DE1115177B - Verfahren zur Herstellung von hochkieselsaeurehaltigem Zellglas - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von hochkieselsaeurehaltigem Zellglas

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DE1115177B
DE1115177B DE1953P0009818 DEP0009818A DE1115177B DE 1115177 B DE1115177 B DE 1115177B DE 1953P0009818 DE1953P0009818 DE 1953P0009818 DE P0009818 A DEP0009818 A DE P0009818A DE 1115177 B DE1115177 B DE 1115177B
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silica
silicon carbide
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DE1953P0009818
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Inventor
Walter David Ford
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Pittsburgh Corning LLC
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Pittsburgh Corning LLC
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C11/00Multi-cellular glass ; Porous or hollow glass or glass particles
    • C03C11/007Foam glass, e.g. obtained by incorporating a blowing agent and heating

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Description

  • Verfahren zur Herstellung von hochkieselsäurehaltigem Zellglas Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von hochkieselsäurehaltigem Zellglas unter Verwendung von beim Erhitzen gaserzeugenden Zuschlagstoffen.
  • Es ist ein Verfahren bekannt, Gemische aus Kieselsäure und anderen Glasbildnern sowie Borsäure und Kohlenstoff zu schmelzen und schnell auf den Erweichungspunkt abzukühlen, um ein schaumiges Glas herzustellen, das abgeschlossene Hohlräume hat. Nach einem anderen Verfahren ist es bekannt, Quarzsand mit geringen Mengen eines gasbildenden Stoffes zu mischen und dieses Gemisch in üblicher Weise zu schmelzen und zu verformen, wodurch absolut gasdichte Gegenstände entstehen. Weiterhin ist es bekannt, daß man aus Kieselsäure geformte Körper durch entsprechendes stufenweises Erhitzen unter Sintern erhalten kann, wobei die Maximaltemperatur 1800 ° C beträgt.
  • Weiterhin ist ein Verfahren zum Herstellen gasdichter Gegenstände aus Quarzgut bekannt, gemäß welchem dem Quarzsand vor der Verformung geringe Mengen eines bei der Verformung gasbildenden Stoffes zugemischt werden. Auf diese Weise sollen gasundurchlässige und vakuum- bzw. druckdichte Gegenstände aus Quarzgut hergestellt werden. Als gasbildende Zusatzstoffe werden solche Stoffe vorgeschlagen, die bei der Verformungstemperatur Kohlensäure oder Wasserdampf oder auch andere Gase abspalten, insbesondere Carbonate oder Soda oder organische Stoffe, wie Stärkemehl, Holzmehl, Torfstaub. Demnach wird beispielsweise eire Mischung aus Quarzsand und Ammancarbonat in der üblichen Weise geschmolzen und zu Tiegeln oder Rohren verformt. Das Arnmoncarbonat zersetzt sich bei etwa 58°C in Ammoniak und Kohlendioxyd. Der Quarzsand beginnt nicht zu sintern, d. h., die Quarzsandteilchen fließen nicht zusammen, bevor eine Temperatur von etwa 1200° C erreicht ist. Daher zersetzt sich das Ammoncarbonat in Gase, die aus der Mischung entweichen, lange bevor der Quarzsand einen gesinterten Zustand (mit erweichten und zusammenhaftenden Teilchen) erreicht hat, so daß kein leichtes, geschlossene Hohlräume aufweisendes Kieselsäureprodukt entsteht. Dies trifft in beträchtlichem Maße auch für die anderen erwähnten Zusatzstoffe zu. Außerdem verläuft die Masse lediglich durch den Sinterbereich von 1427 bis 1621° C beim Erreichen der Schmelztemperatur und Wird in diesem Sinterbereich nicht so ausreichend lange gehalten, daß die Kieselsäureteilchen erweichen --und in eine hochviskose Masse, die den hohlraumbildenden Stoff enthält, zusammenfließen können. Weiterhin bleiben die gasbildenden Zusatzstoffe bei der Erweichungstemperatur der Kieselsäure nicht fest, sondern zersetzen sich bereits bei verhältnismäßig niedrigen Temperaturen. Auf diese Weise kann weder ein leichtes Zellglas noch ein Wärmeisolierstoff hergestellt werden.
  • Es ist auch bekannt, daß durch Reduzieren von Si 02 mit Si, C oder Si C bei etwa 1500°C im Vakuum Si O abdestiliiert. Abgesehen davon, daß dabei Siliciumcarbid nicht als gasbildender Zusatzstoff verwendet wird, würde die Durchführung des obigen Herstellungsverfahrens im Vakuum große Nachteile und hohe Kosten mit sich bringen.
  • Glasmassen, die nach einem der vorgenannten Verfahren hergestellt werden, haben die Nachteile, daß sie spröde, Wetter- und temperaturempfindlich und nur bedingt feuerbeständig oder nicht ausreichend wärmeisolierend sind.
  • Aufgabe der Erfindung ist die Schaffung eines verbesserten Verfahrens zur Herstellung von hochkieselsäurehaltigem Zellglas, bei dem die obengenannten Nachteile weitgehend beseitigt sind und das sich durch optimale mechanische und isolierende Eigenschaften auch bei hohen und tiefen Temperaturen sowie starken Temperaturänderungen auszeichnet.
  • Dies wird erfindungsgemäß dadurch erreicht, daß Sand oder Feuerstein zusammen mit 0,1 bis 5 Gewichtsprozent Sihciumcarbid feinstgemahlen in nichtoxydierender Atmosphäre auf 1427 bis 1621' C bis zum Entstehen einer hochviskosen Masse sowie anschließend bis zur Bildung von abgeschlossenen Hohlräumen auf 1715 bis 1815° C, vorzugsweise 1732° C, erhitzt und danach abgekühlt wird, wobei die Haltezeiten beider Temperaturbereiche insgesamt 15 bis 30 Minuten betragen. Dem Ausgangsgemisch kann noch 0,05 bis 1,0 Gewichtsprozent Bortrioxyd zugemischt werden.
  • Erfindungsgemäß wird als geschlossene Hohlräume bildender Zusatzstoff Siliciumcarbid verwendet, das bei der Erweichungstemperatur der Kieselsäure fest bleibt. Die Erwärmung wird in zwei Stufen durchgeführt. Die erste Erwärmung erfolgt bei einer Temperatur von 1427 bis 1621' C für einen Zeitraum, der ausreicht, um die Kieselsäureteilchen zu erweichen und in eine das Siliciumcarbid enthaltende, hochviskose, plastische Masse zusammenzuballen. Auf diese Weise erzeugt diese erste Erwärmungsstufe eine hochviskose, plastische Masse, die das Siliciumcarbid in fester Form enthält, und in dieser ersten Stufe geht im wesentlichen kein Siliciumcarbid infolge Zersetzung oder Reaktion mit der Kieselsäure verloren, weil dieser erste Erwärmungsschritt bei einer verhältnismäßig niedrigen Temperatur durchgeführt wird. Die entstandene hochviskose, plastische Masse wird zur Bildung von geschlossenen Hohlräumen dem zweiten Erwärmungsschritt unterworfen, der bei einer höheren Temperatur, d. h. zwischen 1715 und 1815' C, vorzugsweise bei 1732° C, für einen Zeitraum durchgeführt wird, der - ausreicht, um zu erreichen, daß sich das eingeschlossene Siliciumcarbid mit der Kieselsäure unter Bildung eingeschlossener Gase umsetzt, die sich innerhalb der plastischen Masse unter Bildung geschlossener Hohlräume ausdehnen, worauf die Masse zu einem harten Körper abgekühlt wird. Somit wird ein Zusammenwirken zwischen dem verwendeten gasbildenden Stoff, nämlich Siliciumcarbid, das bei der Erweichungstemperatur der Kieselsäure fest bleibt, einem ersten Erwärmungsschritt, der eine die festen Siliciumcarbidteilchen enthaltende, hochviskose, plastische Masse erzeugt, und einem zweiten Erwärmungsschritt bei einer höheren Temperatur erreicht, bei der Siliciumcarbid und Kieselsäure zur Erzeugung von eingeschlossenen Gasen reagieren, die durch Ausdehnung die geschlossenen Hohlräume in der Masse bilden.
  • Beim Erwärmen auf die Erweichungstemperatur entsteht Siliciumoxyd, das an den Hohlraumwänden einen feinpulverigen Überzug bildet, wenn das Produkt auf Raumtemperatur abgekühlt wird. Kleine Mengen natürlicher Mineralsilikate wie beispielsweise Feldspat und Nephelinsyenit, können in der Kieselsäure vorhanden sein. Außerdem können kleine Mengen Magnesium, Titan, Eisen und die Oxyde dieser Metalle sowie auch andere Verbindungen in der Kieselsäure gegenwärtig sein.
  • Bei der Herstellung der erwähnten Glasmasse können verschiedene Kieselsäurearten verwendet werden. Beispielsweise hat sich gezeigt, daß Sand bei der Durchführung der Erfindung sehr zweckmäßig ist. Ebenfalls können Flint, Chalcedon, Jaspis und andere Formen der Kieselsäure benutzt werden. Üblicherweise beträgt das Mengenverhältnis der Kieselsäure, die in der porig zu machenden Verarbeitungsmenge benutzt wird, mehr als 90 Gewichtsprozent dieser Partie, bevorzugt zwischen 95 und 99,5 Gewichtsprozent, wobei der Rest von dem gaserzeugenden Stoff und von bestimmten anderen Hilfsverbindungen, wie beispielsweise Metalloxyden, gebildet wird, die variiert werden können. Jedoch können kleine Mengen bis zu 10 Gewichtsprozent natürlicher Mineralsilikate, wie beispielsweise Feldspat und Nephelinsyenit; die Kieselsäure in der Verarbeitungsmenge ersetzen.
  • Die Kieselsäure ist pulverisiert und hat beispielsweise eine Teilchengröße, die durch ein Sieb mit 78 Maschen je Zentimeter hindurchgeht. Das gaserzeugende Siliciumcarbid ist auf Verhältnisänderungen empfindlich, aber in jedem Fall ist die erforderliche Verhältnismenge nie sehr groß und liegt innerhalb des Bereiches von 0,1 bis 5 Gewichtsprozent der Gesamtmenge.
  • Das Gemisch wird auf eine Temperatur erhitzt, die ausreicht, um die Masse zu sintern und porig zu machen. Der Zusatz bestimmter Verbindungen, wie beispielsweise Lithiumcarbonat und die Oxyde des Bors, Eisens, Titans und Magnesiums, entweder einzeln oder in Kombination, trägt wesentlich zu der Beeinflussung der Größe und Regelmäßigkeit der entstehenden abgeschlossenen Hohlräume bei. Die Art und Weise, in der diese Oxyde die Gestaltung der Zellstruktur beeinflussen, ist nicht genau bekannt. Die Verwendung dieser Verbindungen scheint jedoch. die Sinter- und Hohlraumbildungsvorgänge bei der. Bildung des Zellglases besser zu koordinieren.
  • Die Verhältnismenge einer solchen Verbindung oder solcher Verbindungen, die dem Gemisch aus Sand oder Feuerstein und gaserzeugendem Stoff zugesetzt wird, liegt bevorzugt innerhalb 0,05 bis 1,0 Gewichtsprozent des fertigen Gemisches, wobei aber größere Mengenverhältnisse benutzt werden können. Die Bestandteile des oben beschriebenen Gemisches werden, beispielsweise durch allmählichen oder periodischen Zusatz des Siliciumcarbids und des Metalloxyds zu der Kieselsäure, wenn sie gerade in einer Kugelmühle gemahlen wird, sehr sorgfältig vermengt.
  • Das Gemisch gemäß der obigen Beschreibung wird so fein wie praktisch möglich. in der Kugelmühle gemahlen und dann für den Erhitzungsvorgang vorbereitet. Das Gemisch wird in geeignete Formen, wie beispielsweise Tabletten, Kegel oder Platten, gepreßt und auf einer geeigneten Tragvorrichtung, wie beispielsweise Graphitplatten, angeordnet, die ihrerseits in den Erwärmungsbereich eingeführt werden. Das Pressen der Verarbeitungsmenge in Formen der erwähnten Art trägt dazu bei, die Entstehung von Rissen in dem Gemisch während der Hohlraumbildung zu verhindern. Der Erhitzungsvorgang wird in einer nichtoxydierenden oder inaktiven Atmosphäre durchgeführt und kann in einem elektrischen Kohlenelektroden-Lichtbogenofen vorgenommen werden, in dem eine Atmosphäre inaktiver Gase, wie beispielsweise Argon, aufrechterhalten wird.
  • Die zusammengepreßte Partie kann auch in einem beliebigen geeigneten Ofen erhitzt werden, aber bei einem industriellen Vorgang ist ein Tunnelofen erwünscht, der eine geeignete Vorrichtung besitzt, um die tragenden Graphitplatten durch die Erwärmungszone zu bewegen. Es hat sich als zweckmäßig erwiesen, eine Schicht Graphitpulver auf der Graphitplatte vor Anordnung der zusammengepreßten Partie auszubreiten und auch eine Graphitpulverschicht über der zusammengepreßten Verarbeitungsmenge vor der Erhitzung zu verteilen. Dies geschieht, um die Oxydation des porenbildenden Stoffes an der Außenfläche der Partie vor dem Sintern der Kieselsäure zu verhindern.
  • Jedoch ist dies nicht erforderlich, wenn die Erhitzung in nichtoxydierenden oder inaktiven Gasen erfolgt. Der Erhitzungsvorgang wird wegen der geringen Leitfähigkeit der pulverisierten Stoffe langsam durchgeführt. Er ist nach einem Zeitraum von 15 bis 30 Minuten, abhängig von der Stärke und Größe der zu formenden Körper, beendet. Die Erhitzungstemperatur muß ausreichend sein, um die Kieselsäureteilchen zu erweichen oder zusammenzusintern, und auch bewirken, daß das Siliciumcarbid reagiert. Diese Masse darf niemals vollkommen flüssig oder gasförmig sein.
  • Nachdem die Masse in dem gewünschten Grad porig geworden ist, kann sie im plastischen Zustand stranggepreßt oder durch eine geeignete Vorrichtung in Tafeln, Platten, Folien oder andere gewünschte Formen geformt werden. Beispielsweise kann die plastische Masse in einer Tafel durch geeignete Graphitwalzen ausgebildet werden, während sie sich noch in dem Ofen befindet. Die geformte Masse wird dann auf eine feste Masse abgekühlt. Die plastische Masse wird bevorzugt langsam auf ungefähr 982° C abgekühlt und kann danach der Atmosphäre ausgesetzt werden.
  • Das folgende Beispiel dient zur Veranschaulichung der Erfindung: 100g Silikasand und 0,8g Siliciumcarbid wurden zusammen in einer Kugelmühle zur Verminderung der durchschnittlichen Teilchengröße des Sandes auf etwa 6 Mikron gemahlen. Die gemahlene Partie wurde in einer nichtoxydierenden Atmosphäre in einem elektrischen Kohlenstoffofen bei einer Temperatur von 1565° C für 5 Minuten bis zur Bildung einer hochviskosen Masse erhitzt. Die Masse wurde dann bei einer Temperatur von 1732° C für 15 Minuten bis zur Bildung geschlossener Hohlräume erhitzt. Die porige Masse wurde dann in dem Ofen auf eine Temperatur von ungefähr 980° C abgekühlt, bevor sie der Atmosphäre ausgesetzt wurde. Auf diese Weise wurde ein Produkt mit einer großen Anzahl kleiner, gleichmäßiger, geschlossener Hohlräume und mit einer Dichte von etwa 0,2243 g/cm erzeugt.

Claims (2)

  1. PATENTANSPRÜCHE: 1. Verfahren zur Herstellung von hochkieselsäurehaltigem Zellglas unter Verwendung von beim Erhitzen gaserzeugenden Zuschlagstoffen, dadurch gekennzeichnet, daß Sand oder Feuerstein zusammen mit 0;1 bis 5 Gewichtsprozent Siliciumcarbid feinstgemahlen in nichtoxydierender Atmosphäre auf 1427 bis 1621° C bis zum Entstehen einer hochviskosen Masse sowie anschließend bis zur Bildung von abgeschlossenen Hohlräumen auf 1715 bis 1815° C, vorzugsweise auf l732° C, erhitzt und danach abgekühlt wird, wobei die Haltezeiten beider Temperaturbereiche insgesamt 15 bis 30 Minuten betragen.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß dem Ausgangsgemisch noch 0,05 bis 1,0 Gewichtsprozent Bortrioxyd zugemischt wird. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentschriften Nr. 616 031, 680 370, 689 404; N i e d e r 1 e n t h n e r, »Unbildsame Rohstoffe keramischer Massen«, 1928, S. 263; K.A.Hofmann und U.R.Hofmann, »Anorganische Chemie«, 1945, S. 325.
DE1953P0009818 1952-05-28 1953-05-26 Verfahren zur Herstellung von hochkieselsaeurehaltigem Zellglas Pending DE1115177B (de)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3009600A1 (de) * 1980-03-13 1981-09-17 Jenaer Glaswerk Schott & Gen., 6500 Mainz Verfahren zur herstellung von schaumglas, schaumglaskeramik und aufgeschaeumten sintermassen

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE616031C (de) * 1932-06-22 1935-07-18 Chauny & Cirey Verfahren zur Herstellung von schaumigem Glas
DE680370C (de) * 1937-04-15 1939-08-29 I G Farbenindustrie Akt Ges Verfahren zum Herstellen gasdichter Gegenstaende aus Quarzgut
DE689404C (de) * 1936-12-20 1940-03-19 Dr Franz Skaupy Verfahren zum Herstellen von Gegenstaenden aus glasiger Kieselsaeure

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE616031C (de) * 1932-06-22 1935-07-18 Chauny & Cirey Verfahren zur Herstellung von schaumigem Glas
DE689404C (de) * 1936-12-20 1940-03-19 Dr Franz Skaupy Verfahren zum Herstellen von Gegenstaenden aus glasiger Kieselsaeure
DE680370C (de) * 1937-04-15 1939-08-29 I G Farbenindustrie Akt Ges Verfahren zum Herstellen gasdichter Gegenstaende aus Quarzgut

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3009600A1 (de) * 1980-03-13 1981-09-17 Jenaer Glaswerk Schott & Gen., 6500 Mainz Verfahren zur herstellung von schaumglas, schaumglaskeramik und aufgeschaeumten sintermassen

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