JP2001341070A - ウェーハの剥離方法 - Google Patents

ウェーハの剥離方法

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JP2001341070A
JP2001341070A JP2000162932A JP2000162932A JP2001341070A JP 2001341070 A JP2001341070 A JP 2001341070A JP 2000162932 A JP2000162932 A JP 2000162932A JP 2000162932 A JP2000162932 A JP 2000162932A JP 2001341070 A JP2001341070 A JP 2001341070A
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polishing
wafer
wafer holding
holding plate
platen
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Susumu Onishi
大西  進
Yasuhide Denda
康秀 傳田
Takeshi Hasegawa
毅 長谷川
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Fujikoshi Machinery Corp
Original Assignee
Fujikoshi Machinery Corp
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  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウェーハの研磨終了後にウェーハ保持盤を研
磨定盤から離す方向に移動することによって、研磨定盤
を構成する研磨布の研磨面からウェーハを容易に剥離で
きるウェーハの剥離方法を提供する。 【解決手段】 定盤20の上面に研磨布が貼付されて成
る研磨定盤21に対し、水等の液体の表面張力によって
ウェーハ26が保持されたウェーハ保持盤24を接離動
可能に設け、研磨定盤21に近接したウェーハ保持盤2
4のウェーハ26の研磨面を、研磨液が供給されている
前記研磨布の研磨面に押し付けつつ、研磨定盤21及び
ウェーハ保持盤24を回転してウェーハ26の研磨面に
研磨を施した後、ウェーハ保持盤24及び研磨定盤21
を共に回転させつつ、ウェーハ26を研磨布の研磨面か
ら剥離する方向に、ウェーハ保持盤24を移動すること
を特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はウェーハの剥離方法
に関し、更に詳細には定盤の上面に研磨布が貼付されて
成る研磨定盤に対し、水等の液体の表面張力によってウ
ェーハが保持されたウェーハ保持盤を接離動可能に設
け、前記研磨定盤に近接したウェーハ保持盤のウェーハ
の研磨面を、研磨液が供給されている前記研磨布の研磨
面に押し付けつつ、前記研磨定盤及びウェーハ保持盤を
回転して前記ウェーハの研磨面に研磨を施した後、前記
研磨液等の液体の表面張力によって研磨定盤の研磨面に
付着しているウェーハを剥離するウェーハの剥離方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】シリコンウェーハ(以下、単にウェーハ
と称する)の研磨には、図5に示すウェーハの研磨装置
が使用されている。この研磨装置には、基台100に定
盤受104がベアリング112を介して回転可能に設け
られている。この定盤受104は、駆動モータ等の駆動
源(図示せず)によって矢印方向に回転する回転軸10
2によって回転され、この定盤受104に一体に定盤1
06が載置されている。かかる定盤106上には、研磨
布108が載置されて研磨面を形成しており、研磨布1
08と定盤106とによって研磨定盤110を形成す
る。更に、研磨定盤110の周縁近傍上には、ウェーハ
保持装置22が矢印方向に回転可能に設けられている。
このウェーハ保持装置22は、ウェーハの研磨面を研磨
定盤110の研磨面に加圧して押し付ける装置であっ
て、ウェーハ保持盤(後述)が設けられている。かかる
ウェーハ保持盤の研磨定盤110の研磨面に対向する対
向面には、ウェーハが貼着されている。この様に、ウェ
ーハ保持盤に貼着されたウェーハの研磨面は、パイプ1
07から研磨布108に供給される研磨剤が混合された
研磨液等により研磨される。
【0003】ウェーハ保持装置22の構造を図6に示
す。図6に示す様に、ウェーハ保持盤24は、主として
セラミックから成る保持部材60がヘッド部材62に下
方に向けて開口された凹部64内に、上下方向及び左右
方向に移動可能に内装されている。かかる保持部材60
の凹部64の底面側端面には、ゴム等の弾性材料から成
る板状体70がダイアフラムとして設けられている。こ
の板状体70と凹部64の底面との間の空間部72は、
軸74内に設けられた管76から供給される圧縮空気等
の加圧流体によって加圧されて加圧室となっている。こ
の空間部72の圧力を調整することにより、保持部材6
0の凹部64からの押出量を調整できる。更に、保持部
材60の外周面と凹部64の内周面との間隙には、ゴム
等の弾性材料から成るリング状弾性部材66、及びデル
リン等の樹脂材料から成るリング状規制部材68が内嵌
されており、保持部材60が移動許容の範囲外に移動し
ないように規制されている。
【0004】この様に、ヘッド部材62の凹部64に内
装された保持部材60の一面側には、湿式発泡ポリウレ
タン等の樹脂から成るバッキング材27が貼着されてい
ると共に、バッキング材27の一面側に水の表面張力に
よって保持されているウェーハ26の周囲を取り囲むよ
うに、ウェーハ26の滑り移動を防止するガイドリング
29が装着されている。このウェーハ保持装置22の保
持部材60の一面側に貼着されたバッキング材27に、
水の表面張力によって張付けられたウェーハ26の研磨
面を研磨する際には、ウェーハ26の研磨面が研磨定盤
110の研磨面(研磨布108によって形成された研磨
面)に直近するまでウェーハ保持装置22を降下する。
次いで、管76を経由してウェーハ保持盤24に形成さ
れた空間部72に所定圧力の圧縮空気等の加圧流体を供
給し、保持部材60の一面側を研磨面方向に押し出し、
ウェーハ26の研磨面を研磨定盤110の研磨面に所定
の荷重で押し付ける。その後、ウェーハ保持盤24と研
磨定盤110とを同一方向に回転させることによって、
ウェーハ26の研磨面を研磨する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】図5に示すウェーハの
研磨装置によれば、ウェーハ26を簡単な機構でウェー
ハ保持装置22に装着して研磨できる。ところで、近
年、ウェーハ26の薄化が進展すると共に、ウェーハ2
6の研磨面の平坦化が強く要請されているため、研磨布
108や研磨液等の改良によってウェーハ26の研磨面
の平坦性が高まってきた。しかしながら、この様に、ウ
ェーハ26の薄化と研磨面の平坦性の高度化とが進展す
ると、ウェーハ26の研磨終了後にウェーハ保持盤24
を上昇させてウェーハ26を研磨布108の研磨面から
剥離せんとすると、研磨布108の研磨面にウェーハ2
6が残留する事態が認められるようになってきた。更
に、ウェーハ26の大径化が進展すると、このウェーハ
26が残留する事態も頻発する傾向も見受けられる。そ
こで、本発明の課題は、ウェーハの研磨終了後にウェー
ハ保持盤を研磨定盤から離す方向に移動することによっ
て、研磨定盤を構成する研磨布の研磨面からウェーハを
容易に剥離できるウェーハの剥離方法を提供する。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、前記課題
を解決すべく、先ず、ウェーハ26の研磨終了後にウェ
ーハ保持盤24を上昇した際に、研磨布108の研磨面
にウェーハ26が残留する事態が発生する原因について
検討したところ、この事態の発生は、図7に示す様に、
研磨終了後のウェーハ26と研磨布108との間に介在
している研磨液等の液体Wの表面張力に因るものである
知見を得た。つまり、ウェーハ保持盤24を構成するバ
ッキング材27の水の表面張力に因るウェーハ26の保
持力は、研磨液等の液体Wの表面張力に因る影響を受け
る。この液体Wによる表面張力は、ウェーハ26の研磨
面の平坦度が比較的低い場合には、バッキング材27の
水の表面張力に因るウェーハ26の保持力よりも小さ
く、ウェーハ保持盤24を上昇させてウェーハ26を研
磨定盤110から離しても、研磨布108の研磨面にウ
ェーハ26が残留する事態は発生し難い。しかし、ウェ
ーハ26の研磨面の平坦度が高くなると、液体Wの表面
張力はバッキング材27の水の表面張力に因るウェーハ
26の保持力よりも大きくなり、ウェーハ保持盤24を
上昇させてウェーハ26を研磨定盤110から離すと、
研磨布108の研磨面にウェーハ26が残留する事態が
発生する。
【0007】本発明者等は、かかる知見に基づいて、研
磨終了後のウェーハ26の平坦度が高くなっても、液体
Wによる表面張力を可及的に小さくし得る手段について
検討を重ねた結果、研磨終了後のウェーハ26を研磨布
108の研磨面から剥離する際に、ウェーハ保持盤24
及び研磨定盤110を共に回転させつつ、ウェーハ保持
盤24を上昇することによって、ウェーハ保持盤24及
び研磨定盤110の回転を停止した状態でウェーハ保持
盤24を上昇した場合に比較して、研磨布108の研磨
面からウェーハ26を容易に剥離できることを見出し、
本発明に到達した。
【0008】すなわち、本発明は、定盤の上面に研磨布
が貼付されて成る研磨定盤に対し、水等の液体の表面張
力によってウェーハが保持されたウェーハ保持盤を接離
動可能に設け、前記研磨定盤に近接したウェーハ保持盤
のウェーハの研磨面を、研磨液が供給されている前記研
磨布の研磨面に押し付けつつ、前記研磨定盤及びウェー
ハ保持盤を回転して前記ウェーハの研磨面に研磨を施し
た後、前記ウェーハ保持盤及び研磨定盤を共に回転させ
つつ、前記ウェーハを研磨布の研磨面から剥離する方向
に、前記ウェーハ保持盤を移動することを特徴とするウ
ェーハの剥離方法にある。
【0009】かかる本発明において、ウェーハ保持盤を
研磨布の研磨面に沿ってスライド可能に設け、前記ウェ
ーハ保持盤に保持されているウェーハの研磨面の一部又
は全部が前記研磨布の研磨面から外れる位置となるよう
に、前記ウェーハ保持盤をスライドした後、前記ウェー
ハ保持盤を研磨定盤から離す方向に移動することによっ
て、研磨終了後のウェーハを研磨布の研磨面から確実に
剥離できる。更に、研磨定盤を構成する研磨布として、
前記研磨定盤を構成する定盤の面積よりも大面積の研磨
布を用い、前記研磨布の端部が定盤の周縁からはみ出す
ように、前記研磨布を定盤の上面に貼付することによっ
て、ウェーハの一部又は全部が研磨布の研磨面から外れ
る位置までウェーハ保持盤をスライドしても、ウェーハ
の研磨面が研磨布のエッジ部で損傷される事態を防止で
きる。
【0010】従来、ウェーハ保持盤に保持されているウ
ェーハを研磨布の研磨面から剥離する際には、ウェーハ
保持盤及び研磨定盤の回転を停止した後、ウェーハ保持
盤を研磨定盤から離していた。この点、本発明では、ウ
ェーハ保持盤及び研磨定盤を共に回転させつつ、ウェー
ハを研磨布の研磨面から剥離する方向にウェーハ保持盤
を移動するため、ウェーハと研磨布との間に介在してい
る研磨液等の液体の表面張力は、ウェーハ保持盤及び研
磨定盤の回転を停止している場合に比較して低下されて
いるものと推察される。その結果、ウェーハの研磨終了
後にウェーハ保持盤を研磨定盤から離す方向に移動する
ことによって、研磨布の研磨面からウェーハを容易に剥
離できる。特に、ウェーハ保持盤を研磨布の研磨面に沿
ってスライド可能に設け、ウェーハ保持盤に保持されて
いるウェーハの研磨面の一部又は全部が前記研磨布の研
磨面から外れる位置となるように、ウェーハ保持盤をス
ライドした後、ウェーハ保持盤を研磨定盤から離す方向
に移動する場合、ウェーハと研磨布との間に介在してい
る研磨液等の液体の表面張力の影響を更に小さくできる
ため、研磨終了後のウェーハを研磨布の研磨面から確実
に剥離できる。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明に係るウェーハの剥離方法
を採用し得るウェーハの研磨装置を図1に示す。図1に
示す研磨装置では、基台10に定盤受12がベアリング
14を介して回転可能に設けられている。この定盤受1
2は、駆動モータ16によって回転する回転軸18によ
って回転されており、この定盤受12に一体に定盤20
が載置されている。かかる研磨定盤21上には、研磨布
が載置されて研磨面を形成しており、研磨布と定盤20
とによって研磨定盤21を形成する。更に、研磨定盤2
1の周縁近傍上には、ウェーハ保持装置22が設けられ
ている。このウェーハ保持装置22には、図6に示すウ
ェーハ保持盤24が、研磨定盤21と同一方向に回転可
能に設けられており、その下面に水を含有する湿式発泡
ポリウレタン等の樹脂から成るバッキング材27(図
6)が貼着されている。かかるバッキング材27に含有
された水の表面張力によってウェーハ26が、その研磨
面を研磨定盤21の研磨面に対向するように保持されて
いる。また、ウェーハ保持盤24は、その上方に設けら
れた駆動モータ28によって研磨定盤21と同一方向に
回転される。この駆動モータ28は、研磨定盤21上に
位置するため、油滴や塵埃が研磨定盤21上に落下しな
いようにダイレクトモータで且つシール付きのものであ
る。
【0012】かかるウェーハ保持装置22は、研磨定盤
21と平行に延びるアーム30の一端部に固着されてい
る。このアーム30の他端部は、下端部に回動手段とし
ての回動モータ34が設けられ、研磨定盤21の外側に
立設されている中空回動軸32に連結されている。かか
るアーム30の他端部の一部は、中空回動軸32の周壁
の長手方向に形成された所定長のスリット36に挿入さ
れている。このスリット36に挿入されたアーム30の
他端部の一部は、中空回動軸32の上端部に設けられた
シリンダ装置38のシリンダから延出され且つ中空回動
軸32の中空部に挿通されたロッド40の端部に連結さ
れている。かかるシリンダ装置38は、ウェーハ保持盤
24を研磨定盤21に対して接離動する接離動手段を構
成する駆動手段であり、ウェーハ26の研磨面を研磨定
盤21の研磨面に接触させるべく、図1に示すウェーハ
保持盤24′の様に、ウェーハ保持盤24を研磨定盤2
1に近接させることができる。ここで、中空回動軸32
のスリット36に挿入されたアーム30の他端部の一部
は、その外壁面がスリット36の内壁面と摺接しつつ上
下動可能に挿入されている。このため、中空回動軸32
が回動する際には、アーム30もガタ等が発生すること
なく中空回動軸32と連回りできる。尚、図1ではウェ
ーハ保持盤24を研磨定盤21に対して接離動する接離
動手段を構成する駆動手段としてシリンダ装置38を用
いたが、駆動手段としてモータを用いることができ、こ
の場合、連結部材としてのロッド40に代えてボールネ
ジを用いる。
【0013】図1に示すウェーハの研磨装置では、研磨
中に研磨剤等が外部に飛散しないように、研磨定盤2
1、ウェーハ保持装置22及び中空回動軸32等はケー
シング42内に収容されている。かかる図1に示す研磨
装置では、中空回動軸32は、中空回動軸32を中心と
してアーム30を所定角度回動したとき、図1に示すウ
ェーハ保持装置22′の様に、ケーシング42の外側に
位置するように立設されている。このため、ウェーハ保
持装置22を構成するウェーハ保持盤24の一面側に貼
付されたバッキング材27等を交換する際には、回動モ
ータ34を駆動して中空回動軸32を所定角度回動する
ことによって、ウェーハ保持装置22をケーシング42
の外側とすることができ、ウェーハ保持盤24をウェー
ハ保持装置22から安全に且つ容易に取り外し、バッキ
ング材27等を交換することができる。
【0014】図1に示すウェーハの研磨装置のケーシン
グ42内には、図2に示す様に、外部から供給されたウ
ェーハ26が載置される載置部52、ウェーハ保持盤2
4にウェーハを貼付する貼付部54、ウェーハ保持盤2
4に貼付されたウェーハ26に研磨を施す研磨定盤21
等の研磨部51、研磨を施したウェーハ26をウェーハ
保持盤24から剥離する剥離部56、及び剥離したウェ
ーハ26を収納する収納部58から成る研磨経路が設け
られている。かかる研磨経路のうち、載置部52に載置
されたウェーハ26の貼付部54への搬送は、先端部に
吸着装置を具備する搬送装置53により行われている。
この研磨装置では、通常のウェーハの研磨では、ウェー
ハ保持盤24は、図2に示す様に、貼付部54、研磨部
51及び剥離部56の間を往復動する。かかる往復動
は、回動モータ34を駆動して中空回動軸32を所定角
度回動することによって行われている。
【0015】先ず、搬送装置53によって貼付部54に
搬送されて載置されたウェーハ26と、ウェーハ保持盤
24を構成する保持部材60の一面側に貼付された水を
含むバッキング材27とを当接させる。両者の当接によ
って、バッキング材27に含有されている水の表面張力
によってウェーハ26をウェーハ保持盤24の保持部材
60に貼付することができる。この様に、保持部材60
にウェーハ26を貼付したウェーハ保持盤24を、シリ
ンダ装置38を駆動して所定高さに上昇させた後、回動
モータ34を駆動してウェーハ保持盤24を研磨定盤2
1上に位置するように中空回動軸32を回動する。研磨
定盤21の上方にウェーハ保持盤24に到達した際に、
回動モータ34を停止し、シリンダ装置38を駆動して
ウェーハ保持盤24を、図1のウェーハ保持盤24′の
ように研磨定盤21に近接させる。更に、図6に示す軸
74に設けられた管76を経由してウェーハ保持盤24
の空間部72に所定圧力の加圧流体を供給し、保持部材
60の一面側を研磨面方向に押し出し、保持部材60に
貼付されたウェーハ26の研磨面を研磨定盤21の研磨
面に所定の荷重で当接させる。その後、駆動モータ28
を駆動してウェーハ保持盤24を研磨定盤21と同一方
向に回転し、ウェーハ26の研磨を開始する。
【0016】ウェーハ26の研磨が終了した際に、ウェ
ーハ保持盤24及び研磨定盤21を共に回転させつつ、
シリンダ装置38を駆動してウェーハ保持盤24を上昇
させることによって、ウェーハ26を研磨定盤21の研
磨布の研磨面から剥離する。この様に、ウェーハ保持盤
24及び研磨定盤21を共に回転させることによって、
ウェーハ26の研磨面の平坦性が高くなっても、ウェー
ハ26が研磨布に残留する事態を防止できる。ウェーハ
保持盤24及び研磨定盤21を共に回転させた場合、ウ
ェーハ26と研磨布との間に介在している研磨液等の液
体の表面張力を、ウェーハ保持盤24及び研磨定盤21
の回転を停止している場合に比較して低下できるものと
推察される。次いで、シリンダ装置38を駆動して上昇
させたウェーハ保持盤24を、回動モータ34を駆動し
てウェーハ保持盤24を剥離部56まで中空回動軸32
を回動し、研磨されたウェーハ26をウェーハ保持盤2
4から剥離する。ウェーハ26が剥離されたウェーハ保
持盤24は、回動モータ34を駆動して中空回動軸32
を回動し、ウェーハ保持盤24を貼付部54まで回動し
た後、再度、貼付部54に載置されているウェーハ26
を同様にして研磨する。一方、剥離部56で剥離された
ウェーハ26は、収納部58に収容され研磨装置から取
り出される。
【0017】この様に、ウェーハ保持盤24及び研磨定
盤21を共に回転させつつ、シリンダ装置38を駆動し
てウェーハ保持盤24を上昇させた場合であっても、研
磨布にウェーハ26が残留する事態が発生する場合は、
図3に示す様に、ウェーハ26の一部又は全部が研磨布
の研磨面から外れる位置(図3に示すB又はCの位置)
までウェーハ保持盤24をスライドした後、シリンダ装
置38を駆動してウェーハ保持盤24を上昇させて研磨
定盤21から離すことが好ましい。ウェーハ26の一部
又は全部が研磨布の研磨面から外れる位置までウェーハ
保持盤24をスライドすることにより、ウェーハ26と
研磨布との接触面積が減少してウェーハ26と研磨布と
の間に介在している研磨液等の液体に因る表面張力を低
下できるからである。かかるウェーハ保持盤24のスラ
イドは、中空回動軸32を回動させることによって行う
ことができる。この際、ウェーハ保持盤24の空間部2
7に供給した圧縮空気等の加圧流体による荷重を除去す
べく、空間部27の加圧流体を排出した後、ウェーハ保
持盤24をスライドさせる。尚、かかるウェーハ保持盤
24のスライド及び上昇は、ウェーハ保持盤24及び研
磨定盤21を共に回転させつつ行う。
【0018】図3に示す様に、ウェーハ保持盤24をス
ライドする際に、ウェーハの研磨面が研磨布のエッジ部
で損傷されるおそれがある場合には、図4に示す様に、
研磨定盤21を構成する研磨布44として、研磨定盤2
1を構成する定盤20の面積よりも大面積の研磨布44
を用い、研磨布44の端部が定盤20の周縁からはみ出
すように、研磨布44を定盤20の上面に貼付すること
が好ましい。定盤20の周縁からはみ出した研磨布44
の端部は、図4に示す様に、下方に垂れ下がりウェーハ
26の研磨面に接触することはない。このため、ウェー
ハ26の一部又は全部が研磨布44の研磨面から外れる
位置までウェーハ保持盤24をスライドしても、ウェー
ハ26の研磨面が研磨布44のエッジ部で損傷される懸
念を解消できる。
【0019】図1に示すウェーハの研磨装置でも、ウェ
ーハ保持盤24に貼着されたバッキング材27やガイド
リング29は、損傷が激しい消耗品であるため、所定枚
数のウェーハ26の研磨がなされたとき、交換がなされ
る。かかるバッキング材27やガイドリング29の交換
を行う際には、研磨を施したウェーハ26を剥離部56
で剥離した後、回動モータ34を駆動して中空回動軸3
2を所定角度回動することによって、図1に示すウェー
ハ保持装置22′の様に、ウェーハ保持装置22をケー
シング42の外側とする。この様に、ウェーハ保持装置
22をケーシング42の外側とすることによって、ウェ
ーハ保持装置22からウェーハ保持盤24を安全に且つ
容易に取り外すことができ、バッキング材27等を容易
に交換できる。特に、研磨を施すウェーハ26が大径化
すると、ウェーハ保持盤24も大型化し、従来の如く、
ウェーハ保持装置22からウェーハ保持盤24を人力に
よる取外し・搬送は不可能となる。この点、図1の研磨
装置では、ウェーハ保持装置22からのウェーハ保持盤
24の取外し・搬送をケーシング42の外で行うことが
できるため、器具を用いてウェーハ保持盤24の取外し
・搬送を行うことができ、作業性及び安全性を従来より
も向上できる。
【0020】
【発明の効果】本発明によれば、ウェーハの研磨終了後
にウェーハ保持盤を研磨定盤から離す方向に移動した際
に、研磨定盤を構成する研磨布の研磨面からウェーハを
容易に剥離できる。このため、ウェーハの研磨面を更に
平坦とすることができ、且つウェーハの薄化及び大径化
も図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るウェーハの剥離方法を実施できる
ウェーハの研磨装置の一例を示す縦断面図である。
【図2】図1に示すウェーハの研磨装置の平面図であ
る。
【図3】ウェーハ保持盤のスライドを説明する概略図で
ある。
【図4】研磨布の貼付状態を説明する部分側面図であ
る。
【図5】従来のウェーハの研磨装置を説明するための部
分断面図である。
【図6】ウェーハ保持盤の構造を説明するための概略断
面図である。
【図7】ウェーハと研磨布との間に介在している研磨液
等の液体の表面張力について説明するための部分断面図
である。
【符号の説明】
20 定盤 21 研磨定盤 22 ウェーハ保持装置 24 ウェーハ保持盤 26 ウェーハ 44 研磨布
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長谷川 毅 長野県長野市松代町清野1650番地 不二越 機械工業株式会社内 Fターム(参考) 3C043 BA08 CC04 CC07 DD11 3C058 AA11 AB01 AB03 AB04 BC01 CB02 CB04 DA17

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 定盤の上面に研磨布が貼付されて成る研
    磨定盤に対し、水等の液体の表面張力によってウェーハ
    が保持されたウェーハ保持盤を接離動可能に設け、 前記研磨定盤に近接したウェーハ保持盤のウェーハの研
    磨面を、研磨液が供給されている前記研磨布の研磨面に
    押し付けつつ、前記研磨定盤及びウェーハ保持盤を回転
    して前記ウェーハの研磨面に研磨を施した後、 前記ウェーハ保持盤及び研磨定盤を共に回転させつつ、
    前記ウェーハを研磨布の研磨面から剥離する方向に、前
    記ウェーハ保持盤を移動することを特徴とするウェーハ
    の剥離方法。
  2. 【請求項2】 ウェーハ保持盤を研磨布の研磨面に沿っ
    てスライド可能に設け、 前記ウェーハ保持盤に保持されているウェーハの研磨面
    の一部又は全部が前記研磨布の研磨面から外れる位置と
    なるように、前記ウェーハ保持盤をスライドした後、 前記ウェーハ保持盤を研磨定盤から離す方向に移動する
    請求項1記載のウェーハの剥離方法。
  3. 【請求項3】 研磨定盤を構成する研磨布として、前記
    研磨定盤を構成する定盤の面積よりも大面積の研磨布を
    用い、 前記研磨布の端部が定盤の周縁からはみ出すように、前
    記研磨布を定盤の上面に貼付する請求項1又は請求項2
    記載のウェーハの剥離方法。
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