem Polierkissen 74 durch die Poliermittel-Zuführeinrichtung 76 das
Poliermittel 75 zugeführt wird, der Drehteller 73 bzw.
der Polierkopf 72 in Drehung versetzt wird und die Oberfläche
des Wafers W mit dem Polierkissen 74 in Gleitkontakt gebracht
wird.
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Als
Verfahren zum Halten des Werkstücks gibt es ein Verfahren
zum Befestigen des Werkstücks an einer flachen scheibenartigen
Platte mit einem Haftmittel, wie beispielsweise Wachs, ein Verfahren zur
Haftbefestigung des Werkstücks an einem weichen Kissen
(einem Zusatzkissen) mittels Wasser, ein Verfahren zum Ansaugen
des Werkstücks mittels Vakuum und dergleichen.
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In
der 11 ist ein schematisches Beispiel eines Polierkopfs
dargestellt, der das Werkstück mit dem Zusatzkissen hält.
Dieser Polierkopf 91 weist das Zusatzkissen 95 auf,
das aus Polyurethan und dergleichen hergestellt und an der Unterseite
eines scheibenartigen Trägers 92 befestigt ist,
der aus Keramik oder dergleichen besteht.
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Das
Kissen 95 wird sich mit Wasser aufsaugen gelassen, um das
Werkstück W über die Oberflächenspannung
zu halten. Um zu verhindern, dass sich während des Poliervorgangs
das Werkstück W vom Träger 92 löst,
ist um den Träger 92 herum außerdem ein
ringförmiges Formteil 94 vorgesehen.
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Beim
Polieren eines Werkstücks mit großem Durchmesser,
wie zum Beispiel eines Silizium-Einkristallwafers, der insbesondere
einen Durchmesser von 300 mm hat, besteht bei Verwendung eines flachen
Polierkissens ohne Rinne ein Problem dahingehend, dass beim Anheben
des Polierkopfs in dem Bestreben, das Werkstück nach dem
Polieren des Werkstücks vom Polierkissen abzulösen,
das polierte Werkstück an einer Oberfläche des
Polierkissens aufgrund der Oberflächenspannung des Poliermittels anhaftet
und dadurch das Werkstück am Polierkissen verbleibt. Darüber
hinaus besteht ein Problem dahingehend, dass, wenn die Saugkraft
des Polierkopfs für das Werkstück zu stark ansteigt,
den Drehteller halternde Lagerteile mit einer Last beaufschlagt
werden, durch die der Drehteller angehoben wird.
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Angesichts
dieser Probleme wurde zum Beispiel ein Verfahren übernommen,
bei dem die Saugkraft des Polierkissens reduziert wird, indem am
Polierkissen eine Rinne ausgebildet wird, oder bei dem der Polierkopf
angehoben wird, nachdem er den Drehteller einmal seitlich verlassen
hat (nachstehend als Ausscherverfahren bezeichnet. Siehe zum Beispiel
die
japanische Patentanmeldung
mit der Offeniegungsnummer (kokai) 2001-341070 ).
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Bei
der Ausbildung der Rinne am Polierkissen bestehen jedoch Qualitätsprobleme
dahingehend, dass an der Oberfläche des Werkstücks
eine feine Welligkeit entsteht, was auf eine Übertragung der
Rinne des Polierkissens zurückzuführen ist, dass sich
ein Rand des Werkstücks im Rinnenbereich verfängt
und somit beschädigt wird, dass sich eine Senke am äußeren
Umfang ergibt oder dergleichen. Daneben ergeben sich bei dem Ausscherverfahren
Probleme dahingehend, dass die Vorrichtung recht groß wird,
um Platz zum Herausschwenken des Polierkopfs und dergleichen zu
schaffen.
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OFFENBARUNG DER ERFINDUNG
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Angesichts
der vorstehend erläuterten Probleme besteht eine Aufgabe
der vorliegenden Erfindung darin, einen Polierkopf zur Verfügung
zu stellen, bei dem das Werkstück leicht, sicher und zuverlässig vom
Polierkissen abgelöst werden kann, indem der das Werkstück
haltende Polierkopf angehoben wird, ohne den Polierkopf aus dem
Drehteller herauszufahren oder eine Rinne am Polierkissen auszubilden.
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Um
die vorstehend genannte Aufgabe zu lösen, stellt die vorliegende
Erfindung einen Polierkopf zur Verfügung, mit wenigstens
einem scheibenartigen Träger zum Halten einer Rückseite
eines Werkstücks, bei dem ein ringförmiger vorstehender
Abschnitt, der nach oben vorsteht, und ein ringförmiger Trägeranlagebereich,
der vom vorstehenden Abschnitt nach innen ragt, an einem Umfangsabschnitt ausgebildet
sind, einem Kopfkorpus zum Halten des Trägers, in dem innen
ein Raumabschnitt gebildet ist, und einem nach außen ragenden,
ringförmigen Kopfkorpus-Anlagebereich, der außen
ausgebildet ist, wobei der Kopfkorpus drehbar ist, und einer Membran
zum Verbinden des Kopfkorpus mit dem Träger und zum dichten
Verschließen des Raumabschnitts des Kopfkorpus; wobei der
Polierkopf die Rückseite des Werkstücks hält,
wenn sich der Träger in dem Zustand befindet, in welchem
ein Druck des dicht verschlossenen Raumabschnitts mittels einer
Druckeinstelleinrichtung eingestellt ist, die mit dem Raumabschnitt
verbunden ist, wenn eine Vorderseite des Werkstücks poliert
wird, indem sie in Gleitkontakt mit einem Polierkissen gebracht
wird, das an einem Drehteller befestigt ist, und das Werkstück
durch Anheben des Kopfkorpus und des Trägeranlagebereichs
vom Polierkissen abgelöst wird, wobei der Trägeranlagebereich
und der Kopfkorpus-Anlagebereich ineinandergreifen, wenn das Werkstück
vom Polierkissen abgelöst wird, indem nach dem Polieren
des Werkstücks der Polierkopf angehoben wird; wobei ein
Abstandshalter, der zumindest zwischen dem Trägeranlagebereich
und dem Kopfkorpus-Anlagebereich angeordnet ist, in einem Teil des
Trägeranlagebereichs und/oder des Kopfkorpus-Anlagebereichs
vorgesehen ist und sich der Abstandshalter beim Anheben des Kopfkorpus
am Trägeranlagebereich und/oder am Kopfkorpus-Anlagebereich
abstützt, so dass sich das Werkstück vom Polierkissen löst,
indem der Träger in Schräglage angehoben wird,
wenn durch Anheben des Polierkopfs das Werkstück vom Polierkissen
abgelöst wird.
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Wenn
das Werkstück mit dem vorstehend beschriebenen Polierkopf
poliert wurde und es nach dem Polieren vom Polierkissen abgelöst
wird, kann das Werkstück vom Polierkissen leicht, sicher
und zuverlässig abgelöst werden. Da ferner der
Neigungswinkel beim Anheben des Polierkopfs durch Einstellung einer
Dicke des Abstandshalters eingestellt werden kann, lässt
sich darüber hinaus der Neigungswinkel des Polierkopfs
durch einen einfachen Vorgang einstellen. Im Gegensatz zum Verfahren
der Ausbildung der Rinne am Polierkissen verschlechtert sich darüber
hinaus die Qualität der polierten Oberfläche des
Werkstücks nicht, und anders als beim Ausscherverfahren
ist es auch nicht notwendig, dass eine Poliervorrichtung große
Abmessungen aufweist.
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Dabei
ist es bevorzugt, dass der Polierkopf ein Zusatzkissen an einer
Fläche des Trägers hat, wobei die Fläche
die Rückseite des Werkstücks hält.
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Wenn
der Polierkopf über ein Zusatzkissen an der Fläche
des Trägers verfügt, wobei die Fläche die
Rückseite des Werkstücks hält, kann auf
diese Weise der Träger das Werkstück sicher halten.
Die Verwendung des vorstehend beschriebenen Polierkopfs ermöglicht
dadurch ein zuverlässigeres Ablösen des Werkstücks
vom Polierkissen.
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Der
Träger kann darüber hinaus in der Lage sein, als
Werkstück einen Halbleiterwafer mit einem Durchmesser von
300 mm oder mehr zu halten.
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Selbst
wenn der Träger als Werkstück einen Halbleiterwafer
mit einem Durchmesser von 300 mm oder mehr hält, wobei
der Halbleiterwafer nach dem Polieren mit einer starken Kraft am
Polierkissen anhaftet, kann bei Verwendung des Polierkopfs gemäß der
vorliegenden Erfindung das Werkstück auf diese Weise leicht,
sicher und zuverlässig vom Polierkissen abgelöst
werden.
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Die
vorliegende Erfindung stellt darüber hinaus eine Poliervorrichtung
zur Verfügung, die zum Polieren einer Oberfläche
eines Werkstücks verwendet wird, und zumindest Folgendes
umfasst: ein an einem Drehteller befestigtes Polierkissen; eine
Poliermittel-Zuführeinrichtung, um dem Polierkissen ein Poliermittel
zuzuführen; und einen Polierkopf zum Halten des Werkstücks,
bei dem es sich um den Polierkopf gemäß der vorliegenden
Erfindung handelt.
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Wenn
das Werkstück poliert ist und nach seinem Poliervorgang
mit der Poliervorrichtung, die den Polierkopf gemäß der
vorliegenden Erfindung umfasst, vom Polierkissen abgelöst
wird, kann die Poliervorrichtung das Werkstück vom Polierkissen leicht,
sicher und zuverlässig ablösen. Im Gegensatz zum
Verfahren der Ausbildung der Rinne am Polierkissen verschlechtert
sich darüber hinaus die Qualität der polierten
Oberfläche des Werkstücks nicht, und anders als
beim Ausscherverfahren ist es auch nicht notwendig, dass eine Poliervorrichtung
große Abmessungen aufweist.
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Dabei
ist es bevorzugt, dass die Poliervorrichtung eine Einrichtung zur
automatischen Einstellung einer Drehstoppposition des Polierkopfs
hat.
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So
kann, wenn die Poliervorrichtung die Einrichtung zum automatischen
Einstellen der Drehstoppposition des Polierkopfs hat, die Poliervorrichtung
die Drehwinkelpositi on des Polierkopfs auf die Position einstellen,
in der sich der Wafer leichter löst, und den Polierkopf
in einer entsprechenden Position anhalten.
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Die
vorliegende Erfindung stellt darüber hinaus ein Verfahren
zum Ablösen eines Werkstücks von einem Polierkissen
nach dem Abrichten des an einem Drehteller befestigten Polierkissens
und zum Bringen einer Oberfläche des Werkstücks
zum Polieren in Gleitkontakt mit dem abgerichteten Polierkissen
zur Verfügung, das die folgenden Schritte umfasst: Halten
und Polieren des Werkstücks mit dem Polierkopf gemäß der
vorliegenden Erfindung; Anhalten der Drehung des Polierkopfs derart,
dass eine Drehposition des Abstandshalters von einem Mittelpunkt
des Polierkopfs innerhalb von 30° in Bezug auf einen Mittelpunkt
des Polierkissens liegt; und Ablösen des Werkstücks
durch Anheben des Kopfkorpus in der Drehposition.
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Das
Verfahren des Abrichtens bzw. Glättens des Polierkissens,
des Polierens der Vorderseite des Werkstücks mit dem Polierkopf
gemäß der vorliegenden Erfindung, des Anhaltens
der Drehung des Polierkopfs derart, dass nach dem Polieren des Werkstücks
die Drehposition des Abstandshalters vom Mittelpunkt des Polierkopfs
innerhalb von 30° in Bezug auf den Mittelpunkt des Polierkopfs
liegt, und des Ablösens des Werkstücks vom Polierkopf
ermöglicht auf diese Art und Weise ein leichteres, sichereres und
zuverlässigeres Ablösen des Werkstücks
vom Polierkopf. Im Gegensatz zum Verfahren der Ausbildung der Rinne
am Polierkissen verschlechtert sich darüber hinaus die
Qualität der polierten Oberfläche des Werkstücks
nicht, und anders als beim Ausscherverfahren ist es auch nicht notwendig,
dass eine Poliervorrichtung große Abmessungen hat.
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Die
Verwendung des Polierkopfs gemäß der vorliegenden
Erfindung ermöglicht ein leichtes, sicheres und zuverlässiges
Ablösen des Werkstücks vom Polierkissen, ohne
dass sich beim Ablösen des Werkstücks vom Polierkissen
nach dem Polieren des Werkstücks die Qualität
der polierten Oberfläche des Werkstücks verschlechtert.
Da durch Einstellen der Dicke des Abstandshalters der Neigungswinkel
beim Anheben des Polierkopfs eingestellt werden kann, lässt
sich der Neigungswinkel des Polierkopfs außerdem durch
einen einfachen Vorgang einstellen, und auch die Ablösebedingungen
eines Wafers können leicht angepasst werden.
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Zusätzlich
ist durch das nach dem Abrichten stattfindende Polieren des Werkstücks
mit dem Polierkopf gemäß der vorliegenden Erfindung,
das Anhalten der Drehung des Polierkopfs in so einer Art und Weise,
dass der Abstandshalter dem Nahbereich eines Mittelpunkts des Drehtellers
entspricht, und das Ablösen des Werkstücks vom Polierkissen
ein leichteres, sichereres und zuverlässigeres Ablösen des
Werkstücks vom Polierkissen möglich.
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KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
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1 ist
eine schematische Schnittansicht, die eine erste Ausführungsform
des Polierkopfs gemäß der vorliegenden Erfindung
zeigt;
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2 ist
eine schematische Draufsicht, die ein Beispiel des Polierkopfs gemäß der
vorliegenden Erfindung zeigt;
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3 ist
eine schematische grundlegende Ansicht, die ein Beispiel der Poliervorrichtung
zeigt, die den Polierkopf gemäß der vorliegenden
Erfindung umfasst;
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4 ist
eine schematische Schnittansicht, die eine Bewegung zum Zeitpunkt
des Ablösens des Werkstücks vom Polierkissen unter
Verwendung des Polierkopfs gemäß der vorliegenden
Erfindung zeigt;
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5 ist
eine schematische Schnittansicht, die eine Bewegung zum Zeitpunkt
des Ablösens des Werkstücks vom Polierkissen unter
Verwendung des Polierkopfs gemäß der vorliegenden
Erfindung zeigt;
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6 ist
eine erläuternde Ansicht, die den Fall zeigt, bei dem man
von oben auf die Drehstoppposition des Polierkopfs blickt;
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7(a) ist eine schematische Draufsicht, die
eine Art des Abrichtens zeigt, und
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7(b) ist ein Diagramm, das eine nach dem
Zurichten bestehende Höhenverteilung in Durchmesserrichtung
des Polierkissens zeigt;
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8 ist
eine schematische Schnittansicht, die ein Beispiel des Polierkopfs
zeigt, der über den Abstandshalter am Kopfkorpus verfügt;
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9 ist
eine schematische Schnittansicht, die eine Bewegung zum Zeitpunkt
des Ablösens des Werkstücks vom Polierkissen durch
Anheben des Polierkopfs zeigt, und zwar in einer Position, in der
es keinen Abstandshalter gibt;
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10 ist
eine schematische grundlegende Ansicht, die ein Beispiel für
eine Einseitenpoliervorrichtung zeigt;
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11 ist
eine schematische grundlegende Ansicht, die ein Beispiel für
eine herkömmliche Doppelseitenpoliervorrichtung zeigt;
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12 sind
schematische Schnittansichten, die ein Beispiel für ein
Verfahren zum Zusammenbauen des Polierkopfs gemäß der
vorliegenden Erfindung zeigen; und
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13 ist
eine schematische Schnittansicht, die eine zweite Ausführungsform
des Polierkopfs gemäß der vorliegenden Erfindung
zeigt.
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BESTE ARTEN ZUR AUSFÜHRUNG
DER ERFINDUNG
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Im
Folgenden wird die vorliegende Erfindung nun näher erläutert.
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Wie
vorstehend beschrieben ist, besteht beim Polieren eines Werkstücks
mit großem Durchmesser unter Verwendung des Polierkissens
ohne die Rinne ein Problem dahingehend, dass beim Anheben des Polierkopfs
in dem Bestreben, das Werkstück nach seinem Poliervorgang
vom Polierkissen zu lösen (auch als Trennen oder Abziehen
bezeichnet), das polierte Werkstück an der Oberfläche
des Polierkissens anhaftet und es dadurch am Polierkissen verbleibt.
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Angesichts
der Probleme haben die vorliegenden Erfinder sehr genaue Untersuchungen über ein
Verfahren zum leichten Ablösen des Werkstücks vom
Polierkissen angestellt, ohne das Verfahren der Ausbildung einer
Rinne am Polierkissen und auch ohne das Verfahren der Ausscherung
zu verwenden.
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Durch
die Untersuchungen haben die vorliegenden Erfinder herausgefunden,
dass beim Anheben des das Werkstück haltenden Polierkopfs
das Werkstück abgelöst werden kann, indem ein
ganz spezifischer Bereich an einer Werkstückhaltefläche des
Trägers in konzentrierter Art und Weise mit einer Kraft
beaufschlagt wird, an dem die Rückseite (die der zu polierenden
Oberfläche entgegengesetzte Seite) des Werkstücks
gehalten wird, indem der Polierkopf schräggestellt und
angehoben wird. Des Weiteren fanden die vorliegenden Erfinder heraus,
dass sich in der Mitte des Polierkissens eine Form einstellt, die
niedriger liegt als in seinem Randbereich, und hier eine Vertiefung
ergibt, wenn das Abrichten mittels eines normalen Verfahrens erfolgt.
Außerdem sind die vorliegenden Erfinder überzeugt
davon, dass nach dem Polieren zum Zeitpunkt des Ablösens
des Werkstücks vom Polierkissen das Werkstück
leichter vom Polierkissen abgelöst werden kann, indem man es
vom Polierkissen mit einer Kraft ablöst, die im Nahbereich
der in der Mitte des Polierkissens befindlichen Vertiefung aufgebracht
wird, und haben dadurch die vorliegende Erfindung zustande gebracht.
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Nachstehend
werden nun ein Polierkopf und eine Poliervorrichtung gemäß der
vorliegenden Erfindung unter Bezugnahme auf die beigefügten
Figuren genau erklärt. Die vorliegende Erfindung ist jedoch nicht
darauf beschränkt.
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Die 1 zeigt
eine Ausführungsform des Polierkopfs gemäß der
vorliegenden Erfindung (eine erste Ausführungsform). Der
Polierkopf 11 gemäß der vorliegenden
Erfindung umfasst einen noch zu erläuternden Abstandshalter 15.
Zuerst wird der allgemeine Aufbau dargelegt. Der Polierkopf 11 weist einen
Kopfkorpus 12 auf. Innerhalb des Kopfkorpus 12 ist
ein Raumabschnitt 18 gebildet. Der Kopfkorpus 12 ist
drehbar und hat zur Druckeinstellung eine Durchgangsbohrung 20,
die mit einer an seinem oberen Teil mittig angeordneten Druckeinstellvorrichtung 19 in
Verbindung steht.
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Der
Kopfkorpus 12 ist durch eine Membran 14 mit einem
scheibenartigen Träger 13 verbunden, der konzentrisch
angeordnet ist. Durch die Verbindung über die Membran 14 hält
der Kopfkorpus 12 den Träger 13, und
der Raumabschnitt 18 des Kopfkorpus 12 ist dicht
verschlossen.
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Eine
nicht gezeigte Einrichtung für eine vertikale Bewegung
bewirkt, dass sich der Kopfkorpus 12 in Vertikalrichtung
bewegt.
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Der
Träger 13 wird dazu verwendet, die Rückseite
(die der zu polierenden Oberfläche entgegengesetzte Seite)
des Werkstücks W zu halten. Es kann zum Beispiel der Träger 13 verwendet
werden, bei dem die Haltefläche flach ist, dessen Steifigkeit hoch
ist und der auch keine metallische Kontamination des Werkstücks
W verursacht. Für den Träger wird vorzugsweise
eine kreisförmige Platte verwendet, die aus Keramik wie
zum Beispiel Aluminiumoxid hergestellt ist. Daneben können
auch andere Träger wie etwa ein so genannter Gummispannträger
verwendet werden, der später beschrieben wird.
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Außerdem
ist es bevorzugt, dass ein Durchmesser der Werkstückhaltefläche
des Trägers 13 einem Durchmesser des zu polierenden
Werkstücks W entspricht oder geringfügig größer
als ein Durchmesser des Werkstücks W ist, um die gesamte
Rückseite des Werkstücks W zu unterstützen.
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Für
die Membran 14 kann vorzugsweise ein hochelastisches Material,
wie beispielsweise Elastomer und Gummi, verwendet werden. Eine aus
dem wie oben beschriebenen Material hergestellte Folie der Membran 14 wird
jeweils am Kopfkorpus 12 und Träger 13 durch
Schrauben und dergleichen fixiert, so dass der Kopfkorpus, der Träger
und die Membran miteinander verbunden sind und der Raumabschnitt 18 des
Kopfkorpus 12 dicht verschlossen ist.
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Außen
am Kopfkorpus 12 ist ein ringförmiger Kopfkorpus-Anlagebereich 12a ausgebildet,
der nach außen ragt. Am Träger 13 sind
ein nach oben vorspringender, ringförmiger vorstehender
Abschnitt 13a und ein ringförmiger Trägeranlagebereich 13b ausgebildet.
Ein Außendurchmesser des Kopfkorpus-Anlagebereichs 12a ist
größer als ein Innendurchmesser des Trägeranlagebereichs 13b.
Wie in der 9 gezeigt ist, greifen bei Anheben
des Kopfkorpus 12 zum Ablösen des Werkstücks
vom Polierkissen eine ringförmige Anlagefläche
des Kopfkorpus-Anlagebereichs 12a und der Trägeranlagebereich 13b aneinander
in einer Position an, in der sich kein Abstandshalter befindet.
Da der Abstandshalter 15 vorgesehen ist, existiert tatsächlich
auch ein Bereich mit einem Spalt zwischen dem Kopfkorpus-Anlagebereich 12a und
dem Trägeranlagebereich 13b, wobei der Bereich
in der Figur aber nicht gezeigt ist.
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Um
den Kopfkorpus 12 sich in Vertikalrichtung bewegen zu lassen,
muss der vorstehende Abschnitt 13a des Trägers
weiter nach oben vorstehen als der Kopfkorpus-Anlagebereich 12a,
und sein Innendurchmesser muss größer sein als
der Außendurchmesser des Kopfkorpus-Anlagebereichs 12a. Ein
Abschnitt innerhalb des vorstehenden Abschnitts 13a des
Trägers 13 ist nicht notwendigerweise flach und
kann eine konvexe Gestalt haben, die in den Raumabschnitt des Kopfkorpus 12 eintritt.
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Die
wie vorstehend beschriebene positionelle Beziehung zwischen dem
Kopfkorpus 12 und dem Träger 13 kann
durch das wie in der 12 gezeigte Verfahren erhalten
werden, wobei die vorliegende Erfindung aber nicht darauf beschränkt
ist.
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Was
den Träger 13 anbelangt, werden zuerst ein erstes
Teil 13c, das aus einem Teil des ringförmigen
vorstehenden Abschnitts 13a und dem Trägeranlagebereich 13b besteht,
und ein zweites Teil 13d, das aus anderen Abschnitten,
in erster Linie aus einem scheibenartigen Abschnitt besteht, separat
vorbereitet (12(a)). Als Nächstes
wird auf das zweite Teil 13d der Kopfkorpus 12 aufgesetzt,
an dem die Membran 14 mittels Schrauben und dergleichen
befestigt ist (12(b)). Danach wird
das erste Teil 13c am zweiten Teil 13d mittels
Schrauben und dergleichen befestigt, infolgedessen der Träger 13 entsteht (12(c)). Es ist zu beachten, dass die Membran 14 am
Träger 13 mittels derselben Schrauben befestigt
werden kann, mit denen das erste Teil 13c am zweiten Teil 13d fixiert
wird.
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Es
ist zu beachten, dass bei Verbindung von Träger 13 und
Kopfkorpus 12 zwischen dem vorstehenden Abschnitt 13a des
Trägers 13 und dem Kopfkorpus-Anlagebereich 12a durch
die Membran 14 sein Aufbau einfach wird und von daher bevorzugt
ist. Die vorliegende Erfindung ist jedoch nicht hierauf beschränkt.
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Vorzugsweise
ist an der Fläche (der Haltefläche) des Trägers 13,
an der die Rückseite des Werkstücks W gehalten
ist, ein Zusatzkissen 17 vorgesehen. Das aus geschäumtem
Polyurethan hergestellte Zusatzkissen 17 ist an der Haltefläche
des Trägers 13 beispielsweise mit einem doppelseitigen
Schichtband und dergleichen fixiert. Indem man ein solches Zusatzkissen 17 vorsieht
und es sich mit Wasser vollsaugen lässt, kann das Werkstück
W durch die Oberflächenspannung des im Zusatzkissen 17 enthaltenen
Wassers sicherer gehalten werden.
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An
einem Umfangsabschnitt des Trägers 13, d. h. außerhalb
der Werkstückhaltefläche, kann ein Formteil 16 vorgesehen
sein. Das Formteil 16 wird dazu verwendet, einen Randbereich
des Werkstücks W zu halten und ist so angeordnet, dass
es sich entlang des Umfangsabschnitts des Trägers 13 nach
unten erstreckt. Das Formteil 16 hält den Randbereich des
Werkstücks so, dass das Werkstück sich nicht vom
Träger 13 lösen kann, wobei das Formteil 16 nicht
auf das Polierkissen 22 drückt. Das Formteil 16 ist
vorzugsweise aus einem Material hergestellt, welches das Werkstück
W nicht kontaminiert, und ist weicher als das Werkstück
W, um keine Kratzer oder Abdrücke zu verursachen.
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Ein
nicht gezeigter Abrichtring kann am Umfang des Formteils 16 angeordnet
sein, wobei der Abrichtring während des Polierens auf das
Polierkissen 22 drückt, um eine wellige Verformung
des Polierkissens 22 zu verhindern. Der Abrichtring besteht
vorzugsweise aus einem Material, das keine metallische Kontamination
am Werkstück W verursacht und das bei Kontakt mit dem Polierkissen 22 einen
kleinstmöglichen Verschleiß hat. Vorzugsweise
wird zum Beispiel ein aus Aluminiumoxid bestehender Ring verwendet.
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Wie
in der 1 gezeigt ist, ist der Polierkopf 11 gemäß der
vorliegenden Erfindung mit dem vorstehend erwähnten allgemeinen
Aufbau mit einem Abstandshalter 15 versehen, der zumindest
zwischen dem Trägeranlagebereich und dem Kopfkorpus-Anlagebereich
in einem Teil von zumindest entweder dem Trägeranlagebereich
oder dem Kopfkorpus-Anlagebereich angeordnet ist. Der Abstandshalter 15 ist
in der Ausführungsform in der 1 am Trägeranlagebereich 13b mit
Schrauben und dergleichen fixiert. Es ist zu beachten, dass der
Abstandshalter 15, wie in der 2 gezeigt,
an einem Teil des ringförmigen Trägeranlagebereichs 13b angebracht ist,
wenn man von oben auf ihn blickt. Der Abstandshalter kann aus jedem
Material hergestellt sein, solange das Material über eine
gewisse Steifigkeit verfügt und sich nicht leicht verformt.
Die Größe des Abstandshalters 15 ist
nicht beschränkt, solange der Abstandshalter zum Zeitpunkt
des Aufsetzens am Kopfkorpus-Anlagebereich 12a nicht instabil
wird. Die Größe des Abstandshalters kann zum Beispiel ungefähr
ein Zehntel des Innendurchmessers des Trägeranlagebereichs 13b betragen.
Des Weiteren ist auch die Querschnittsform des Abstandshalters 15 nicht
beschränkt, solange der Abstandshalter zwischen dem Trägeranlagebereich 13b und
dem Kopfkorpus-Anlagebereich 12a angeordnet ist. Wenn zum Beispiel,
wie in der 1 gezeigt ist, der Abstandshalter
eine solche Form hat, dass er den Trägeranlagebereich 13b umgreift
und von oben mittels Schrauben fixiert ist, ist davon auszugehen,
dass er stabil ist. Die vorliegende Erfindung ist aber nicht darauf beschränkt.
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Wie
nachstehend beschrieben wird, ist, wenn der Träger 13 in
Schräglage angehoben wird, die Dicke des Abstandshalters 15 entsprechend
eingestellt, zum Beispiel so, dass der Neigungswinkel des Trägers
ca. 0,1 bis 1° beträgt. Die Dicke des Abstandshalters 15 wird
in einfacher Art und Weise eingestellt, wünschenswerterweise
durch die vorab erfolgende Vorbereitung von Abstandshaltern in verschiedenen
Dicken und durch entsprechendes Auswechseln.
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Da
der Abstandshalter 15 während des Polierens des
Werkstücks den Kopfkorpus-Anlagebereich 12a nicht
berührt, kann das Werkstück so gut wie bei einem
allgemeinen Polierkopf poliert werden, und zwar ohne Veränderung
im Vergleich zu einem Polierkopf, der nicht über den Abstandshalter 15 verfügt,
und somit besteht kein Problem hinsichtlich der Polierqualität
des Werkstücks.
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13 zeigt
den Polierkopf, bei dem der Träger ein Gummispannträger
ist, als zweite Ausführungsform des Polierkopfs gemäß der
vorliegenden Erfindung.
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Der
Polierkopf 61 umfasst hauptsächlich den Kopfkorpus 12 und
den Gummispannträger 62, der mit dem Kopfkorpus 12 durch
die Membran 14 verbunden ist. Durch die Verbindung mittels
der Membran 14 hält der Kopfkorpus 12 den
Gummispann träger 62, der Raumabschnitt 18 ist
dicht verschlossen und die Durchgangsbohrung 20 zur Druckeinstellung,
die mit der Druckeinstellvorrichtung 19 in Verbindung steht,
ist wie bei der vorhergehenden ersten Ausführungsform in
der Mitte des oberen Teils des Kopfkorpus 12 vorgesehen.
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Der
Gummispannträger 62 hat ein oberes Trägerteil 63 und
ein Gummiteil 65, das mit gleichförmiger Spannung
mit einem ringförmigen, steifen Ring 64 verbunden
ist, der aus einem steifen Material wie etwa SUS (rostfreier Stahl)
oder dergleichen hergestellt ist, und hat eine flache Unterseite.
Die Haltefläche des Werkstücks W ist eine Unterseite
des Gummiteils 65. Der Gummispannträger hat auch
einen Werkstück-Andrückraum 66 auf der
der Werkstückhaltefläche des Gummiteils 65 entgegengesetzten Seite.
Dem Werkstück-Andrückraum 66 wird ein
Fluid durch einen Fluidzuführkanal 68 zugeführt,
der mit einer Druckeinstelleinrichtung 67 in Verbindung steht,
um auf das Werkstück einen Druck auszuüben. Das
Gummiteil 65 kann mit einem gleichmäßigen Druck
beaufschlagt werden, indem mittels der Druckeinstelleinrichtung 67 dem
Werkstück-Andrückraum 66 Druckluft zugeführt
wird, um auf das Werkstück einen Druck auszuüben,
und das Werkstück kann mit einem gleichmäßigen
Druck gegen das auf dem Drehteller 21 befindliche Polierkissen 22 gedrückt werden.
Das Erzeugen eines Vakuums im Werkstück-Andrückraum 66 mit
der Druckeinstellvorrichtung 67 zum Andrücken
des Werkstücks ermöglicht das Ansaugen des Werkstücks
W am Gummiteil 65. Außerdem kann das Zusatzkissen 17 an
der Unterseite des Gummiteils 65 vorgesehen sein, und das Zusatzkissen 17 kann
das Werkstück W ansaugen. Darüber hinaus kann
das Formteil 16 vorgesehen sein.
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Der
vorstehende Abschnitt 63a und der Trägeranlagebereich 63b sind
am oberen Trägerteil 63 gebildet. Wie bei der
vorhergehenden ersten Ausführungsform ist der Abstandshalter 15 so
vorgesehen, dass der Abstandshalter 15 zumindest zwischen
dem Trägeranlagebereich 63b und dem Kopfkorpus-Anlagebereich 12a in
einem Teilbereich von zumindest entweder dem Trägeranlagebereich 63b oder
dem Kopfkorpus-Anlagebereich 12a sitzt.
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Zusätzlich
zu dem Gummispannträger mit einem wie vorstehend beschriebenen
typischen Aufbau können verschiedene, herkömmlicherweise
bekannte Gummispannträger übernommen werden.
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Die 3 zeigt
eine grobe Zeichnung einer Poliervorrichtung 31, die mit
dem vorstehend beschriebenen Polierkopf 11 gemäß der
vorliegenden Erfindung versehen ist. Die Poliervorrichtung 31 umfasst
das am Drehteller 21 befestigte Polierkissen 22, und
zusätzlich zum Polierkopf 11 eine Poliermittel-Zuführvorrichtung 36,
um dem Polierkissen 22 ein Poliermittel 35 zuzuführen.
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Vor
dem Polieren des Werkstücks W unter Verwendung der Poliervorrichtung 31 wird
zuerst das Abrichten bzw. Glätten des Polierkissens 22 durchgeführt.
Dieses Abrichten erfolgt wie üblich mittels eines gewöhnlichen
Abrichters, wie in der 7(a) gezeigt
ist.
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Normalerweise
wird zumindest ein Bereich, in dem das Werkstück während
seines Poliervorgangs einen Gleitkontakt hat, unter Verwendung des Abrichters
abgerichtet, der größer als das zu polierende
Werkstück ist.
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Als
Abrichter wird zum Beispiel ein Radabrichter 41 verwendet,
bei dem ein Außendurchmesser eines Abschnitts, der am Polierkissen 22 anliegt, geringfügig
größer als ein Radius des Drehtellers 21 ist
und sein Innendurchmesser geringfügig kleiner als der Radius
des Drehtellers 21 ist (beispielsweise beim Polieren eines
Siliziumwafers mit einem Durchmesser von 300 mm unter Verwendung
eines Drehtellers mit einem Durchmesser von 800 mm beträgt der
Außendurchmesser des Abschnitts, der am Polierkissen anliegt,
etwa 410 mm und sein Innendurchmesser liegt bei etwa 380 mm). Mit
dem Radabrichter 41 wird das Abrichten durchgeführt,
indem der Radabrichter 41 eingespannt und der Drehteller 21 in Drehung
versetzt wird, während der Radabrichter am Polierkissen 22 anliegt.
In diesem Fall kann der Radabrichter 41 gedreht und mit
einer Amplitude von ungefähr einem Zehntel des Radius des
Drehtellers in Durchmesserrichtung des Drehtellers 21 verschwenkt
werden.
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Wie
vorstehend erwähnt, haben die vorliegenden Erfinder herausgefunden,
dass bei Ausführung des Abrichtens mittels eines wie vorstehend
erwähnten normalen Verfahrens das Polierkissen eine Form
annimmt, die in der Mitte tiefer ist als am Außenrand,
und wie in der 7(b) gezeigt eine Mulde hat.
Es ist zu beachten, dass das Diagramm in der 7(b) die
Höhenverteilung des Polierkissens in der Durchmesserrichtung
des Drehtellers zeigt und zwei Kurven im Diagramm Höhenverteilungen
des Polierkissens in zwei zueinander senkrechten Richtungen in einer
oberen Ebene des Drehtellers zeigen.
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Es
ist davon auszugehen, dass dies darin begründet liegt,
dass die Schwingdauer am Abrichter in der Nähe des Mittelpunkts
des Polierkissens länger als am Umfang ist, wenn das Abrichten
mittels des Radabrichters erfolgt.
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Nach
dem wie vorstehend beschriebenen üblichen Abrichten wird
das Werkstück W mittels der Poliervorrichtung 31,
die mit dem Polierkopf 11 gemäß der vorliegenden
Erfindung versehen ist, poliert.
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Wenn
das Werkstück W unter Verwendung der Poliervorrichtung 31 poliert
wird, wird zuerst das Werkstück W mit dem Träger 13 gehalten,
z. B. indem es am Zusatzkissen 17 befestigt wird, das Wasser
enthält, um die Rückseite des Werkstücks
W festzuhalten, und der Randbereich des Werkstücks W wird
mit dem Formteil 16 gehalten.
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Dann
wird durch die Poliermittel-Zuführeinrichtung 36 dem
Polierkissen 22 das Poliermittel 35 zugeführt,
während das Werkstück W in Gleitkontakt mit dem
Polierkissen 22 steht, wobei sich der Polierkopf 11 und
der Drehteller 21 in jeweils vorgeschriebener Richtung
drehen. Zu dieser Zeit kann durch Einstellen des Drucks des dicht
verschlossenen Raumabschnitts 18 des Kopfkorpus 12 mit
der Druckeinstelleinrichtung 19 die Membran 14 elastisch
verformt werden. Wenn dem Raumabschnitt 18 von der Druckeinstelleinrichtung 19 zum
Beispiel Druckluft zugeführt wird, verformt sich die Membran 14 elastisch
zwischen dem Kopfkorpus 12 und dem Träger 13,
und der Träger 13 wird mit einem vorgeschriebenen
Druck gegen die Seite des Polierkissens 22 gedrückt.
Auf diese Weise kann durch elastische Verformung der Membran 14 mittels
der Druckeinstelleinrichtung 19 die Vorderseite des Werkstücks
W poliert werden, während das durch den Träger 13 gehaltene Werkstück
W mit einer vorgeschriebenen Andruckkraft gegen das am Drehteller 21 befindliche
Polierkissen 22 gedrückt wird und das Werkstück
W in Bezug auf das Polierkissen 22 gedreht wird.
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Es
ist zu beachten, dass sich die Vertiefung im Nahbereich der Mitte
des Polierkissens 22 durch die Andruckkraft des Werkstücks
W so weit abflacht, dass sie beim Polieren des Werkstücks
W außer Acht gelassen werden kann; es besteht kein Problem
hinsichtlich der Polierqualität des Werkstücks.
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Außerdem
kann das Werkstück W mit dem Polierkopf 11 so
poliert werden, dass er beim Polieren des Werkstücks W
verschwenkt wird.
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Nach
dem wie vorstehend beschriebenen Abrichten und Polieren des Werkstücks
W wird das Werkstück W vom Polierkissen 22 durch
das folgende Verfahren abgelöst.
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Zuerst
wird die Drehung des Polierkopfs 11 so angehalten, dass
der Abstandshalter 15 nahe der im Mittenabschnitt des Polierkissens 22 gebildeten Vertiefung
liegt.
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Genauer
gesagt wird, wie in der 6 gezeigt ist, die Drehung des
Polierkopfs 11 so angehalten, dass die Drehposition des
Abstandshalters 15 von der Mitte des Polierkopfs 11 (und
zwar der Mitte des Drehtellers 21) innerhalb von 30° in
Bezug auf die Mitte des Polierkissens 22 liegt. Noch bevorzugter
liegt die Drehposition des Abstandshalters 15 von der Mitte
des Polierkopfs 11 gesehen innerhalb von 15° in
Bezug auf die Mitte des Polierkissens 22 und am meisten
bevorzugt liegt sie auf einer Linie, die die Mitte des Polierkopfs 11 mit
der Mitte des Polierkissens 22 verbindet.
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Ein
Verfahren zum Anhalten der Drehposition des Polierkopfs 11 in
der vorgenannten vorgeschriebenen Position ist nicht beschränkt,
aber ein automatisches Anhalten in der vorgeschriebenen Position
ist leicht machbar und dementsprechend wünschenswert. Deshalb
ist die Poliervorrichtung 31 vorzugsweise mit einer Einrichtung
zur automatischen Einstellung der Drehstoppposition des Polierkopfs 11 versehen
(zum Beispiel mit einer Servoeinrichtung oder dergleichen).
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Nach
dem Anhalten der Drehung des Polierkopfs 11, wie vorstehend
beschrieben, wird das Werkstück W vom Polierkissen 22 durch
Anheben des Kopfkorpus 12 wie folgt abgelöst.
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Zuerst
wird, wie in der 4 gezeigt ist, der Kopfkorpus 12 angehoben,
und demzufolge stützt sich der Abstandshalter 15 am
Kopfkorpus-Anlagebereich 12 ab. Wenn in diesem Zustand
die Hubkraft weiter besteht, wird der Abstandshalter 15 konzentriert
mit einer Kraft beaufschlagt, die dann in konzentrierter Art auf
einen Bereich der Werkstückhaltefläche des Trägers 13 wirkt,
wobei sich der Bereich in der Umgebung genau unterhalb des Abstandshalters 15 befindet.
Wenn der Abstandshalter 15 nahe der Mitte des Polierkissens 22 liegt,
wobei in diesem Nahbereich eine leichte Vertiefung besteht, dann liegt
der Bereich der Werkstückhaltefläche des Trägers 13,
auf den sich die Kraft fokussiert, auch im Nahbereich der Mitte
des Polierkissens 22, wobei in diesem Nahbereich eine leichte
Vertiefung besteht. Daher kann das Werkstück W leicht und
stabil vom Polierkissen 22 abgelöst werden.
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Wenn
der Polierkopf weiter angehoben wird, stützt sich, wie
in der 5 gezeigt, der Kopfkorpus-Anlagebereich 12a am
Abstandshalter 15 und an dem dem Abstandshalter 15 entgegengesetzten
Abschnitt des ringförmigen Trägeranlagebereichs 13b ab,
und der Träger 13 wird unter Schräglage
angehoben.
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Es
ist zu beachten, dass die Dicke des Abstandshalters 15 in
geeigneter Weise so eingestellt wird, dass sich das Werkstück
W vom Polierkissen 22 gleichbleibend ab löst. Wie
vorstehend beschrieben ist, kann beim Anheben des Trägers 13 unter Schräglage
die Dicke des Abstandshalters 15 so eingestellt sein, dass
der Neigungswinkel ca. 0,1 bis 1° beträgt.
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Es
ist zu beachten, dass sich die Wirkungen der vorliegenden Erfindung
erzielen lassen, solange das zu polierende Werkstück nicht
beträchtlich kleiner als der Abrichtbereich ist, da der
Umfangsabschnitt des Werkstücks im Bereich der Vertiefung nahe
der Mitte des Polierkissens liegt.
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Außerdem
lassen sich, sobald das Abrichten erfolgt ist, die Wirkungen der
vorliegenden Erfindung auch dann erzielen, wenn das Polieren des
Werkstücks und das Ablösen vom Polierkissen innerhalb einer
normalen Spanne ohne Abrichten wiederholt werden.
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Im
Rahmen der bisherigen Erläuterung ist der Abstandshalter,
mit dem der Polierkopf der vorliegenden Erfindung versehen ist,
am Trägeranlagebereich 13b angebracht. Der Abstandshalter 15 kann aber
auch, wie in der 8 gezeigt ist, am Kopfkorpus-Anlagebereich 12a oder
sowohl am Trägeranlagebereich 13b als auch am
Kopfkorpus-Anlagebereich 12a befestigt sein.
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Nachstehend
werden Beispiele und ein Vergleichsbeispiel der vorliegenden Erfindung
erläutert.
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(Beispiel 1)
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Der
wie in der 13 aufgebaute Polierkopf 61 wurde
wie folgt hergestellt. Es wurden ein aus rostfreiem Stahl hergestellter
Kopfkorpus 12 und ein Träger 63 vorbereitet,
bei welchem die Werkstückhaltefläche durch das
Gummiteil 65 gebildet ist, der Werkstück-Andrückraum 66 ist
an der Rückseite des Gummiteils vorgesehen und das Gummiteil 65 kann mit
einem gleichförmigen Druck beaufschlagt werden, indem dem
Werkstück-Andrückraum 66 mit der Druckeinstelleinrichtung 67 Druckluft
zugeführt wird. Die Elemente wurden durch die Membran 14 miteinander
verbunden.
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Als
Werkstück wurde ein Siliziumwafer mit einem Durchmesser
von 300 mm und einer Dicke von 775 μm wie folgt mittels
der wie in der 3 dargestellten Poliervorrichtung 31 poliert,
die mit dem vorstehend beschriebenen Polierkopf 61 versehen war
(die 3 zeigt eine Ausführungsform, bei der der
Polierkopf 11 der 1 vorgesehen
ist, wobei bei diesem Beispiel eine Ausführungsform mit
Polierkopf 61 vorgesehen ist). Der verwendete Siliziumwafer wurde
vorher einem ersten Poliervorgang an seinen beiden Seiten unterzogen,
wobei auch sein Randbereich poliert wurde. Es wurden ein Drehteller 21 mit einem
Durchmesser von 800 mm und ein gewöhnliches Polierkissen 22,
das keine Rinne aufweist, verwendet.
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Vor
dem Polieren erfolgte zuerst das Abrichten des Polierkissens 22.
Als Abrichter 41 wurde der Radabrichter verwendet, wobei
der Außendurchmesser an der Unterseite 410 mm und der Innendurchmesser
an der Unterseite 380 mm betrug. Der Radabrichter 41 wurde
mit einem Druck von 30 kPa angedrückt, der Drehteller 21 drehte
sich mit 29 UpM und das Abrichten wurde 180 Minuten lang ausgeführt.
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Beim
Polieren wurde als Poliermittel eine alkalische Lösung
verwendet, die kolloidales Siliziumoxid enthielt, und der Polierkopf 11 und
der Drehteller 21 wurden mit 31 UpM bzw. 29 UpM gedreht.
Ein Polierdruck (eine Andruckkraft) für das Werkstück
W wurde auf 15 kPa eingestellt. Die Polierdauer lag bei 10 Minuten.
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Nach
der Beendigung des Poliervorgangs des Werkstücks wurde
die Drehung des Polierkopfs 11 so angehalten, dass die
Drehposition des Abstandshalters 15 (mit einer Dicke von
2 mm) von der Mitte des Polierkopfs 11 innerhalb von 30° bezüglich der
Mitte des Polierkissens 22 lag. Der Polierkopf 12 wurde
in der Drehposition so angehoben, dass der Druck (der Druck des
Werkstück-Andrückraums 66; Saugdruck),
der zwischen dem Werkstück W und der Ansaugfläche
des Trägers 13 (des Gummiteils) wirkte, einen
Wert von –45 kPa annahm, und das Werkstück löste
sich in 2 Sekunden ab.
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Das
Polieren und das Ablösen vom Polierkissen wurden mit 300
Werkstücken zur Hälfte ohne Abrichtvorgang wiederholt.
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Im
Ergebnis konnte von den 300 Werkstücken 300 normal
abgelöst werden (Erfolgsrate 100%), womit die Wirkungen
der vorliegenden Erfindung ganz klar erzielt wurden.
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(Beispiel 2)
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Das
Ablösen vom Polierkissen wurde wie bei Beispiel 1 mit 26
Werkstücken getestet, mit der Ausnahme, dass die Drehung
des Polierkopfs angehalten wurde, ohne die Stoppposition des Abstandshalters
einzustellen, und der Polierkopfkorpus 12 wurde nach dem
Polieren des Werkstücks in der Drehposition angehoben.
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Im
Ergebnis konnten von den 26 Werkstücken 24 problemlos
abgelöst werden, allerdings entstand beim Ablösen
von zwei Werkstücken ein ungewöhnliches Geräusch.
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(Vergleichsbeispiel 1)
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Wie
beim Beispiel 1 wurden mittels der mit demselben Polierkopf wie
im Beispiel 1 versehenen Poliervorrichtung Siliziumwafer poliert,
mit der Ausnahme, dass kein Abstandshalter vorgesehen war. Das Ablösen
wurde mit einem Saugdruck von –30 kPa 1 bis 2 Sekunden
lang versucht.
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Das
Ergebnis stellte sich so dar, dass der Drehteller angehoben wurde
und das Werkstück dementsprechend nicht abgelöst
werden konnte.
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Die
vorliegende Erfindung ist nicht auf die vorstehend genannte Ausführungsform
beschränkt. Bei der Ausführungsform handelt es
sich nur um eine beispielhafte Darstellung, und innerhalb des technischen
Umfangs der vorliegenden Erfindung sind alle Ausführungsformen
enthalten, die im Wesentlichen dasselbe Merkmal haben und dieselben
Funktionen und Einflüsse wie die zeigen, die in dem in
den Ansprüchen beschriebenen technischen Konzept enthalten
sind.
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So
ist zum Beispiel der Polierkopf gemäß der vorliegenden
Erfindung nicht auf die in den 1 und 13 gezeigten
Ausführungsformen beschränkt. Mit Ausnahme der
in den Ansprüchen beschriebenen Erfordernisse kann die
dem Polierkopf verliehene Form und dergleichen entsprechend ausgelegt
werden.
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Das
Merkmal der Poliervorrichtung ist auch nicht auf eines beschränkt,
das in der 3 gezeigt ist. Die Poliervorrichtung
kann beispielsweise mehrere Polierköpfe gemäß der
vorliegenden Erfindung aufweisen.
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Zusammenfassung
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Die
vorliegende Erfindung betrifft einen Polierkopf 11 mit
einem scheibenartigen Träger 13, bei dem ein ringförmiger
vorstehender Abschnitt 13a und ein Trägeranlagebereich 13b an
einem Umfangsabschnitt ausgebildet sind, einem scheibenartigen Kopfkorpus 12,
an dem außen ein Kopfkorpus-Anlagebereich 12a ausgebildet
ist, einer Membran 14 zum Verbinden des Kopfkorpus mit
dem Träger, und einem Abstandshalter 15, der zwischen
dem Trägeranlagebereich und Kopfkorpus-Anlagebereich in
einem Teil des Trägeranlagebereichs und/oder des Kopfkorpus-Anlagebereichs
sitzt, in welchem sich der Abstandshalter am Trägeranlagebereich und/oder
am Kopfkorpus-Anlagebereich abstützt, wenn der Kopfkorpus
angehoben wird, so dass sich das Werkstück vom Polierkissen
löst, indem der Träger in Schräglage
angehoben wird. Es wird daher ein Polierkopf zur Verfügung
gestellt, bei dem das Werkstück leicht, sicher und zuverlässig
vom Polierkissen abgelöst werden kann, indem der das Werkstück
haltende Polierkopf angehoben wird, ohne den Polierkopf aus dem
Drehteller herauszufahren und dergleichen.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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