DE1109977B - Verfahren zum Herstellen von UEberzuegen mit selektiver Lichtdurchlaessigkeit auf optischen Gegenstaenden durch Aufdampfen im Vakuum - Google Patents

Verfahren zum Herstellen von UEberzuegen mit selektiver Lichtdurchlaessigkeit auf optischen Gegenstaenden durch Aufdampfen im Vakuum

Info

Publication number
DE1109977B
DE1109977B DEV6475A DEV0006475A DE1109977B DE 1109977 B DE1109977 B DE 1109977B DE V6475 A DEV6475 A DE V6475A DE V0006475 A DEV0006475 A DE V0006475A DE 1109977 B DE1109977 B DE 1109977B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
substances
disperse
layers
vacuum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DEV6475A
Other languages
English (en)
Inventor
Thaddaeus Kraus
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ALOIS VOGT DR
Original Assignee
ALOIS VOGT DR
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ALOIS VOGT DR filed Critical ALOIS VOGT DR
Priority to DEV6475A priority Critical patent/DE1109977B/de
Publication of DE1109977B publication Critical patent/DE1109977B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/28Interference filters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/06Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
    • C03C17/09Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals by deposition from the vapour phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/25Metals
    • C03C2217/251Al, Cu, Mg or noble metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/15Deposition methods from the vapour phase

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Description

  • Verfahren zum Herstellen von Überzügen mit selektiver Lichtdurchlässigkeit auf optischen Gegenständen durch Aufdampfen im Vakuum Im nachfolgenden wird unter einem dispersen System ein System mit sich wiederholenden Diskontinuitäten seiner physikalischen Eigenschaften in räumlichen Abständen kolloider Dimensionen, also etwa von 1 bis 500 m#t, verstanden. Demgemäß kann man dünne Schichten, wie sie für optische Zwecke, z. B. Reflexionsverminderung oder Interferenzfilter, verwendet werden, als laminardisperse Systeme betrachten. Die diskrete Struktur eines Körpers kann dabei nach verschiedenen Richtungen verschieden sein. Im Falle homogener dünner Schichten liegt Zerteilung nur nach einer einzigen Richtung des Raumes vor. Ein solcher Fall ist in den Fig. 1 a, 1 b und 1 c der Zeichnung beispielsweise veranschaulicht. Zu diesem Zweck ist angenommen worden, es sei durch einen willkürlichen Punkt einer homogenen Einfachschicht ein rechtwinkeliges Koordinatensystem (x- und y-Achse parallel, z senkrecht zur Grenzfläche) gelegt und eine charakteristische physikalische Größe - n - der Materie, z. B. die Brechzahl als Funktion des Ortes, dargestellt, und zwar in Fig. 1. a für einen Punkt der x-Achse, in Fig. lb für einen Punkt der y-Achse und in Fig. 1 c für einen Punkt der z-Achse. Die Einheit des verwendeten Abszissenmaßstabes liege in der Größenordnung kolloider Dimensionen, es sei also etwa 1 Teilstrich gleich 5 bis 50 m#x. Man erhält dann längs der x- und y-Achse gemäß den Fig. la und 1 b vollkommene Kontinuität der physikalischen Eigenschaften, längs der z-Achse (Fig. 1 c) jedoch aufeinanderfolgende starke Diskontinuitäten.
  • Der Fall einer Mehrfachschicht, bestehend aus homogenen Teilschichten, wie sie z. B. in bekannter Weise für Interferenzfilter verwendet wird, ist in den Fig. 2 a, 2 b und 2 c veranschaulicht worden. Hier findet man in Richtung der z-Achse mehrfache Diskontinuitäten, während in der Richtung der x- und y-Achse keine Diskontinuitäten auftreten, In den Fig. 3 a, 3 b und 3 c ist das Schema einer bisher als »inhomogen« bezeichneten Schicht wieder-- ge geben, womit also Schichten bezeichnet werden, die senkrecht zur Grenzfläche einen Gradienten ihrer physikalischen Eigenschaften, etwa wieder der Brechzahl, aufweisen. Da jedoch die Bezeichnung Dinhomogen« im Zusammenhang mit vorliegender Erfindung zur Entstehung von Irrtümern Anlaß geben kann, wird die Bezeichnung »Übergangsschicht« angewandt, entsprechend dem kontinuierlichen übergang physikalischer Eigenschaften, wie er in Fig. 3 c veranschaulicht ist.
  • In sämtlichen der besprochenen Fälle treten in je zwei Achsenrichtungen keine Diskontinuitäten auf. Es ist bisher im Rahmen der Herstellung dünner Schichten auch nicht planmäßig erstrebt worden, in mehr als einer Achsenrichtung sich wiederholende starke Diskontinuitäten in der Größenordnung kolloider Dimensionen zu erzielen. Die in der x- und y-Richtung erreichbaren makroskopischen Änderungen physikalischer Eigenschaften besaßen - im kolloiden Maßstab gemessen - vielmehr nur ein sehr flaches Gefälle und erreichten bestenfalls den in den Fig 4a, 4b und 4c veranschaulichten Grad.
  • Zur Lösung der sich damit ergebenden Aufgabe, in mehr als einer Achsenrichtung in kolloiden Ab- ständen wiederholt auftretende Diskontinuitäten physikalischer Eigenschaften zu erzeugen, wird -, ausgehend von Verfahren, bei denen eine Mischschicht aus einem Metall und einer lichtdurchlässigen anorganischen Verbindung im Vakuum auf die zu überziehenden Gegenstände aufgedampft und das Metall in der Schicht kolloidaldispers verteilt wird, erfindungsgemäß die Verteilung durch eine während der Aufdampfung stattfindende oder nachträgliche Glühbehandlung bei etwa 3001 C eingestellt.
  • Bei der Herstellung von Sonnenschutzbrillen ist bereits der Vorschlag gemacht worden, an Stelle der Anordnung einer Mehrfachschicht auf dem Brillen--las in dünner Schicht absorptionsfreie Oxyde, insbesondere Siliziummonoxyd, und Metalle, insbesondere Eisen, Kobalt, Nickel, Mangan, Vanadin, Kupfer, Silber oder Gold, gleichzeitig vorzusehen. Eine kolloidale Verteilung dieser Elemente wurde jedoch nicht vorgeschrieben, wenn sie auch zufällig verwirklicht worden sein mag. Es ist auch schon bekanntgeworden, Schichten dieser Art mit Wärme zu behandeln. Dadurch sollte jedoch nur die Haltbarkeit von Metallschichten verbessert werden. Erfindungsgemäß sind dagegen ausgesprochene Mischschichten aus Metallen und Nichtmetallen in kolloidaler Verteilung vorhanden, die einer ganz bestimmten Nachbehandlung bedürfen, um die gewünschte Transmission aufweisen zu können. So ist beispielsweise bei dem früheren Vorschlag angegeben worden, daß Kupfer im SiO-Kondensat eine grüne Transmission besitze. Geht man dagegen erfindungsgemäß vor und wird in eine dielektrische Schicht Kupfer in kolloidaler Form eingebaut, dann entstehen ausgesprochen rubinrote, durchsichtige Schichten.
  • Bei Interferenzfiltern, die dem FABRY-PEROT-Interferometer mit dem Unterschied entsprechen, daß die Luftschichten durch feste Dielektriken ersetzt sind, kann man die in der Richtung senkrecht zur Schichtebene vorgesehenen Einzelschichten als in kolloidaler Anordnung aufeinander folgend bezeichnen. Die Wirkung der erfindungsgemäß vorgesehenen Kolloidfilter beruht jedoch nicht auf der Interferenz an den Grenzflächen zwischen der verschiedenen Schichten durch Vielfachreflexion gebildeter, phasenverschobener Wellenzüge, sondern auf der Beseitigung eines bestimmten Teiles des siehtbaren Lichtspektrums durch Lichtstreuung. Letztere wäre bei Interferenzfiltem nur eine höchst unerwünschte Nebenerscheinun-, weil sie die Filtergüte verschlechtert. Außerdem ist zu berücksichtigen, daß die Schichten bei den genannten Interferenzfiltem mit größter Genauigkeit und Gleichmäßigkeit aufgebracht sein müssen, wenn das Auftreten bestimmter Farben in der Transparenz erreicht werden soll. Bereits geringste Änderungen der Schichtdicke ergeben starke Schwankungen der Transmissionsfarbe, so daß über größere Flächen die erforderliche Gleichmäßigkeit nur unter Aufwand unwirtschaftlicher Mittel zu erzielen ist. Bei den Dispersionsfiltern gemäß vorliegender Erfindung hängt dagegen die Transmissionsfarbe innerhalb weiter Grenzen lediglich von der Art der verwendeten Schichtstoffe ab, während die Dicke an Bedeutung völlig zurücktritt. Es braucht bei der Herstellung der Filter nicht einmal auf die Einhaltung einer bestimmten Kolloidgröße geachtet zu werden, so daß bei weitestgehender Vereinfachung des Verfahrens die gewünschten Farben mit einer weit größeren Zielsicherheit erreicht -werden, als es selbst unter Einhaltuna der obengenannten schwierigen Bedingungen bei Interferenzfiltem möglich ist. Dabei ist es bemerkenswert. daß die Transmission trotz im Diagramm auftretender steiler Kanten und bei schmalem Durchlaßband über 90 1/o beträgt, während bei einer Wellenlänge von 5500 AE die Transmission beim Interferenzfilter weniger als die Hälfte, nämlich nur 40%, beträgt. Einer uneingeschränkten Verwendung von Interferenzfiltern stellt sich auch die Tatsache entgegen. daß sie wegen der hohen Reflexion wie Spiegel wirken, während erfindungsgemäß ausgebildete Filter eine verhältnismäßig geringe Reflexion aufweisen. Damit sind die Unterschiede im physikahsehen Verhalten nicht erschöpft. So zeigen die Kurven der genannten Interferenzfilter das Auftreten höherer Ordnungen der Transmission, während Filter, die auf Lichtstreuung beruhen, nur wenige kennzeichnende Banden aufweisen, die für die streuenden, kolloidalen Teilchen typisch sind.
  • Bei der praktischen Durchführung des Verfahrens wird man als Schichtkomponenten hauptsächlich Stoffe aufbringen, die ineinander unlöslich oder schwer löslich sind. Ebenso kommen als Schichtkomponenten vorzugsweise Stoffe in Betracht, deren optische Eigenschaften starke Unterschiede aufweisen. Um dabei das Auftreten unnötig hoher Temperaturen vermeiden zu können, wird man hauptsächlich Stoffe wählen, von denen mindestens einer einen unterhalb von 1700' C liegenden Schmelzpunkt aufweist.
  • Man ist nicht darauf angewiesen, von vornherein nichtmetallische Stoffe aufzubringen, so daß in diesem Falle als Schichtkomponenten mindestens zwei Metalle aufgebracht werden, von denen wenigstens eines während und/oder nach dem Aufbringen in einen nichtmetallischen Stoff übergeführt wird. Als metallische Schichtkomponenten kommen insbesondere die Metalle der ersten Nebengruppe des Periodischen Systems in Betracht, ohne daß andere Elemente grundsätzlich ausgeschlossen wären. Als nichtmetallische Schichtkomponenten haben sich insbesondere Fluoride bewährt. Auf Kupfer als Schichtkomponente war breits vorher hingewiesen worden.
  • Die Zeichnung zeigt in der Darstellungsweise der Fig. 1 bis 4 in Fig. 5 ein System, wie es gemäß den obigen Darlegungen erfindungsgemäß verwirklicht werden kann. Hierbei haben, wie Fig. 5 a andeutet, die Abstände der Diskontinuitäten in einer Achsrichtung die Größe kolloider Abmessungen überschritten. Es können aber auch in beiden, zur Schichtebene parallelen Achsrichtungen Diskontinuitäten in koRoiden Abständen auftreten, wie die Fig. 6 a, 6 b und 6 c veranschaulichen. Die Primärstruktur kann dabei verschiedene Dispersitätsgrade aufweisen. Eine Schicht mit hoher fibriHardisperser Primärstruktur zeigen die Fig. 7 a, 7 b und 7 c, eine solche höherer totaldisperser Primärstruktur die Fig. 8 a, 8 b und 8 e. Die Fig. 7 c und 8 c zeigen Diskontinuitäten der physikalischen Eigenschaften auch innerhalb der Schicht in der Richtung senkrecht zur Schichtebene. Weitere Schichten können wenigstens in einer Achsrichtung einen Gradienten der Häufigkeit oder Größe der Kolloidteilchen der Primärstruktur aufweisen, wie dies in den Fig. 9 a, 9 b und 9 c an einem totaldispersen System dargestellt wurde. Die Primärstruktrur kann bei totaler oder dreidimensionaler Dispersion Korpuskeln von kugeliger oder auch gestreckter bzw. abgeplatteter Faden- oder Plättchenform besitzen, deren Größe nicht einheitlich zu sein braucht. Ferner kann das partiell- oder totaldisperse System aus mehr als zwei Komponenten - Stasen - aufgebaut sein, Ein derartiges System mit drei Komponenten oder Stasen innerhalb einer dünnen Schicht ist in den Fig. 10a, 10b und 10c wiedergegeben. Ein lamellardisperses System mit totaldisperser Primärstruktur und vier Komponenten bzw. Stasen ist in den Fig. lla, llb und Ile dargestellt. In diesem Beispiel wurde jede der drei Schichten als Zweikomponentensystem gewählt. Darüber hinaus können beliebige Vereinigungen der oben angeführten Typen der Primär- und Sekundärstraktur bestehen.
  • Unter Zugrundelegung dieser Verhältnisse können erfindungsgemäß Bandfilter hergestellt werden, deren Erzeugung einfach und billio, ist. Es genügt in vielen C C Fällen eine einzige Schicht, die auf einen Träger in einem einzigen Arbeitsgang aufgebracht werden kann. Die optischen Wirkungen, die darüber hinaus mit den Schichten oder Schichtvereinigungen mit total oder partiell disperser Primärstruktur erzielt werden können, sind sehr verschiedenartig und noch nicht vollständig geklärt. Sie treten besonders dann stark hervor, wenn starke Diskontinuitäten der Brechzahl und des Absorptionsindex zwischen den einzelnen Komponenten oder Stasen des dispersen Systems vorliegen. Die Art der Effekte ist dabei von der Form und Größe der Teilchen abhängig. Ist der Dispersitätsgrad der Primärstruktur sehr hoch, so daß man sie als molekulardispers bzw. atomdispers bezeichnen kann, so beobachtet man an dem laminardispersen System lediglich Reflexion, Absorption und Interferenz. Mit abnehmendem Dispersitätsgrad zeigen aber die Extinktionsspektren solcher Systeme neu hinzutretende Banden, die auf die Streuung des Lichtes zurückzuführen sind. Bei geeigneten Stoffkombinationen und Dispersitätsgraden kann der durch Streuung erzielte Effekt gegenüber der Reflexion, Ab- sorption und Interferenz weitaus überwiegen. Man kann an solchen dispersen Systemen Extinktionsspektren mit scharf ausgeprägten Maxima erhalten. Ein Extinktionsspektrum dieser Art ist in Fig. 12 dargestellt. Es können daher auf diese Weise selektive Lichtfilter zur Anwendung gebracht werden, z. B. auch solche, die nur geringe Spiegelung des Lichtes ergeben. Erfindungsgemäß ausgebildete fibrillardisperse Systeme weisen häufig Dichroismus auf und können als Polarisationsfilter angewendet werden." Solche disperse Systeme kann man auch in Kombination mit homogenen dünnen Schichten, beispielsweise unter zusätzlicher Ausnutzung ihrer Reflexion, Absorption und Interferenz, anwenden, um dadurch bisher unbekannte Filterwirkungen zu erzielen.
  • Auch bemerkenswerte elektrische Effekte wurden an solchen Systemen beobachtet: relativ hohe elektrische Leitfähigkeit bei Anwesenheit einer metaHischen Phase, Kataphorese der Korpuskel innerhalb der Schicht bei angelegter Gleichspannung und Temperaturen unterhalb des Schmelzpunktes der einzelnen Stasen, Richtungsabhängigkeit des elektrischen Widerstandes der Schicht bei geordneten fibrillardispersen Systemen, um nur einige zu nennen.
  • Die kolloiddispersen Schichten gemäß vorliegender Erfindung unterscheiden sich wesentlich von homogenen dünnen Schichten. So werden z. B. korrosionsempfindliche Metalle durch korrosionsbeständige Stoffe im totaldispersen Zustand bedeutend besser geschützt als im laminardispersen. Ihr chemisches Verhalten ist im totaldispersen Zustand gänzlich verschieden gegenüber ihrem Verhalten in dünner Schicht oder in kompaktem Zustand. Bei kolloiddispersen Schichten ergeben sich hinsichtlich ihrer chemischen Zusammensetzung gegenüber den bekannten, festen kolloiddispersen Systemen, z. B. Rubinglas, nicht nur qualitativ, d. h. in der Auswahl der verwendeten Stoffe, sondern auch quantitativ bezüglich der Mengenverhältnisse der dispergierten Stoffe zum Dispergierungsmittel völlig neue Möglichkeiten. Beträgt z. B. bei Rubingläsem das Mengenverhältnis Gold zu Glas etwa 1: 1000, so kann das Verhältnis Gold zu Dielektrikum bei erfindungsgemäß ausgebildeten Systemen 2: 1 und mehr betragen. Solche Schichten verleihen etwa einem Glasträger, auf dem sie aufgebracht sind, das Aussehen leuchtendroten Rubinglases. Infolge der geringen Schichtdicke ist der Goldverbrauch trotzdem minimal.
  • Kennzeichnend für die bisherige Herstellungsweise fester, kolloiddisperser Systeme war es, daß sie stets an einen Weg über denflüssigen Zustand mindestens einer Phase gebunden war. Sie wurden bisher meist nur unter Schmelzen der beteiligten Stoffe hergestellt. Für feste Kolloide, die für optische Zwecke geeignet waren, z. B. Rubingglas, kamen als Dispergierungsmittel nur glasartige Stoffe in Betracht, als dispergierte Stoffe nur solche, welche mit dem verwendeten Glas, dem Tiegelmaterial und der umgebenden Atmosphäre bei den relativ hohen Schmelztemperaturen keine unerwünschten Reaktionen ergaben. Die Zahl der praktisch herstellbaren festen Kolloide war daher sehr gering.
  • Erfindungsgemäß erhaltene Erzeugnisse können verschiedene Dispersitätsgrade aufweisen, je nachdem, ob die beteiligten Stoffe zugleich oder aufeinanderfolgend kondensiert wurden; hierbei ist jeder Dispersitätsgrad möglich, beginnend von atomar- oder molekulardisperser Struktur über eine diskrete lamellardisperse Struktur bis zu dünnen Schichten in der Dicke von etwa 100 mg. Sämtliche dieser Strukturen können auch auf dem Wege einer Nachbehandlung in die total oder fibrillardisperse Primärstruktur übergeführt werden. Der Dispersitätsgrad dieser Enderzeugnisse liegt innerhalb der obengenannten Grenzen der Dispersitätsgrade der Zwischenerzeugnisse. Demnach kann die Nachbehandlung eine Kondensation -Abnahme des Dispersitätsgrades - Dispersion -Zunahme der Dispersitätsgrade - oder Difformation - Verformung der Struktur - bewirken. Es erschien zunächst äußerst schwierig, den bei der Nachbehandlung stattfindenden Prozeß in die gewünschte Richtung zu lenken. Es zeigte sich aber überraschenderweise, daß die nach dem erfindungsgemäß angegebenen Verfahren im festen Zustand verlaufende Strukturänderung insbesondere bei Einhaltung der unten beschriebenen Verfahrenssehritte ohne weiteres zu der gewünschten total- oder fibrillardispersen Struktur führt. Der für optische Zwecke vorzugsweise angewendete Dispersitätsgrad der Primärstruktur stellt einen bevorzugten Haltepunkt des Dispersions- oder Kondensationsvorganges dar.
  • Das erfindungsgemäß angegebene Verfahren weist demgemäß folgende Verfahrensschritte im einzelnen auf: 1. Verdampfen Zur Verdampfung gelangen grundsätzlich mindestens zwei unter Normalbedingungn feste Stoffe. Diese brauchen nicht mit den im Endprodukt enthaltenen Stoffen identisch zu sein, müssen aber mindestens je einen der chemischen Bestandteile mit dem Enderzeugnis gemeinsam haben. Hierbei können die zu verdampfenden Stoffe als Gemisch vorliegen, vorzugsweise jedoch räumlich getrennt als einheitliche Stoffe.
  • Die Technik der Verdampfung kann vorzugsweise auf zweierlei. Wegen erfolgen: a) Verdampfung im Hochvakuum. Die Verdampfung erfolgt aus einer oder mehreren Verdampfungsquellen. Im letzteren Falle ist vorzugsweise getrennte Regelbarkeit der Temperaturen und Verdampfungsgeschwindigkeiten für die einzelnen Verdampfungsquellen vorgesehen. b) Kathodenzerstäubung. Durch Veränderung der Größe der zerstäubenden Kathodenflächen, der angelegten Spannungen, der Stromstärken und der Temperaturen der Kathodenflächen kann die Zerstäubungsgeschwindigkeit der einzelnen Stoffe geregelt werden.
  • Während der Verdampfung können auch chemische Reaktionen vor sich gehen bzw. bewirkt werden. Einerseits kann Dissoziation der verdampfenden Stoffe stattfinden, andererseits Reaktion des Restgases mit den verdampfenden Substanzen, z. B. Oxydation. Solche chemischen Reaktionen können, wie an späteren Beispielen gezeigt werden soll, bewußt herbeigeführt werden, um gewünschte Stoffe oder Stoffvereinigungen des Enderzeugnisses zu erhalten. 2. Kondensieren D--r zweite Verfahrenssehritt ist die Kondensation. ,eeignet geformte feste oder bewegliche Blen-Durch g den und durch Reg ,elung des Abstandes zwischen Verdampfungsquelle und Kondensationsfläche sowie des Auftreffwinkels kann die Kondensation der Dampfströme der einzelnen Verdampfungsquellen in gewünsch . ter Weise gelenkt werden. Hierbei kann das Mengenverhältnis der kondensierenden Stoffe nach Belieben konstant gehalten oder mit fortschreitender Kondensation verändert werden, so daß innerhalb einer erfindungsgemäß ausgebildeten Schicht Gradienten derKonzentration nach jederbeliebigenRichtung sowohl senkrecht zur Schichtebene als auch in der Schichtebene erreicht werden können. Das Verfahren kann erflndungsgemäß so geleitet werden, daß die kondensierenden Stoffe entweder bei gleichzeitiger Kondensation eine möglichst feindisperse Primärstruktur er,-eben oder bei alternierender Kondensation laminare, homogene, aufeinanderfolgende Schichten, die noch einer weiteren Behandlung zugeführt werden müssen bzw. können. In manchen Fällen, wenn richtungsgeordnete, fibrillardisperse Primärstrukturen erzielt werden sollen, ist Schrägstellung der Kondensationsfläche gegenüber dem Dampfstrahl vorteilhaft. Auch können während der Kondensation chemische Reaktionen der verdampften S'offe untereinander oder mit zugeführten Gasen herbzigeführ't werden. 3. Nachbehandlung Dzr Verfahrensschritt zur Herbeiführung der kolloiddispersen Primärstruktur besteht in der Nachbehandlung des Kondensates, wobei Dispersionen, Kondensationen oder Difformationen bewirkt werden.
  • Es sind physikalische oder chemische Nachbehandlungen zu unterscheiden.
  • Unter den chemischen Behandlungsmethoden ist an erster Stelle die Durchführung heterogener Reaktionen mindestens eines der beteiligten festen Stoffe mit einem bei der Reaktionstemperatur gasförmigen Stoff zu nennen.
  • Unter den physikalischen Nachbehandlungorsmethoden kommen vor allem folgende in Frage: Temperaturbehandlung, Einwirkung von ultraviolettem, tiltrarotem oder sichtbarem Licht, Röntgenstrahlen, Korpuskularstrahlen und Ultraschall.
  • Bei Temperaturbehandlung werden vorzugsweise Temperaturen angewandt, die beträchtlich unterhalb des Schmelzpunktes jedes der beteiligten Stoffe liegen. Eine richtungsgeordnete Prirnärstruktur wird dadurch erzielt, daß bei Bildung der kolloiddispersen Stase die Schicht richtend wirkenden physikalischen Einwirkungen, z. B. Magnetfeldern, elektrischen Feldern, Temperaturgradienten, Ultraschallfeldem usw., ausgesetzt wird.
  • Sämtliche der voro",enannten Maßnahmen des dritten Verfahrensschrittes können gegebenenfalls auch während der Kondensation, also während des zweiten Verfahrensschrittes, angewandt werden. Festigung der Schicht und Beschleunigung der Kolloidbildung können ferner durch Einwirkung von Lösungsmitteln, z. B. Wasser, verdünnter Säure usw. erreicht werden. Ein nachfolgendes Erwärmen der Schicht ist dabei in vielen Fällen vorteilhaft. Ausführungsbeispiel 1 Man dampft gleichzeitig oder in wiederholter zeitlicher Reihenfolge mit oder ohne Anwesenheit von Sauerstoff oder sauerstoffhaltiger Atmosphäre mindestens zwei Stoffe, etwa Gold und Zink, im Hochvakuum auf einen Träger auf. Zur Erreichung einer gewünschten Schichtdicke und Extinktion wird die Kondensation vorzugsweise mit optischen Einrichtungen, etwa durch Messung der Transinission und der Reflexion der aufgedarnpften Schicht während der Aufdampfung, verfolgt, und es wird die Kondensationsgeschwindigkeit, beispielsweise mittels Blenden, geregelt. Die auf diese Weise erhaltene dünne Schicht weist im Beispielsfalle noch keine kolloiddisperse Primärstruktur auf. Um diese zu bilden, wird der Träger mit dem Kondensat etwa 10 Minuten in Sauerstoff oder sauerstoffhaltiger Atmosphäre aut eine Temperatur von etwa 300' C gebracht. Die vorher undurchsichtige, metallisch glänzende Schicht geht dadurch in eine durchsichtige, tief purpurfarbene - oder, je nach Mengenverhältnis der beteiligten Stoffe, auch blaue - Schicht mit geringem Reflexionsvermögen über. Diese Schicht besitzt ein ausgeprägtes Extinktionsmaximum bei 550 m#t, fast unabhängig von der Schichtdicke und dem Mengenverhältnis der Komponenten.
  • Ausführungsbeispiel 2 C Ein anderes Beispiel ist auf dem System Magnesiumfluorid-Kupfer aufgebaut. Hierbei werden M-F., und Cu gleichzeitig im Hochvakuum verdampft. Besteht bei der Kondensation hinreichende Wärmeableitung, so bildet sich eine molekulardisperse Schicht, die in der Durchsicht grün erscheint. Wird diese Schicht nun bei 300' C getempert, so nimmi sie eine intensiv purpurrote Färbung an. Es ist bemerkenswert, daß dabei trotz Anwesenheit von Sauerstoff keine Oxydation des Cu stattfindet. Die Kondensation kann auch so gelenkt werden, daß in Richtung senkrecht zur Trägeroberfläche die Cu-Konzentration abnimmt und bei geeigneter Schichtdicke eine starke Reflexionsverminderung erzielt wird. Erfolgt hingegen die Kondensation bei erhöhter Temperatur, so bildet sich unmittelbar die purpurrote Färbung der Schicht, so daß keine Nachbehandlung erforderlich wird.
  • Im allgemeinen richtet sich die Auswahl der Ausgangsstoffe nach den Stoffen, die im Enderzeugnis enthalten sein sollen, unter Berücksichtigung von bei einzelnen Verfahrensschritten auftretenden chemischen Reaktionen. Die Stoffkomponenten sollen sich möglichst durch folgende Eigenschaften auszeichnen: Mindestens zwei Stoffkomponenten sollen in ihren optischen Eigenschaften starke Unterschiede aufweisen, einer der Stoffe soll möglichst hohe Härte aufweisen, einer der Stoffe soll möglichst korrosionsbeständig sein, einer der Stoffe soll einen Schmelzpunkt unter 1700' C aufweisen, und zwei Stoffe sollen ineinander möglichst unlöslich oder schwer löslich sein.
  • Chemische Umsetzungen des Kondensats werden verhindert, wenn die Nachbehandlung im Vakuum oder inertem Gas stattfindet, sie werden erzielt, wenn die Nachbehandlung in einem bei der Reaktionstemperatur gasförmigen und mit mindestens einem der Aufbaustoffe des Kondensats reaktionsfähigen Stoff stattfindet.
  • Eifmdungsgemäß erzeugteSchichten gewähreneine Reihe von Anwendungsmöglichkeiten. Blendschutzbeläge, die nicht spiegeln, und Beläge für dekorative Zwecke wurden schon erwähnt. Bezüglich der Anwendung für dekorative Zwecke gibt es noch folgende wichtige Abwandlungen: Insbesondere bei Verwendung von sichtbarem Licht oder Korpuskularstrahlen zur Überführung der Schicht in den kolloiddispersen Zustand können, unter Benutzung von Licht- oder Korpuskularstrahl-Optiken bzw. Blenden, Muster, beispielsweise Ziermuster, erzeugt werden, indem einzelne Stellen der Schicht stärker, andere dagegen wenig stark oder überhaupt nicht in den koRoidalen Zustand übergeführt werden.
  • Weitere Anwendungsmöglichkeiten sind Lichtfilter für wissenschaftliche und industrielle Zwecke. Eine erfindungsgemäße »Rubinschicht« besitzt z. B. eine Extinktionskurve, wie sie etwa in Fig. 12 abgebildet ist. Aus ihr ist ersichtlich, daß sich die Schichten vorzüglich für Lichtfilter eignen. Ohne komplizierte Mehrfachschichtsysteme ist damit ein Filter geschaffen, das die bisher bekannten Interferenzlichtfllter in vielen Fällen an Widerstandsfähigkeit weit übertrifft. Ein weiterer Vorteil ist, daß erfindunasgemäß ausgebildete Filter bei Änderung des Lichteinfallwinkels die Wellenlänge der maximalen Durchlässigkeit nicht verlagern, was bekanntlich bei den Interferenzlichtfiltern sehr störend wirkt. Erfindungsgemäß ausgebildete Lichtfilter vereinen einerseits den Vorteil der Absorptionsfilter, nämlich richtungsunabhängig zu sein, mit dem Vorteil der Interferenzfilter, steile Kanten in den Transmissionsspektren aufzuweisen.
  • Fibrillardisperse Systeme haben bekanntlich die Eigenschaft, Licht zu polarisieren. Erfindung ,sgemäße fibrillardisperse Systeme können daher auch als Polarisationsfilter verwendet werden.
  • Selbstverständlich besteht auch noch die Möglichkeit, erfindungsgemäße dünne Schichten mit Kolloid-C struktur mit homogenen oder übergangsschichten, wie sie bisher schon für Reflexionsverminderung u. dgl. angewandt wurden, zu kombinieren und so Interferenz-, Reflexions- und Absorptionswirkungen zusätzlich auszunutzen.

Claims (2)

  1. PATENTANSPRÜCHE: 1. Verfahren zum Herstellen von überzügen mit selektiver Lichtdurchlässigkeit auf optischen Gegenständen, wobei eine Mischschicht aus einem Metall und einer lichtdurchlässigen anorganischen Verbindung im Vakuum auf die Gegenstände aufgedampft und das Metall in der Schicht koRoidaldispers verteilt wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Verteilung durch eine während der Aufdanipfung stattfindende oder nachträgliche Glühbehandlung bei etwa 300' C eingestellt wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als metallische Schichtkomponente Metalle der ersten Nebengruppe des Periodischen Systems aufgebracht werden. 3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Schichtkomponenten Stoffe aufgebracht werden, die ineinander unlöslich oder schwer löslich sind. 4-. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß als Schichtkomponenten Stoffe aufgebracht werden, deren optische Eigenschaften starke Unterschiede aufweisen. 5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß als Schichtkomponenten Stoffe aufgebracht werden, von denen mindestens einer einen unterhalb von 1700' C liegenden Schmelzpunkt aufweist. 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß als Schichtkomponenten mindestens zwei Metalle aufgebracht werden, von denen wenigstens eines während des Aufbringens und/oder nach dem Aufbringen in einen nichtmetallischen Stoff übergeführt wird. 7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß Kupfer als metallische Schichtkomponente aufgebracht wird. 8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß Fluoride als nichtmetallische Schichtkomponente aufgebracht werden. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentanmeldung P3451Xa/30d (bekanntgernacht am 2. 8. 195 1).
DEV6475A 1953-10-31 1953-10-31 Verfahren zum Herstellen von UEberzuegen mit selektiver Lichtdurchlaessigkeit auf optischen Gegenstaenden durch Aufdampfen im Vakuum Pending DE1109977B (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEV6475A DE1109977B (de) 1953-10-31 1953-10-31 Verfahren zum Herstellen von UEberzuegen mit selektiver Lichtdurchlaessigkeit auf optischen Gegenstaenden durch Aufdampfen im Vakuum

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEV6475A DE1109977B (de) 1953-10-31 1953-10-31 Verfahren zum Herstellen von UEberzuegen mit selektiver Lichtdurchlaessigkeit auf optischen Gegenstaenden durch Aufdampfen im Vakuum

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1109977B true DE1109977B (de) 1961-06-29

Family

ID=7571601

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEV6475A Pending DE1109977B (de) 1953-10-31 1953-10-31 Verfahren zum Herstellen von UEberzuegen mit selektiver Lichtdurchlaessigkeit auf optischen Gegenstaenden durch Aufdampfen im Vakuum

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE1109977B (de)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
None *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2336049C3 (de) Verlustarmes, temperaturstabiles, hochreflektierendes Wechselschichtsystem
DE69500550T2 (de) Verfahren zur metallisierung von kunststoffen und auf diese weise hergestellte produkte
EP2262864B1 (de) Pvd-metalleffektpigment mit gradient an nanoskaligen metallteilchen, verfahren zu deren herstellung und verwendung derselben
DE69615890T2 (de) Ultrafeine Teilchen und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE2554232A1 (de) Verfahren zur herstellung eines lichtdurchlaessigen absorbierenden belages auf unterlagen und nach diesem verfahren hergestellte belaege
EP1537057A1 (de) Verfahren zur herstellung von schichten und schichtsystemen sowie beschichtetes substrat
DE2245374A1 (de) Mehrstufige integrierte wellenleiterstruktur und verfahren zu ihrer herstellung
DE3249203C2 (de)
DE10100221A1 (de) Verfahren zum Beschichten eines Substrats und beschichteter Gegenstand
Grewen et al. Elektronenmikroskopische untersuchungen an scherbändern
DE2537593C3 (de) Verfahren zur Herstellung einer homogenen magnetischen Oxidschicht hoher Koerzitivfeldstärke
DE69818404T2 (de) Feines ITO Pulver und Verfahren zu seiner Herstellung
DE69832364T2 (de) Therapiegerät und entsprechendes Herstellungsverfahren
EP1144711B1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung von farbpigmenten
DE2457474A1 (de) Verfahren zur herstellung von reflexmindernden mehrfachschichten mit interferenzwirkung und durch das verfahren hergestellter optischer koerper
DE1812455C3 (de) Verfahren zum Herstellen einer aus einem Metalloxyd bestehenden isolierenden Schutzschicht an der Oberfläche eines Halbleiterkristalls
DE2063580C2 (de) Verfahren zum Aufbringen einer transparenten, elektrisch leitfähigen Indiumoxidschicht
DE2419122C3 (de) Verfahren zur Herstellung von TiO2 -Schichten durch Verdampfen aus einer schmelzflüssigen Titan-Sauerstoffphase
DE1109977B (de) Verfahren zum Herstellen von UEberzuegen mit selektiver Lichtdurchlaessigkeit auf optischen Gegenstaenden durch Aufdampfen im Vakuum
DE2830723A1 (de) Verfahren zur herstellung von infrarotreflektierenden scheiben durch katodenzerstaeubung
DE1696607C3 (de) Verfahren zum Herstellen einer im wesentlichen aus Silicium und Stickstoff bestehenden Isolierschicht
DE2050556C3 (de) Verfahren zur Herstellung einer hochbrechenden optisch homogenen und absorptionsfreien Oxidschicht
CH333577A (de) Laminardisperses System und Verfahren zu seiner Herstellung
DE3541999A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur beschichtung von flaechen
DE2062664B2 (de) Verfahren zum Anbringen dünner Schichten durch Kathodenzerstäubung