DE1080973B - Verfahren zur Herstellung von einkristallinem Halbleitermaterial - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von einkristallinem HalbleitermaterialInfo
- Publication number
- DE1080973B DE1080973B DES63538A DES0063538A DE1080973B DE 1080973 B DE1080973 B DE 1080973B DE S63538 A DES63538 A DE S63538A DE S0063538 A DES0063538 A DE S0063538A DE 1080973 B DE1080973 B DE 1080973B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- zone
- melting
- rod
- melting point
- seed crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 title description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 17
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 16
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 16
- 238000004857 zone melting Methods 0.000 claims description 3
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000010309 melting process Methods 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000035784 germination Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B13/00—Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
- C30B13/34—Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting characterised by the seed, e.g. by its crystallographic orientation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL246700D NL246700A (en, 2012) | 1959-06-20 | ||
NL108941D NL108941C (en, 2012) | 1959-06-20 | ||
DES63538A DE1080973B (de) | 1959-06-20 | 1959-06-20 | Verfahren zur Herstellung von einkristallinem Halbleitermaterial |
FR815565A FR1245238A (fr) | 1959-06-20 | 1960-01-13 | Procédé d'obtention d'une matière monocristalline pour semi-conducteurs |
GB1054660A GB915881A (en) | 1959-06-20 | 1960-03-24 | A process for producing a monocrystalline rod of semi-conductor material |
CH647760A CH385498A (de) | 1959-06-20 | 1960-06-07 | Verfahren zur Herstellung eines einkristallinen Halbleitermaterialstabes |
CH948360A CH396424A (de) | 1959-06-20 | 1960-08-22 | Verfahren zur Herstellung von einkristallinem Halbleitermaterial |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES63538A DE1080973B (de) | 1959-06-20 | 1959-06-20 | Verfahren zur Herstellung von einkristallinem Halbleitermaterial |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1080973B true DE1080973B (de) | 1960-05-05 |
Family
ID=7496450
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DES63538A Pending DE1080973B (de) | 1959-06-20 | 1959-06-20 | Verfahren zur Herstellung von einkristallinem Halbleitermaterial |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
CH (1) | CH385498A (en, 2012) |
DE (1) | DE1080973B (en, 2012) |
FR (1) | FR1245238A (en, 2012) |
GB (1) | GB915881A (en, 2012) |
NL (2) | NL246700A (en, 2012) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1182207B (de) * | 1962-07-20 | 1964-11-26 | Siemens Ag | Verfahren zum Herstellen eines versetzungsarmen Halbleitereinkristalls durch tiegelfreies Zonenschmelzen |
DE3322629A1 (de) * | 1983-06-23 | 1985-01-03 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Vorrichtung zum tiegelfreien zonenschmelzen |
-
0
- NL NL108941D patent/NL108941C/xx active
- NL NL246700D patent/NL246700A/xx unknown
-
1959
- 1959-06-20 DE DES63538A patent/DE1080973B/de active Pending
-
1960
- 1960-01-13 FR FR815565A patent/FR1245238A/fr not_active Expired
- 1960-03-24 GB GB1054660A patent/GB915881A/en not_active Expired
- 1960-06-07 CH CH647760A patent/CH385498A/de unknown
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1182207B (de) * | 1962-07-20 | 1964-11-26 | Siemens Ag | Verfahren zum Herstellen eines versetzungsarmen Halbleitereinkristalls durch tiegelfreies Zonenschmelzen |
DE3322629A1 (de) * | 1983-06-23 | 1985-01-03 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Vorrichtung zum tiegelfreien zonenschmelzen |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL108941C (en, 2012) | |
CH385498A (de) | 1964-12-15 |
GB915881A (en) | 1963-01-16 |
FR1245238A (fr) | 1960-11-04 |
NL246700A (en, 2012) |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3750382T2 (de) | Züchtung eines Halbleiterkristalls via variabler Schmelze-Rotation. | |
DE112014003795B4 (de) | Silizium-Einkristall-Ziehvorrichtung | |
DE1134967B (de) | Verfahren zum Ziehen eines stabfoermigen kristallinen Halbleiterkoerpers | |
DE1544320B1 (de) | Vorrichtung zur kontinuierlichen Herstellung eines einkristallinen Bandes aus Halbleitermaterial | |
DE10102126A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines Einkristalls aus Silicium | |
EP0142666A2 (de) | Verfahren zur Herstellung von versetzungsfreien Einkristallstäben aus Silicium | |
DE1080973B (de) | Verfahren zur Herstellung von einkristallinem Halbleitermaterial | |
DE2626761A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum herstellen von einzelkristallschichten | |
DE1444530B2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von stabförmigem, einkristallinen Halbleitermaterial | |
DE1275032B (de) | Verfahren zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines kristallinen Stabes, insbesondere Halbleiterstabes | |
DE1109141B (de) | Verfahren zur Herstellung eines einkristallinen hochgereinigten Halbleiterstabes | |
DE1218412B (de) | Verfahren zum Herstellen von einkristallinem Halbleitermaterial | |
AT223659B (de) | Verfahren zur Herstellung von versetzungsfreiem einkristallinem Silizium durch tiegelfreies Zonenschmelzen | |
DE2548050C3 (de) | Vorrichtung zur Stabhalterung beim tiegelfreien Zonenschmelzen | |
DE1191336B (de) | Zonenschmelzverfahren zum Umwandeln von mindestens einem polykristallinen Stab in einen Einkristall | |
EP3034658B1 (de) | Verfahren zum züchten eines einkristalls durch kristallisieren des einkristalls aus einer fliesszone | |
DE1254590B (de) | Verfahren zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleitermaterial, insbesondere von Silicium | |
DE1128413B (de) | Verfahren zur Herstellung von zersetzungsfreiem einkristallinem Silicium durch tiegelfreies Zonenschmelzen | |
DE1115714B (de) | Verfahren zur Herstellung von einkristallinem Halbleitermaterial | |
DE2538812A1 (de) | Verfahren zum dotieren von halbleiterstaeben | |
DE1960088C3 (de) | Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines kristallinen Stabes | |
DE967930C (de) | Halbleiter mit P-N-Schicht und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE2538946C3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines Einkristalls | |
DE1264399B (de) | Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen | |
DE2626311C2 (de) | Vorrichtung zum Haltern eines Halbleiterkristallstabes |