DE1069296B - - Google Patents
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- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
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Description
DEUTSCHES
Die JIrtincluny bezieht sich auf einen federnden Berührungskontakt für Halbleiteranordnungen, insbesondere
für Transistoren.
Es sind Halbleiteranordnungen bekannt, bei denen ein federnder Beriihruiigskontakt von verhältnismäßig
kleinen Querschnittsabmessungen gegen ein Halbleiterelement anliegt, wobei die Lage des Kontaktpunktes
und/oder der Kontaktdruck, den der Berührungskontakt auf den Halbleiterbauteil ausübt, für die
einwandfreie Arbeitsweise der gesamten Halbleiteranordnung wesentlich ist. Bei rauscharmen Germaniumdioden,
aber auch bei Spitzentransistoren sowie bei Oberflächen-pn-Schichttranssistoren tritt das Problem auf. verhältnismäßig feine, drahtartige oder
kleinflächige Kontakte in Berührung mit Halbleiterteilen zu bringen und zu halten; im letzteren Fall steht
der feine Kontakt in Berührung mit den verhältnismäßig kleinen Emitter- und Kollektorelektroden.
Bei der Herstellung einer rauscharmen Germaniumdiode wird beispielsweise ein zugespitzter metallischer
Koutaktdraht mit einem Durchmesser von 0,045 mm gegen eine vorbehandelte Oberfläche eines Germaniumkristalls
gedrückt und durch den dabei gebildeten Kontakt zwischen dem Kontaktdraht und dem Germanium
ein Alterungsstroin geführt, um das Material unterhalb der Spitze zu »altern«. Durchdiesen Prozeß werden die erwünschten Gleichrichtcreigenschaften erzeugt. Der Durchmesser des Kontaktes zwischen der
Drahtspitze und dem Kristall kann in der Größenordnung von 0,05 mm liegen. Der gealterte Bereich der
Kristalloberfläche unterhalb der Kontaktstelle hat vergleichbare Abmessungen. Eine Anordnung dieser Art
liefert eine Diode mit geringer Rauschzahl; jedoch wird die elektrische Arbeitsweise der Diode schon
durch eine kleine Verstellung der Kontaktdrahtspitze gegenüber dem winzigen gealterten Bereich der Kristal !oberfläche nachteilig beeinflußt. Da der Kontaktdraht
äußerst fein und der Kontaktdruck zwischen <lem Draht und der Kristalloberfläche sehr gering ist,
ist eine derartige Anordnung gegen mechanische Stöße und Erschütterungen äußerst empfindlich.
Zur Vermeidung dieses Xachteils hat man bereits vorgeschlagen, bei einer rauscharmen Kristalldiode die
Kontaktdrahtspitze an der Kristalloberfläche mit Hilfe eines äußerst kleinen Tropfens eines wenig schrumpfenden
Kittes starr zu befestigen. Der Kitt wird dabei direkt um die Kontaktspitze an der Kontaktstelle aufgetragen.
Ein derartiges Verfahren, obwohl für viele Anwendungen ausreichend, hat folgende Nachteile.
Da während des Alterungsprozesses am Berührungspunkt zwischen Kontaktdraht und Halbleiter verhältnismäßig
große Wärmemengen erzeugt werden, kahn das Aufbringen des Kittes zur Befestigung der Kontaktdrahtspitze gewöhnlich erst nach Durchführung
Federnder Berührungskontakt
für Halbleiteranordnungen
für Halbleiteranordnungen
Anmelder:
Philcor Corporation,
Philadelphia, Pa. (V.St.A.)
Philcor Corporation,
Philadelphia, Pa. (V.St.A.)
Vertreter: Dipl.-Ing. C Wallach, Patentanwalt,
München 2, Kaufingerstr. 8
München 2, Kaufingerstr. 8
1S Jacob Wilbur Stineman, Villanova, Pa.,
und Samuel Adams Robinson, Lansdale, Pa. (V. St. A.), sind als Erfinder genannt worden
des Alterungsprozesses ausgeführt werden. Der winzige KitttroptVn muß daher mit äußerster Sorgfalt aufgebracht
werden, damit die Sitze des Kontaktdrahtes nicht durch eine zufällige Erschütterung von dem darunterliegenden
sehr kleinen gealterten Teil des Halbleiters verschoben wird. Man hat zwar Verfahren zum
exakt lokalisierten Aufbringen des Kitttropfens entwickelt; wegen der erforderlichen großen Genauigkeit
und Sorgfalt ist dieses Verfahren jedoch äußerst kostspielig und verteuert die Herstellung der Halbleiteranordnungen
unangemessen.
Da zweitens das Kittmaterial den Kontaktpunkt unmittelbar umgibt, wirken sich alle Beeinflussungen
des Kittes nach seiner Herstellung auch unmittelbar auf den Kontakt aus. Es ist daher zu erwarten, daß
jedes Schrumpfen, jede Ausdehnung oder jede Verschlechterung des Kittmaterials oder jede Absorption
von Feuchtigkeit durch den Kitt sofort und unmittelbar entsprechende Wirkungen auf den !•Contakt und
damit auf die Arbeitsweise der
tung hat.
tung hat.
Der Erfindung liegt somit die
zugrunde, einen federnden Berührungskontakt von geringem Querschnitt zu schaffen, der mit einem bestimmten, gleichbleibenden Druck an einer bestimmten Kontaktstelle gegen die Oberfläche einer Halbleiteranordnung anliegt, wobei der Kontakt in einfacher Weise herstellbar und die Aufrechterhaltung des Kontaktdruckes und der Kontaktstelle nach Ausführung des Kontaktes auch bei erheblichen mechanischen Erschütterungen gewährleistet sein sollen.
zugrunde, einen federnden Berührungskontakt von geringem Querschnitt zu schaffen, der mit einem bestimmten, gleichbleibenden Druck an einer bestimmten Kontaktstelle gegen die Oberfläche einer Halbleiteranordnung anliegt, wobei der Kontakt in einfacher Weise herstellbar und die Aufrechterhaltung des Kontaktdruckes und der Kontaktstelle nach Ausführung des Kontaktes auch bei erheblichen mechanischen Erschütterungen gewährleistet sein sollen.
geschilderten Nachteile enannte federnde Beriihrungskon-
Vorrich-
Aufgabenstellung
Zur Vermeidung der oben
wird der eingangs
909 649.346
i üo
takt gemäß der Erfindung so ausgebildet, daß ein federndes, drahtförmiges Kontaktglied, das an einem
Punkt fest gehaltert ist, mit seinem einen Ende gegen einen vorbestimmten Pnreich des Halbleiters federnd
mit leichtem Berührungsdruck aidiegt und daß ein Klümpchen aus kittartigem Material das Kontaktglied
mit dem Halbleiter in einem zwischen dem Halterungspunkt und dem Berührungspunkt des Kontaktgliedes
liegenden Punkt an einer Stelle des Halbleiters verbindet, die in einigem Abstand vom Kontaktpunkt
gelegen ist.
Durch die vorliegende Ausbildung wird der Kontakt äußerst stabil und widerstandsfähig gegen mechanische
Stöße und Erschütterungen, während gleichzeitig der Kotitaktpunkt zwischen Kontaktdraht und Halbleiteroberfläche
von dem Kitt frei bleibt und daher nach Anbringung und Härtung des Kittklümpchens gealtert
werden kann. Die Eage des Kontaktdrahtis wird daher erst nach dem Zusammenbau und nach Abschluß des
elektrischen Alterungsprozesses kritisch; demzufolge ist beim Zusammenbau nur eine geringere Sorgfalt
erforderlich, der Herstellungsvorgang wird wesentlich vereinfacht und verbilligt. Da durch das Kittklümpchen
außerdem eine starre Bindung zwischen dem Kontaktdraht und dem Halbleiterbauteil in einigem Abstand
vom Kontaktpunkt gebildet wird, werden die Einflüsse von Temperaturschwankungen, die eine Relativbewegung
des Kontaktdrahthalters und des den Halbleiter haltenden Teiles hervorrufen, weitgehend
ausgeschaltet. Ferner bewirkt die erhebliche Elastizität des Kontaktdrahtbtückes zwischen dem Klümpchen
und dem Kontaktpunkt, daß Änderungen des Kittklümpchens selbst, beispielsweise bei Ausdehnung oder
Kontraktion infolge von Temperaturschwankungen oder infolge von Feuchtigkeitseinflüssen, die gegenseitige
Lage des Kontaktdrahtendes und des Halbleiters und den zwischen ihnen herrschenden Kontaktdruck
nicht wesentlich beeinflussen können. Schließlich besteht infolge der Anordnung des Befestigungskittes in einigem Abstand vom Kontaktpunkt die
Möglichkeit einer »Wiederalterung«, falls aus irgendwelchen Gründen die Spitze des Kontaktdrahts sich
auf der Oberfläche nach der endgültigen Herstellung der Halbleiteranordnung doch verschoben oder der
Kontaktdruck sich geändert hallen sollte.
Die vorliegende Ausbildung des federnden Berührungskontakts ist gleich gut für Halbleiterdioden wie
für Transistoren geeignet. Bei Transistoren können so ausgebildete federnde Berührungskontaktc zum Anschluß
an die Emitter- und Kollektorbereiche dienen. Hier können die Berührungskontakte unter Federspannung
gegen die winzigen Emitter- und Kollektorelektroden unter einem Druck gehalten werden, der
ausreicht, einen tatsächlichen Kontakt zu schaffen, ohne daß jedoch das empfindliche, äußerst dünne HaIb-Ieitergebilde
durch den Kontaktdruck beschädigt würde. Xach einer vorteilhaften Ausführungsform der
Erfindung ist vorgesehen, daß ein Teil des Kontaktgliedes längs der Halbleiteroberfläche verläuft und
durch das Klümpchen aus kittartigem Material mit diesem verbunden ist.
Eine l>esonders vorteilhafte Ausführungsform des vorliegenden Berührungskontaktes besteht darin, daß
das federnde Kontaktglied in der Xähe der Halbleiteroberfläche mit einem Knie ausgebildet ist, das sich der
Halbleiteroberfläche an einem in der Nähe des Konlaktpunktes, jedoch in einigem Abstand von diesem
liegenden Punkt, nähert, 'und in diesem durch das Klümpchen aus kittartigem Material mit dem Halbleiter
verbunden ist.
Eine weitere zweckmäßige Ausführungsform besteht darin, daß das federnde Kontaktglied einen ersten, im
wesentlichen rechtwinkelig zur Oberfläche des Halbleitern verlaufenden Teil, der einen kleinflächigen Kontakt
mit diesem bildet, sowie einen zweiten, im wesentlichen längs der Oberfläche verlaufenden und von dem
Klümpchen aus kittartigem Material berührten Teil aufweist.
Weitere Einzelheiten und Vorteile der Erfindung ίο ergeben sich aus der folgenden Beschreibung von Au·-
führungsbeispielen an Hand der Zeichnung. In diener zeigt
Fig. 1 im Längsschnitt einen rauscharmen Punktkontakt-Kri stal !gleichrichter.
Fig. 2 eine Teilansicht der Diode nach Fig. 1, bei welcher der Kontaktfederdraht und die Kittanordnung
in weiteren Einzelheiten dargestellt sind, und
Fig. 3 im Aufriß, bei dem Teile weggebrochen sind, einen Oberfläclieu-pn-Schichttransistor.
Die in Fig. 1 dargestellte Kristallgleichrichter patrone ist von einer symmetrischen koaxialen Bauart,
die zur Verwendung als Gleichrichter oder Mischvorrichtung, z.B. bei der Umwandlung von Hochtrequenzsignalen
von etwa 10 OOO MHz in Zwischenfrequenz-
»5 signale von etwa 30 MHz, geeignet ist. Diese Patrone kann ein isolierendes Patronengehäuse 1 in Form eines
hohlen keramischen Zxlinders mit Innengewinde an beiden Enden und einer kreisförmigen Öffnung 2 in
einer seiner Wandungen aufweisen. In das eine End?
des Gehäuses 1 ist ein hohler Schraubstöpsel 3 eingesetzt, der den Kristallhalter aufnimmt. Dieser besteht
aus einem Keilstab 4, der mit sternförmig angeordneten Keilflächen versehen ist und unter Druck in den
Schraubstöpsel eingepaßt ist. Der Kristall kann an dem Stab 4 angelötet sein. Der Kristall wird von einem
aus Titan bestehenden Kontaktfederdraht 6 berührt, der an einem Haltestöpsel 7 durch Schweißen oder auf
andere Weise befestigt ist. Der Haltestöpsel ist in das entgegengesetzte Ende des Gehäuses 1 eingeschraubt.
Die Stöpsel 3 und 7 werden vorzugsweise in ihrer Lage starr verkittet, und zwar dadurch, daß ein geeigneter
Kitt, z. B. Sockelkitt oder Schellack, längs der Gewinde aufgebracht wird.
Zur Erzielung größter Rauscharmut wird vorzugsweise ein Kristall 5 verwendet, der etwa 99,78 Gewichtsprozent
Germanium, 0.2 Gewichtsprozent Antimon und 0,02 Gewichtsprozent Wismut aufweist, obwohl
andere Zusammensetzungen verwendet werden können. Der Raum innerhalb des keramischen Gehäuses
1 und zwischen den Stöpseln 3 und 7 kann mit trockenem sauberem Gas, z. B. Luft oder Argon, gefüllt
werden. Um dieses Gas einzuschließen, kann die öffnung 2 mit Hilfe eines federnden zylindrischen
Stopfens 11 verschlossen werden, der eng in die öffnung 2 hineinpaßt. EineAbdichtmasse 12, z.B. Sockelkitt,
wird am Umfang der äußeren Fläche des Stopfens 11 zum Vervollständigen der Abdichtung aufgebracht.
Die durch die Längsteile des Stabes 4 geschaffenen Luftkanäle werden ebenfalls mit Hilfe eines
weiteren Stopfens 13 und einer geeigneten Abdichtmasse 14 verschlossen.
Wie Fig. 2 deutlicher zeigt, ist die Kontaktfeder 6 vorzugsweise ein äußerst dünner Titandraht, der kreisförmigen
Querschnitt und einen Durchmesser von 0,045 mm haben kann und dessen Ende zu einer
. äußerst feinen Spitze ausgebildet ist, welche mit der Kristallfläche einen Kontakt bildet. Wegen des leichten
Druckes, unter dem der Kontaktdraht gegen die Kristallfläche drückt, wird diese scharfe Spitze durch ihre
Berührung mit der Oberfläche leicht abgestumpft. Eine
kleine Kontaktfläche mit einem Durchmesser von etwa 5-10—3 mm entsteht daher. Diese kleine Kontaktfläche
trägt zu der typisch niedrigen Rauschzalil des Gleichrichters bei, macht aber den Kontaktdraht unter dem
Einfluß von Stößen und Schwingungen ohne die Vorkehrungen nach der Krfindung leicht beweglich.
Der Kontaktdraht 6 weist ein Knie 6' auf, durch welches sich der Draht in der Nähe des Kontaktpunktes
der Kristallfläche nähert, ohne diese zu berühren. In einem typischen Falle nähert sich das Knie der
Kristallfläche an einem Punkt, der von dem Kontaktpunkt einen Abstand von etwa 0,305 mm hat. Ein Kittkügelchen
10 hält den Kniebereich 6' des Kontaktdrahtes 6 am Kristall 5 fest. Während das Kügelchen
10 nicht extrem klein zu sein braucht, ist es vorzugsweise so klein, daß ein ausreichender Zwischenraum,
z. B. einige hundertste] mm. zwischen dem Kügelchen einerseits und dem Kontaktpunkt zwischen Kontaktdraht
und Kristall andererseits frei bleibt. Ferner hat das Kügelchen vorzugsweise einen solchen Abstand
vom Kontaktpunkt, daß das Stück des Kontaktdrahtes zwischen dem Kügelchen 10 und dem Kontaktpunkt
so lang ist, daß es etwas federt, wodurch alle restlichen Spannungen absorbiert werden, welche eine
spätere Ausdehnung oder Zusammenziehung des Kügelchens 10 auf den Kristallkontaktpunkt ausüben
könnte.
Ein geeigneter Kitt ist einer der Epoxyd- oder Äthoxylinharze. Der verwendete Kitt sollte beim Abbinden
und Trocknen wenig schrumpfen, einen geringen Temperatur-Ausdehnungskoeffizienten haben, vorzugsweise
nicht hygroskopisch sein und starre Bindungen mit Metallen und Halbleitern eingehen. Vorzugsweise
wird als Kitt für den vorliegenden Zweck ein Gemisch aus dem obenerwähnten Epoxydharz mit
etwa einer gleichen Gewichtsmenge Zeroxyd oder Kieselsäure verwendet. Diesem Gemisch wird unmittelbar
vor der Anwendung ein geeigneter Härter zugesetzt.
Zur Herstellung der in Fig. 1 und 2 dargestellten rauscharmen Kristalldioden wird der Kontakdraht 6
an den Stöpsel 7 angelötet oder -geschweißt und im wesentlichen, wie dargestellt, gebogen und eingedrückt.
Die Gewinde der Stöpsel 7 und 3 werden mit Kitt überzogen und die Stöpsel in gegenüberliegende Enden
des Keramikgehäuses 1 eingeschraubt. Nachdem der Kitt getrocknet ist, wird der Kristallträgerstab 4 in
das Innere des Stöpsels 3 hineingedrückt, bis die Spitze des Kontaktdrahtes 6 die Oberfläche des Kristalls 5 berührt. Danach wird der Kristallträgerstab
weitere 0,05 mm hineingedrückt. Ein Kügelchen des oben bezeichneten Epoxydkittes wird dann mit Hilfe
eines geeigneten Mittels, z. B. einer zugespitzten Pinzette oder eines feinen Drahtes, aufgenommen und an
das Knie des Kontaktdrahtes 6 angesetzt. Dieses Kügelchen sollte groß genug sein, um den Kontaktdraht
6 in der Nähe des Knies 6' zu berühren und zu umgeben und außerdem einen wesentlichen Kontakt
mit der Oberfläche des Kristalls zu bilden, aber nicht so groß sein, daß es sich bis zu dem Berührungspunkt
zwischen dem Kontaktdraht und der Kristallfläche erstreckt. In einem typischen Falle hat das Kügelchen
einen Durchmesser von etwa 0,13 mm. Nach dem Aufbringen läßt man das Kügelchen bei Zimmertemperatur
etwa 36 Stunden lang härten und abbinden und trocknet es dann durch Brennen bei einer Temperatur
von etaw 125° C während einer Zeit von etwa 16 Stunden, wonach in üblicher Weise ein Alterungsstrom
durch den Kontaktdraht 6 geschickt werden kann. Die Kristalldiode wird dann mit einem geeigneten trocke-
nen Gas gefüllt, worauf die Abdichtstopfen 11 und 13 eingekittet werden. Die fertige Diode hat dann eine
äußerst geringe Rauschzahl und ist gleichzeitig äußerst widerstandsfähig gegen mechanische und chemische
Zerstörungskräfte.
Ein vorteilhaftes Merkmal der vorliegenden Ausbildung des Berührungskontaktes ist auch in folgendem
zu sehen: Selbst wenn sich die Kontaktspitze nach der Herstellung leicht bewegen sollte, so wird es normalerweise
möglich sein, den Bauteil dadurch zu erneuern, daß wiederum ein Alterungsstrom in Durchlaßrichtung
durch den Kontaktdraht geschickt wird. Denn das Kittkügelchen 10 wird dabei nicht unzulässig
erhitzt.
Fig. 3 zeigt einen Oberflächen-pn-Schichttransisto". Dieser Transistor weist in einem typischen Falle ein
Germaniumplättchen 30 auf. dessen gegenüberliegende Flächen mit gegenüberliegenden Vertiefungen 31 und
32 versehen sind, wodurch eine verhältnismäßig dünne Trennwand aus Germanium zwischen den Böden dieser
Vertiefungen entsteht. Metallische Elektroden 33 und 34 sind auf die im wesentlichen flachen Bodenteile der
Vertiefungen 31 bzw. 32 beschränkt. Das Germaniumplättchen 30 dient dann als Basis des Transistors.
während die Metallelektroden 33 und 34 die Emitterbzw. Kollektorelektrode bilden. Dieses Gebilde kann
mit Hilfe eines an das Plättchen 30 angelöteten Ansatzplättchens 35 und durch einen Haltestift 36 gehaltert
werden, der durch Punktschweißen am Ansatzplättchen 35 befestigt ist. Der Stift 36 kann durch eine
Grundplatte 37 in Form einer Crlasscheibe hindurchragen und von dieser gehaltert werden.
Stifte 38 und 39, die durch dieselbe Grundplatte 37 hindurchragen, stellen Verbindungen mit Emitter- und
Kollektorkontaktdrähten 40 bzw. 41 her, deren Art im einzelnen weiter unten beschrieben wird. Bei einem
handelsüblichen Transistor umgibt ein mit einem Flansch versehener Ring 44 eng die Glasgruiidplatte
37, und eine geflanschte zylindrische Kappe45 schließt die wirksamen Teile des Transistors ab. Der Ring 44
und die Kappe 45 werden mit Hilfe einer fortlaufenden Schweißung zwischen beiden Flanschen zusammengehalten
und abgedichtet. Geeignete schützende und wärmeleitende Füllstoffe (nicht dargestellt)
können zum Füllen des Innenraumes der Kappe 45 verwendet werden.
Es sollen nun die Anforderungen untersucht werden, die an die Kontaktglieder 40 und 41 zu stellen
sind. Der halbleitende Werkstoff zwischen den Metallelektroden 33 und 34 ist äußerst dünn und daher zerbrechlich.
Der Halbleiter kann an dieser Stelle eine Dicke von etwa 0,005 mm haben. Obwohl die dort
aufgebrachten Metallablagerungen eine zusätzliche Versteifung ergeben, ist man bestrebt, nicht mehr Metall
zu verwenden, als für die elektrische Arbeitsweise notwendig ist. Es ist jedoch außerdem erwünscht, eine
Kontaktanordnung zu verwenden, welche nicht unzulässig empfindlich gegen mechanische Stöße und
Schwingungen ist, da eine solche Empfindlichkeit die elektrische Arbeitsweise in starkem Maße stören
würde. In diesem Fall, wie in dem Fall der oben beschriebenen rauscharmen Diode, ist daher eine leichte,
aber zuverlässige Berührung des Halbleitergebildes, in diesem Fall des Teiles der Kristallfläche erwünscht,
auf welche die Emitter- und Kollektorelektroden aufgebracht wurden.
Demgemäß können die Kontaktdrähte 40 und 41 aus verhältnismäßig dünnem Draht von etwa 0,05 mm einer
Legierung aus Platin und 10% Ruthenium bestehen und vorzugsweise in die dargestellte Form gebogen
Claims (10)
1. Frdennler Berührungskontakt für Halbleiteranonlmmgi'ii. insbesondere für Transistoren, dadurch
gekennzeichnet, daß ein federndes, draht-
förmiges Kontaktglied (6), das an einem Punkt fest gehaltert ist, mit seinem einen Ende gegen
einen vorbestimmten Bereich des Halbleiters (5) federnd mit leichtem Berührungsdruck anliegt und
daß ein Klümpchen (10) aus kittartigem Material das Kontaktglied (6) mit dem Halbleiter (5) in
einem zwischen dem Halterungspuukt und dem Berührungspunkt des Kontaktgliedes liegemlen
Punkt (6'i an einer Stelle des Halbleiters verbindet, die in einigem Abstand vom Kontaktpunkt gelegen
ist.
2. Berührungskoiiiakt nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Teil des Kontaktgliedes
längs der Halbleiteroberfläche verläuft und durch das Klümpchen aus kittartigem Material mit
diesem verbunden ist.
3. Berührungskontakt nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der durch das
Klümpchen aus kittartigem Material und längs der Halbleiteroberfläche verlaufende Teil des Koutaktgliedes
den Halbleiter nicht berührt.
4. Berührungskontakt nach einem der Ansprüche 1 bis 3. dadurch gekennzeichnet, daß das
federnde Kiintaktglied in der Xähe der Halbleiteroberfläche mit einem Knie ausgebildet ist. das sich
der Halbleiteroberfläche an einem in der XTthe des Kontaktpunktes. jedoch in einigem Abstand von
diesem liegenden Punkt (6') nähert, und in diesem durch das Klümpchen (10) aus kittartigem Material
mit dem Halbleiter verbunden ist.
5. Berührungskontakt nach einem der Ansprüche 1 bis 4. dadurch gekennzeichnet, daß die
Spitze des Kontaktes unmittelbar gegen das Halb-Ie i term a te r i al an 1 i eg t.
6. Beriihrungskontakt nach einem der Ansprüche 1 bis 4. dadurch gekennzeichnet, daß die
Spitze des Kontaktes gegen einen metallischen Bereich an der Halbleiteroberfläche anliegt.
7. Berührungskontakt nach einem der Ansprüche 1 bis 6. dadurch gekennzeichnet, daß das
federnde Kontaktglied einen ersten, im wesentlichen rechtwinklig zur Oberfläche des Halbleiters
verlaufenden Teil, tier einen kleiiirlächigen Kontakt mit diesem bildet, sowie einen zweiten, im wesentlichen
längs der Oberfläche verlaufenden und von dem Klümpchen aus kittartigem Material berührten
Teil aufweist.
8. Beriihrungskontakt nach Anspruch 6. dadurch gekennzeichnet, daß der metallische BereicIi einen
gleichrichtenden Flächenkontakt bildet.
9. Berührungskontakt nach Anspruch 6. dadurch gekennzeichnet, daß der metallische Bereich die
Emitter- oder Kollektorelektrode eines Transistors bildet.
10. Berührungskontakt nach einem der Ansprüche 1 bis 9. dadurch gekennzeichnet, daß der
zwischen dem Kontaktpunkt an der Halbleiteroberfläche und dem Klümpchen aus kittartigem
Material verlaufende Teil des Kontaktglieder gegen den PIalbleiter deformiert ist.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
0 909 649/346 11.59
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US422352A US2825015A (en) | 1954-04-12 | 1954-04-12 | Contacting arrangement for semiconductor device and method for the fabrication thereo |
| DEP0019542 | 1957-10-23 |
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|---|---|
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| DE (1) | DE1069296B (de) |
| GB (1) | GB808417A (de) |
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