DE2626311C2 - Vorrichtung zum Haltern eines Halbleiterkristallstabes - Google Patents
Vorrichtung zum Haltern eines HalbleiterkristallstabesInfo
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- DE2626311C2 DE2626311C2 DE19762626311 DE2626311A DE2626311C2 DE 2626311 C2 DE2626311 C2 DE 2626311C2 DE 19762626311 DE19762626311 DE 19762626311 DE 2626311 A DE2626311 A DE 2626311A DE 2626311 C2 DE2626311 C2 DE 2626311C2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B13/00—Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
- C30B13/32—Mechanisms for moving either the charge or the heater
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B13/00—Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
- C30B13/28—Controlling or regulating
- C30B13/285—Crystal holders, e.g. chucks
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Description
Die Anmeldung betrifft eine Vorrichtung zum Haltern eines Halbleiterkristallstabes beim tiegelfreien Zonenziehen, der über einen Konus mit einem Keimkristall
verbunden ist, mit einem axial zuej Stab beweglichen
Halter, der den Stab im Konusbereich stützt
Eine solche Vorrichtung ist beispielsweise in der DE-OS 23 58 300 beschrieben worden. Die beschriebene
Vorrichtung hat den Zweck, ein Schwingen des Stabes beim Zonenschmelzen zu verhindern. Diese Schwingungen
könnten Versetzungen im StE-J"..- erzeugen, ein Abtropfen
der Schmelze aus der Schmelzzone bewirken und auch ein Durchbrechen des dürien Impflings und
damit zur Unterbrechung des Zonenschmelzens führen. Zum Vermeiden der Schwingungen wird bei der bekannten
Anordnung eine mit der Keimkristallhalterung gekoppelte, axial verschiebbare Trichterhülse verwendet,
die in ihrer Höchstlage den Konusbereich des Stabes umschließt und mit einem Stabilisierungsmittel wie
Quarzsand oder Metallkugeln gefüllt wird. Durch das Einfüllen des Stabilisierungsmittels kann sich jedoch
Staub entwickeln oder es können Vibrationen entstehen, die sich schädlich auf die Qualität des Halbleiterstabes
auswirken können.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung der oben erwähnten Art so weiterzubilden, daß
schädliche Auswirkungen der Stabilisierungsvorrichtung auf die Qualität des Halbleiterstabes vermieden
werden.
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß der Halter eine axial verschiebbare Platte aufweist, auf der symmetrisch
zueinander drei Drehstangen angeordnet sind, daß die Drehstangen am Ende mit Scheiben versehen
sind, die aus dem gleichen Halbleitermaterial wie der Stab bestehen, und daß die Scheiben in Richtung zum
Stab verdrehbar sind.
Vorzugsweise ist in der verschiebbaren Platte ein Antriebsmechanismus
für die Drehstangen angeordnet.
Der Vorteil der erfindungsgemäßen Anordnung besteht
darin, daß die drei Drehstangen weit auseinandergesetzt werden können, so daß dann beliebig große
Durchmesser ausreichend, d. h. weit genug oben am Konus, abgestützt werden können.
Der Erfindung soll anhand eines Ausführungsbeispiels und der F i g. 1 und 2 noch näher erläutert werden.
F i g. 1 im Schnittbild die erfindungsgemäße Vorrichtung
im unteren Bereich der Stabhalterung vor dem Abstützen und
F i g. 2 während des Abstützvorgangs.
In F i g. 1 ist ein einkristalliner Keimkristall 2 in einer Halterung 3 befestigt Der Keimkristall 2 ist mit dem unteren Ende eines Siliciumstabes 4 verbunden. Dabei wird nach dem Anschmelzen der Verbindungsstelle eine sogenannte flaschenhalsförmige Verengung 5 dadurch
In F i g. 1 ist ein einkristalliner Keimkristall 2 in einer Halterung 3 befestigt Der Keimkristall 2 ist mit dem unteren Ende eines Siliciumstabes 4 verbunden. Dabei wird nach dem Anschmelzen der Verbindungsstelle eine sogenannte flaschenhalsförmige Verengung 5 dadurch
ίο erzeugt, daß die Stabhalterungen in axialer Richtung
mit einer relativ hohen Geschwindigkeit voneinander entfernt werden. Diese flaschenhalsförmige Verengung
5 bewirkt ein einkristallines und versetzungsfreies Anwachsen. Da sowohl der Siliciumstab 4 als auch der
Keimkristall 2 Drehungen um ihre Achse ausführen, besieht die Gefahr, daß das an die flaschenhalsförmige
Verengung 5 angewachsenen Ende des Siliciumstabes 4 zu schwingen beginnt, wenn sich die Schmelzzone (in
der Figur nicht dargestellt) zu weit von der Anschmelzstelle zwischen Keimkristall 2 und Siliciumstab 4 entfernt
hat Bei Siliciumstäben von etwa 40 mm 0 ist dies z. B. der Fall, wenn die Schmelzzone 70 cm vom dünnen
Flaschenhais 5 entfernt ist Die Schwingungsamplituden
werden oft so groß, daß man den Ziehvorgang unterbrechen muß. Dies wird durch das in der F i g. 1 abgebildete
Gestänge 6 verhindert, welches mit Hilfe der Stange 7 über einen Zapfen 8 und einer Verschiebeplatte 9 im
Führungsschlitz 10 so weit nach oben geschoben wird (s. Pfeil 29), daß die drei symmetrisch zueinander angeordneten
Drehstangen 11,12 und 13 mit an ihrem oberen Ende angebrachten-Siliciumkristallscheiben 14, 15 und
16 bei entsprechender Drehung der Scheiben den über dem Keimkristall 2 liegenden Konusbereich des Stabes
4 mit dem Scheibenrand berühren (s. F i g. 2). Der Antrieb kann z. B. über innerhalb der Verschiebeplatte 9
angebrachte, passend angekopppelte Elektromotoren oder durch über Roiien laufenden Drahtseiizüge, betätigt
werden (Antriebsmechanismus nicht gezeichnet). Bei hergestellter Abstützung kann dabei noch ein elekfrischer
Stromkreis geschlossen werden, der die jeweilige Betätigungsvorrichtung für den Abstützarm anhält
(in der Zeichnung nicht dargestellt).
In Fig.2 ist die Anordnung Siliciumkristallstab 4/ Abstützvorrichtung 6 während des Abstützens darge-
stellt. Dabei ist der Übersichtlichkeit wegen auf die Abbildung der Verschiebeeinrichtungen zum Betätigen
bzw. Zentrieren der Drehstangen 11,12 und 13 verzichtet
worden. Durch die Drehpfeile 17 soll die Drehung zur Kontaktierung der Siliciumkristallscheiben 14, 15
und 16 mit dem Stabkonus 4 angedeutet werden. Mit dem Bezugszeichen 18 ist die Schmelzspule, mit 19 die
dadurch erzeugte Schmelzzone und mit 20 der noch autzuschmelzende Vorratsstabteil bezeichnet worden.
Hierzu 1 B'att Zeichnungen
Claims (2)
1. Vorrichtung zum Haltern eines Halbleiterkristallstabes beim tiegelfreien Zonenziehen, der über
einen Konus mit einem Keimkristall verbunden ist, mit einem axial zum Stab beweglichen Halter, der
den Stab im Konusbereich stützt, dadurch gekennzeichnet, daß der Halter eine axial verschiebbare
Platte (9) aufweist, auf der symmetrisch zueinander drei Drehstangen (11,12,13) angeordnet
sind, daß die Drehstangen am Ende mit Scheiben (14, 15,16) versehen sind, die aus dem gleichen Halbleitermaterial
wie der Stab bestehen, und daß die Scheiben in Richtung zum Stab (4) verdrehbar sind.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß in der verschiebbaren Platte (9) ein Antriebsmechanismus für die Drehstangen (11,12,
13) angeordnet ist
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19762626311 DE2626311C2 (de) | 1976-06-11 | 1976-06-11 | Vorrichtung zum Haltern eines Halbleiterkristallstabes |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19762626311 DE2626311C2 (de) | 1976-06-11 | 1976-06-11 | Vorrichtung zum Haltern eines Halbleiterkristallstabes |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2626311A1 DE2626311A1 (de) | 1977-12-22 |
DE2626311C2 true DE2626311C2 (de) | 1986-07-17 |
Family
ID=5980357
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19762626311 Expired DE2626311C2 (de) | 1976-06-11 | 1976-06-11 | Vorrichtung zum Haltern eines Halbleiterkristallstabes |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2626311C2 (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63270383A (ja) * | 1987-04-27 | 1988-11-08 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体結晶棒の支持装置 |
-
1976
- 1976-06-11 DE DE19762626311 patent/DE2626311C2/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2626311A1 (de) | 1977-12-22 |
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