DE1068024B - Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines festen Körpers aus kristallinem Stoff, insbesondere eines Halbleiterkörpers - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines festen Körpers aus kristallinem Stoff, insbesondere eines HalbleiterkörpersInfo
- Publication number
- DE1068024B DE1068024B DENDAT1068024D DE1068024DA DE1068024B DE 1068024 B DE1068024 B DE 1068024B DE NDAT1068024 D DENDAT1068024 D DE NDAT1068024D DE 1068024D A DE1068024D A DE 1068024DA DE 1068024 B DE1068024 B DE 1068024B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- melting
- rod
- seedling
- semiconductor
- tip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 13
- 239000007787 solid Substances 0.000 title claims description 6
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 title claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 13
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 5
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 3
- 238000010309 melting process Methods 0.000 claims description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims 1
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 claims 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000004857 zone melting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B11/00—Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
- C30B11/04—Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method adding crystallising materials or reactants forming it in situ to the melt
- C30B11/08—Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method adding crystallising materials or reactants forming it in situ to the melt every component of the crystal composition being added during the crystallisation
- C30B11/10—Solid or liquid components, e.g. Verneuil method
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B33/00—Clay-wares
- C04B33/32—Burning methods
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
KL.
INTERNAT. KL C 22 f
PATENTAMT
C 30 B Π / O1*
S 37807 VI/40d
ANMELDETAG: 24. FEBRU AR 1954
BEKANNTMACHUNG
DEB ANMELDUNG
UND AUSGABE DER
AÜSLEGESCHRIFT: 29. O KT O B E R 1959
Zur Gewinnung eines kristallinen Stoffes höchster Reinheit oder zur Herstellung von Einkristallen aus
solchem Stoff, insbesondere aus Halbleiterstoff wie Germanium, Silizium oder einer Verbindung von Elementen
der III. und V. bzw. der II. und VI. Gruppe des Periodischen Systems können bekanntlich stabförmige
Körper dieses Stoffes mittels des Zonenschmelzverfahrens aus pulverförmigem Ausgangsstoff
hergestellt werden, indem dieser in einem länglichen Tiegel (Schiffchen) zonenweise verflüssigt wird. Der
Tiegel ist unter Umständen gegenüber der hohen Arbeitstemperatur, wie sie beispielsweise zum Schmelzen
von Silizium erforderlich ist, nicht widerstandsfähig genug, oder der Schmelzung haftet nach dem Erstarren
fest am Tiegel. Außerdem besteht die Gefahr, daß der Schmelzung aus dem Tiegel unerwünschte
Verunreinigungen aufnimmt. Eine Verunreinigung droht auch bei verschiedenen bekannten Schmelzverfahren
ohne Tiegel, bei denen der behandelte Stoff mittels einer Flamme erhitzt wird. Die Nachteile der
bekannten Verfahren werden mit der Erfindung vermieden.
Demgemäß betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines festen Körpers aus kristallinem
Stoff, insbesondere eines Halbleiterkörpers, durch tiegelloses Schmelzen mittels verbrennungsloser Erhitzung,
bei dem an einem Ende eines Ausgangskörpers eine Schmelzkuppe, in die Nachschubmaterial
in Form fester Teilchen eingebracht wird, fortlaufend erstarrt, indem das Werkstück relativ zur Beheizungsvorrichtung
der Schmelzkuppe entgegen der Wachstumsrichtung des Werkstückes bewegt wird. Erfindungsgemäß
wird ein hängender Stab erzeugt, indem ein Schmelztropfen, der zunächst unten am Ausgangskörper
und später am unteren Ende des Stabes frei hängt, und ein Nachschubvorrat intermittierend einander
so weit genähert werden, bis Teile des letzteren am Schmelztropfen hängenbleiben, die jedesmal nach
Wieder-entfernung des übrigen Vorrats mit eingeschmolzen
werden. Der Stab bzw. Keimling kann laufend nach oben abgezogen werden, derart, daß von
der geschmolzenen Flüssigkeitsmenge ebenso viel, wie durch das Aufschmelzen des zugeführten Vorratsmaterials hinzukommt, erstarrt und dabei an dem
bereits starren Stabteil anwächst.
Die laufende gegenseitige axiale Verschiebung der Heizeinrichtung und des Werkstückes ist an sich bekannt
bei einem Verfahren zur Herstellung von Halbleiterkristallen, bei welchem gepulvertes Halbleitermaterial
stetig oder intermittierend auf eine an der Oberfläche erhitzte Unterlage aus entsprechendem
Halbleitcrstoff aufgebracht wird. Demgegenüber ist aber die hängende Lage des Werkstückes vorteilhafter,
weil sich an seinem unteren Ende die Flüssigkeit in Verfahren und Vorrichtung
zur Herstellung eines festen Körpers
zur Herstellung eines festen Körpers
aus kristallinem Stoff,
insbesondere eines Halbleiterkörpers
insbesondere eines Halbleiterkörpers
Anmelder:
Siemens-Schuckertwerke
Aktiengesellschaft,
Berlin und Erlangen,
Erlangen, Werner-von-Siemens-Str. 50
Dr. phil. nat. Konrad Reuschel
und Dipl.-Phys. Reimer Emeis, Pretzfeld,
sind als Erfinder genannt worden
Tropfenform besser und in größerer Menge sowie regelmäßiger Gestalt hält.
Einem anderen bekannten Verfahren, bei welchem tin Schmelzung direkt aus einer Vorratssohmelze, die
sich in verhältnismäßig großer Menge in einem Tiegel befindet, herausgezogen wird, ist das neue Verfahren
durch Einfachheit und geringeren Aufwand überlegen.
Einzelheiten des neuen Verfahrens sollen an Hand der Zeichnung näher erläutert werden.
Die Zeichnung zeigt eine Vorrichtung, bei der nicht nur Pulver, sondern beliebiges körniges Ausgangsmaterial
verwendet werden kann. Ein Halbleiterstab 2 ist in ein Quarzrohr 4 eingeschlossen und in senkt
echter Lage hängend am oberen Ende in einer Halterung 19 eingespannt, die am Ende einer Welle 21
sitzt. Die Welle 21 ist durch die Fassung 22, in die das Ende des Quarzrohres 4 eingeschliffen ist, vakuumdicht
hindurchgeführt und sowohl drehbar als auch unabhängig davon in Achsrichtung verschiebbar. An
der Fassung 22 befindet sich ein Stutzen 25 zum Evakuieren oder zum Füllen des Innenraumes der Einrichtung
mit einem geeigneten Schutzgas.
Die untere Fassung 24 für das Quarzrohr 4 ist flanschartig verbreitert. An ihrer Unterseite ist ein
trichterförmiger Vorratsbehälter 50 befestigt, dessen engste Stelle durch einen lotrecht beweglichen Stempel
51 abgeschlossen wird. Eine Stange 52 zur Betätigung des Stempels 51 ist durch den unteren Abschk
boden eines am Trichter 50 befindlichen rohrförjj
Ansatzes vakuumdicht nach außen geführt.
boden eines am Trichter 50 befindlichen rohrförjj
Ansatzes vakuumdicht nach außen geführt.
Claims (4)
- geschliffenen Fassungen 22 und 24 werden durch Spannbolzen 61 und mittels einer auf der Fassung 22 liegenden Endplatte 59 zusammengepreßt. Die ganze Vorrichtung ruht auf einem Gestell 23.Als Wärmequelle ist eine Heizspule 20 vorgesehen, die das Quarzrohr außen umgibt. Sie besteht z. B. aus Kupferrohr, das von Kühlwasser durchströmt wird. An ihren Klemmen 31 wird eine Hochfrequenz-Spannung von mehreren MHz angeschlossen. Die Heizspule kanu beispielsweise an einem der Spannbolzen 61 mittels Klemmplatten 62 befestigt sein. Zur Einleitung" eines Schmelzverfahreus muß der Halbleiterkörper 2 zunächst vorgewärmt werden. Zu diesem Zwecke ist in der Nähe des oberen Endes des Stabes 2 ein geschlossener Ring 17 aus Wolfram- oder Molybdänblech od. dgl. vorgesehen. Er wird durch kleine Drähte 16 aus gleich hitzebeständigeni Material gehalten, die mit dem Keimling zusammen in ein Ouarzröhrchen 15 eingeklemmt sind, das seinerseits in der Halterung 19 befestigt ist. ■Zu Beginn eines Ziehvorganges wird die Halterung 19 mit dem Keimling so weit nach, unten ausgefahren, daß sich das untere Ende des Keimlings in der Höhe der Heizspule 20 und der Vorheizring 17 dicht darüber ebenfalls noch im Feldbereich der Heizspule 20 befindet. Infolgedessen wird nach Einschaltung des Hochfrequenzstromes der Heizring 17 zum Glühen gebracht. Dadurch wird die Temperatur und infolgedessen die Leitfähigkeit des Keimlings an seinem unteren Ende so weit erhöht, daß darin von der Spule 10 induzierte Ströme fließen können und somit das Ende des Keimlings schließlich verflüssigt wird. Die flüssige Schmelzkuppe 11 kann beispielsweise bei der Behandlung von Silizium infolge der verhältnismäßig hohen Oberflächenspannung eine Länge von 5 bis 10 mm annehmen.Das Nachschubmaterial kann so, wie es aus einem vorangegangenen chemischen Reinigungsverfahren hervorgegangen ist, nämlich in Gestalt von nadelförmigeu Kristallen, verwendet werden. Damit wird der sonst zur Herstellung des feinen Pulvers notwendige Zerkleinerungsprozeß auch noch erspart.Der Nachschub des im Vorratstrichter 50 enthaltenen Materials erfolgt in der Weise, daß der Stempel 51, dessen oberes, muldenförmig ausgehöhltes Ende sich in der Ruhelage unterhalb des Materialvorrats befindet und den Trichterraum nach unten · abschließt, durch Betätigung der Stange 52 angehoben wird, bis das obere Ende aus dem Materialvorrat heraustritt. Dabei bleiben einige Körnchen des Nach-Schubmaterials in der oberen Mulde des Stempels liegen und werden weiterbewegt, bis sie mit der Schmelzkuppe 11 in Berührung kommen. An dieser Schmelzkuppe bleiben dann einige Kristalle haften und werden infolgedessen mit aufgeschmolzen. Diese Materialzufuhr wird in geeigneten Abständen wiederholt und dabei der Schmelzung 2 nach oben gleichmäßig abgezogen. Die Ziehgeschwindigkeit liegt in der Größenordnung von etwa 0,5 bis 5 mm/Min.Statt wie beschrieben kann die Anordnung auch so getroffen sein, daß die Halterung 19 zusätzlich schnell verschiebbar ist, so daß mit ihr der Halbleiterstab nach unten bewegt werden kann, bis die Schmelzkuppe in den darunter befindlichen Materialvorrat einstippt, worauf er wieder in die vorherige Stellung nach oben zurückgeschoben wird.Die nach den beschriebenen Verfahren hergestellten, insbesondere einkristallmen Schmelzlinge aus Halbleitermaterial werden bevorzugt zur Herstellung von Richtleitern, Transistoren u. dg'l. verwendet.Paten i-.vJ. Verfahren zur Herstellung eines festen Körpers aus kristallinem Stoff, insbesondere eines Halbleiterkörpers, durch tiegelloses Schmelzen mittels verbrennungsloser Erhitzung, bei dem an einem Ende eines Ausgangskörpers eine Schmelzkuppe, in die Nachschubmaterial in Form fester Teilchen eingebracht wird, fortlaufend erstarrt, indem das Werkstück relativ zur Beheizungsvorrichtung der Schmelzkuppe entgegen der Wachstumsrichtung des Werkstückes bewegt wird, dadurch gekennzeichnet, daß ein hängender Stab erzeugt wird, indem ein Schmelztropfen, der zunächst unten am Ausgangskörper und später am unleren Ende des Stabes frei hängt, und ein Nachschubvorrat intermittierend einander so weit genähert werden, bis Teile des letzteren am Schmelztropfen hängenbleiben, die jedesmal nach Wiederentfernung des übrigen Vorrats mit eingeschmolzen werden.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Nachschubmaterial aus einem chemischen Herstellungs- bzw. Behandlungsverfahren hervorgegangene nadeiförmige Kristallite verwendet werden.
- 3. Vorrichtung zur Ausübung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in einem unterhalb des Werkstückes angebrachten Vorratsbehälter ein lotrechter Stempel, der an seinem oberen Ende, eine Mulde hat, derart lotrecht beweglich angeordnet ist, daß in der einen Endstellung die Mulde sich unter der Oberfläche des losen Materialvorrats befindet und in der anderen Endstellung die Füllung der Mulde die Schmelzkuppe des Halbleiterstabes berührt.
- 4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Vorratsbehälter die Form eines Trichters hat, dessen engste Stelle durch den Stempel verschlossen wird.In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschrift Nr. 390 797.Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE331351X | 1954-02-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1068024B true DE1068024B (de) | 1959-10-29 |
Family
ID=6196370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DENDAT1068024D Pending DE1068024B (de) | 1954-02-24 | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines festen Körpers aus kristallinem Stoff, insbesondere eines Halbleiterkörpers |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| CH (1) | CH331351A (de) |
| DE (1) | DE1068024B (de) |
| GB (1) | GB779957A (de) |
| NL (2) | NL87293C (de) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL237618A (de) * | 1958-04-03 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE390797C (de) * | 1923-02-04 | 1924-02-29 | Ernst Schlumberger Dr | Verfahren zur Herstellung synthetischer Edelsteine |
-
0
- NL NL194335D patent/NL194335A/xx unknown
- DE DENDAT1068024D patent/DE1068024B/de active Pending
- NL NL87293D patent/NL87293C/xx active
-
1955
- 1955-02-22 CH CH331351D patent/CH331351A/de unknown
- 1955-02-24 GB GB5624/55A patent/GB779957A/en not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE390797C (de) * | 1923-02-04 | 1924-02-29 | Ernst Schlumberger Dr | Verfahren zur Herstellung synthetischer Edelsteine |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB779957A (en) | 1957-07-24 |
| CH331351A (de) | 1958-07-15 |
| NL87293C (de) | |
| NL194335A (de) |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE68913237T2 (de) | Siliciumgiessvorrichtung. | |
| DE944209C (de) | Verfahren zur Herstellung von Halbleiterkoerpern | |
| DE1044768B (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines stabfoermigen kristallinen Koerpers, vorzugsweise Halbleiterkoerpers | |
| DE1210415B (de) | Verfahren zum tiegellosen Zonenschmelzen eines durch Ziehen aus der Schmelze erhaltenen Halbleiterstabes | |
| DE2752308A1 (de) | Vorrichtung zum zuechten von einkristallen aus einer schmelze bei zufuehrung von zerkleinertem chargenmaterial | |
| DE1458155A1 (de) | Vorrichtung zum kontinuierlichen Strangziehen von vielkristallinem Material | |
| DE3814259A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines einkristalls eines verbindungshalbleiters | |
| DE1719024A1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Stabes aus Halbleitermaterial fuer elektronische Zwecke | |
| DE1068024B (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines festen Körpers aus kristallinem Stoff, insbesondere eines Halbleiterkörpers | |
| DE1263698B (de) | Verfahren zum tiegelfreien Zonenschmelzen | |
| DE1941968C3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Einkristallen | |
| DE1444530A1 (de) | Verfahren zum Herstellen von einkristallinen Halbleiterstaeben | |
| DE1251272B (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines Stabes durch Aufziehen aus einer Schmelze | |
| DE3519632A1 (de) | Verfahren und vorrichtung fuer das ziehen von monokristallinen siliziumstaeben | |
| DE1218412B (de) | Verfahren zum Herstellen von einkristallinem Halbleitermaterial | |
| DE2358300A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum tiegelfreien zonenschmelzen eines halbleiterkristallstabes | |
| DE1278413B (de) | Verfahren zum Ziehen duenner stabfoermiger Halbleiterkristalle aus einer Halbleiterschmelze | |
| DE1170913B (de) | Verfahren zur Herstellung von kristallinem Silicium in Stabform | |
| DE1162329B (de) | Verfahren zum Herstellen von langgestreckten, insbesondere dendritischen Halbleiterkoerpern und Vorrichtung zur Durchfuehrung dieses Verfahrens | |
| DE1240825B (de) | Verfahren zum Ziehen von Einkristallen aus Halbleitermaterial | |
| AT225860B (de) | Verfahren zum Schmelzen und Gießen | |
| DE2060673C3 (de) | Vorrichtung zur Herstellung von Phosphiden | |
| DE1417138B2 (de) | ||
| AT223659B (de) | Verfahren zur Herstellung von versetzungsfreiem einkristallinem Silizium durch tiegelfreies Zonenschmelzen | |
| DE1113682B (de) | Verfahren zum Ziehen von Einkristallen, insbesondere aus Halbleitermaterial aus einer an einem Rohr haengenden Schmelze |