DE10340887B4 - Verfahren zur Herstellung von Disiloxanen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Disiloxanen Download PDFInfo
- Publication number
- DE10340887B4 DE10340887B4 DE2003140887 DE10340887A DE10340887B4 DE 10340887 B4 DE10340887 B4 DE 10340887B4 DE 2003140887 DE2003140887 DE 2003140887 DE 10340887 A DE10340887 A DE 10340887A DE 10340887 B4 DE10340887 B4 DE 10340887B4
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- formula
- reaction
- water
- disiloxanes
- chlorosilanes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 11
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 58
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 36
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims abstract description 24
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 21
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims abstract description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 4
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 7
- -1 siloxanes Chemical class 0.000 description 15
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 14
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 9
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 6
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 5
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 2
- NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(C)C NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- SLRMQYXOBQWXCR-UHFFFAOYSA-N 2154-56-5 Chemical compound [CH2]C1=CC=CC=C1 SLRMQYXOBQWXCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNUALPPJLMYHDK-UHFFFAOYSA-N C[CH]C Chemical compound C[CH]C HNUALPPJLMYHDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 1
- 229910019093 NaOCl Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- BQOWUDKEXDCGQS-UHFFFAOYSA-N [CH]1CCCC1 Chemical compound [CH]1CCCC1 BQOWUDKEXDCGQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- RMRFFCXPLWYOOY-UHFFFAOYSA-N allyl radical Chemical compound [CH2]C=C RMRFFCXPLWYOOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C=C XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- XEHVFKKSDRMODV-UHFFFAOYSA-N ethynyl Chemical compound C#[C] XEHVFKKSDRMODV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 150000002497 iodine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000021190 leftovers Nutrition 0.000 description 1
- WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N methyl Chemical compound [CH3] WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000009965 odorless effect Effects 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- ORGHESHFQPYLAO-UHFFFAOYSA-N vinyl radical Chemical compound C=[CH] ORGHESHFQPYLAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
- C07F7/0872—Preparation and treatment thereof
- C07F7/0874—Reactions involving a bond of the Si-O-Si linkage
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
Abstract
Verfahren
zur Herstellung von Disiloxanen der allgemeinen Formel R3SiOSiR3 (I) unter Bildung
von gasförmigem
Chlorwasserstoff durch Umsetzung von Chlorsilanen der Formel R3SiCl (II) mit höchstens
0,5 mol Wasser pro mol Si-Cl im Silan der Formel (II),
wobei R gleich oder verschieden sein kann und Wasserstoffatom oder gegebenenfalls substituierter Kohlenwasserstoffrest bedeutet.
wobei R gleich oder verschieden sein kann und Wasserstoffatom oder gegebenenfalls substituierter Kohlenwasserstoffrest bedeutet.
Description
- Die vorliegende Erfindung beschreibt ein Verfahren zur Herstellung von Disiloxanen durch Umsetzung von Chlorsilanen unter Bildung von gasförmigem Chlorwasserstoff.
- Verfahren zur Herstellung von Siloxanen sind bereits vielfach bekannt, wobei bei diesen Verfahren das Chlorsilan mit einem Überschuss an Wasser reagiert und die gebildete wässrige Salzsäure entsorgt wird.
- In
DE 32 44 500 A1 wird die Hydrolyse von Chlorsilanen, vorrangig von Dimethyldichlorsilan, mit stöchiometrischem Überschuss an Wasser (1 mol Dimethyldichlorsilan + 2 mol Wasser) zu Dimethylpolysiloxan-Hydrolysat, wasserfreiem Chlorwasserstoff und einer gesättigten wässrigen Chlorwasserstoffsäurelösung, die zurückgeführt wird, beschrieben. -
US 4,609,751 beschreibt ein analoges Verfahren mit erweiterter Chlorsilanpalette, so auch Trimethylchlorsilan. Trimethylchlorsilan wird mit einem stöchiometrischen Überschuss an Wasser (1:1) hydrolysiert und anschließend die wasserfreie HCl aus der wässrigen Salzsäure gewonnen. Ein Teil der wässrigen Salzsäure geht in die Hydrolysereaktion zurück. - In
US 4,497,942 wird die Hydrolyse von Dimethyldichlorsilan mit Wasserüberschuss im Rohrreaktor mit eingebautem Statikmischer offenbart, wobei wasserfreie HCl als Nebenprodukt anfällt. - In
DE 10146390 A1 wird die abwasserfreie Herstellung von Polyorganosiloxanen beschrieben. Dabei wird Chlorsilan, bevorzugt Dimethyldichlorsilan mit Salzsäure unter Bildung von gasförmiger HCl und einem Oligomer umgesetzt. Im zweiten Schritt reagiert das Oligomer mit einem Überschuss an Salzsäure zum Siloxan, welches in einem dritten Schritt mit Wasser neutralisiert wird. Die abgetrennten Säuren werden in die jeweils vorgeschaltete Verfahrensstufe zurückgeführt. - In
JP7002876 - Nach
JP7126269 JP7002876 -
RU2032687 - Hexamethyldisilan ist das Ausgangsprodukt des in
JP8048690 - Das Patent
JP146658 - Die Herstellung eines reinen, geruchlosen Hexamethyldisiloxanes ist nach
EP 277 825 A - Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von Disiloxanen der allgemeinen Formel
wobei R gleich oder verschieden sein kann und Wasserstoffatom oder gegebenenfalls substituierter Kohlenwasserstoffrest bedeutet. - Beispiele für Reste R sind Alkylreste, wie der Methyl-, Ethyl-, n-Propyl- und iso-Propylrest; Cycloalkylreste, wie der Cyclopentylrest; Alkenylreste, wie der Vinyl- und der Allylrest; Alkinylreste, wie der Ethinylrest; Arylreste, wie der Phenyl- und Naphthylrest; Alkarylreste, wie o-, m-, p-Tolylreste; und Aralkylreste, wie der Benzylrest.
- Beispiele für substituierte Reste R sind Halogenalkylreste, wie CF3-Rest und der 3,3,3-Trifluor-n-propylrest, sowie alle für R oben genannten Reste, die mit Aryloxygruppen, Acryloxygruppen, Methacryloxygruppen und Halogengruppen substituiert sein können.
- Bevorzugt handelt es sich bei dem Rest R um Wasserstoffatom oder einen einwertigen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, besonders bevorzugt um Wasserstoffatom, Methyl- oder Vinylrest, insbesondere um Methylrest.
- Bevorzugt handelt es sich bei den erfindungsgemäß hergestellten Disiloxanen der Formel (I) um Hexamethyldisiloxan, Tetramethyldihydrogendisiloxan und Tetramethyldivinyldisiloxan, wobei Hexamethyldisiloxan besonders bevorzugt ist.
- Bevorzugt handelt es sich bei den erfindungsgemäß eingesetzten Chlorsilanen der Formel (2) um Trimethylchlorsilan, Dimethylhydrogenchlorsilan und Dimethylvinylchlorsilan, wobei Trimethylchlorsilan besonders bevorzugt ist.
- Das erfindungsgemäße Verfahren wird bevorzugt bei einer Temperatur durchgeführt, die 10 bis 30°C niedriger ist als die Siedetemperatur des Disiloxans der Formel (I) bei dem jeweiligen Reaktionsdruck.
- Das erfindungsgemäße Verfahren wird bevorzugt bei einem Druck von 0,1 bis 1,0 bar durchgeführt.
- Das im erfindungsgemäßen Verfahren verwendete Wasser wird besonders bevorzugt in Form von wässriger Salzsäure eingesetzt.
- Das erfindungsgemäße Verfahren kann diskontinuierlich oder kontinuierlich, besonders bevorzugt kontinuierlich, durchgeführt werden.
- Das erfindungsgemäße Verfahren hat den Vorteil, dass auf einfache Weise Disiloxane in sehr hohen Ausbeuten hergestellt werden können.
- Des weiteren hat das erfindungsgemäße Verfahren den Vorteil, dass der bei der Hydrolyse entstehende Chlorwasserstoff gasförmig, mit hohem Reinheitsgrad für den Wiedereinsatz bei anderen Reaktionen (z.B. Methylchloridherstellung und Chlorsilansynthese) erhalten wird und der Anfall von Abwasser vermieden wird.
- Variante 1
- In einer bevorzugten Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens (Variante 1) werden Chlorsilane der Formel (II) mit konzentrierter Salzsäure, wie z.B. etwa 36 Gew.-%-iger Salzsäure, in einem Rohrreaktor oder Loop kontinuierlich in einer solchen Menge miteinander umgesetzt, dass höchstens 0,5 mol Wasser pro mol Si-Cl im Silan der Formel (II) vorliegen. Die Reaktion ist unvollständig, wobei höchstens 75 bis 85 Gew.-% Disiloxan entstehen, bezogen auf eingesetzte Chlorsilanmenge. Variante 1 wird bevorzugt bei einer Temperatur durchgeführt, die 10-30°C niedriger ist als die Siedetemperatur des Disiloxanes bei dem jeweiligen Reaktionsdruck, besonders bevorzugt 30 Grad niedriger als die entsprechende Siedetemperatur. Des Weiteren wird die erfindungsgemäße Variante 1 bei einem Druck von bevorzugt 0,1 bis 1,0 bar, besonders bevorzugt von 0,1 bis 0,5 bar, durchgeführt.
- Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Disiloxanen (I) unter Bildung von gasförmigem Chlorwasserstoff durch Umsetzung von Chlorsilanen der Formel (II) mit konzentrierter Salzsäure in einem Rohrreaktor oder Loop, wobei die Menge an Salzsäure so gewählt wird, dass höchstens 0,5 mol Wasser pro mol Si-Cl im Silan der Formel (II) vorliegen.
- Nach Verlassen des Reaktors entweicht der gasförmige Chlorwasserstoff, und das Hydrolysegemisch, das im Wesentlichen aus Disiloxan, nicht umgesetztem Chlorsilan und Salzsäure besteht, wird in einem Trennbehälter getrennt.
- Bevorzugt wird das nach dem erfindungsgemäßen Verfahren erhaltene HCl-Gas in einem Reinigungsschritt von vorhandenen Verunreinigungen, wie Chlorsilan, Salzsäure und Disiloxan, getrennt. Hierzu können Wasser- und Solekühler hintereinandergeschaltet werden, deren Kondensate in die Hydrolysereaktion zurückgeführt werden.
- Das den Trennbehälter verlassende erfindungsgemäß hergestellte Disiloxan enthält bis zu 25 Gew.-% nicht umgesetztes Chlorsilan, welches vorzugsweise destillativ entfernt und in die Hydrolysereaktion zurückgeführt wird.
- Die abgetrennte Salzsäure wird vorteilhafterweise wieder in die erfindungsgemäße Hydrolysereaktion zurückgeführt. Besonders bevorzugt wird diese Salzsäure mit HCl-Dünnsäure verdünnt, die z.B. aus der nachgeschalteten Wäsche erhalten werden kann. Die Schaffung eines größeren Säurekreislaufes erweist sich als sehr günstig, damit die Reaktanten im Reaktionsraum gut durchmischt werden.
- Nach erfolgter Destillation wird nach der erfindungsgemäßen Variante 1 ein Disiloxan erhalten mit einem Gehalt an Triorganochlorsilan von < 3 Gew.-%. Dieses Disiloxan kann mit der für die Hydrolysereaktion notwendigen stöchiometrischen Wassermenge in ein oder zwei Stufen gewaschen werden.
- Bevorzugt erfolgt diese Wäsche bei einer Temperatur von 15 bis 30°C in einem Loop-Reaktor, wo Disiloxan und Wasser mittels Kreiselpumpe intensiv vermischt und kontinuierlich ausgekreist werden.
- Nach Abtrennung des Waschwassers, welches als HCl-Dünnsäure wieder in den Prozess rückgeführt werden kann, beträgt die Reinheit des Disiloxans > 99,5 Gew.-%.
- Variante 2
- In einer weiteren bevorzugten Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens (Variante 2) wird Chlorsilan (II) mit Wasser, bevorzugt in Form der HCl-Dünnsäure aus den Waschstufen, in einer Menge, dass höchstens 0,5 mol Wasser pro mol Si-Cl im Silan der Formel (II) vorliegen, im oberen Teil einer Reaktionskolonne umgesetzt.
- Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Disiloxanen (I) unter Bildung von gasförmigem Chlorwasserstoff durch Umsetzung von Chlorsilanen der Formel (II) mit Wasser im oberen Teil einer Reaktionskolonne, wobei die Menge an Wasser so gewählt wird, dass höchstens 0,5 mol Wasser pro mol Si-Cl im Silan der Formel (II) vorliegen.
- Variante 2 wird bevorzugt bei einer Temperatur durchgeführt, die 10-30°C niedriger ist als die Siedetemperatur des Disiloxanes bei dem jeweiligen Reaktionsdruck, besonders bevorzugt 30°C niedriger. Des Weiteren wird die erfindungsgemäße Variante 2 bei einem Druck von bevorzugt 0,1 bis 1,0 bar, besonders bevorzugt 0,1 bis 0,5 bar, durchgeführt.
- Dabei gelangt das erfindungsgemäß hergestellte Disiloxan in den Sumpf der Kolonne, wobei der Sumpf Disiloxan auf Siedetemperatur erhitzt enthält. Restliches nicht umgesetztes Chlorsilan sowie gasförmiger Chlorwasserstoff gehen über Kopf ab. Über ein Kühlsystem entweicht die gereinigte HCl; einkondensiertes Chlorsilan und Disiloxan gelangen auf die Reaktionskolonne zurück.
- Bevorzugt wird bei der Verfahrensvariante 2 HCl-Dünnsäure in einer Menge eingesetzt, dass 0,4 bis 0,45 mol Wasser pro mol Si-Cl vorliegen. Diese niedrige Wassermenge ist notwendig, damit keine wässrige Salzsäure in den Sumpf gelangt, der Anteil des im Kreis geführten Chlorsilanes jedoch so hoch ist, dass das angebotene Hydrolysewasser immer abreagiert.
- Das den Sumpf verlassende erfindungsgemäß hergestellte Disiloxan enthält < 3 Gew.-% Chlorsilan, welches in einer ein- oder zweistufigen Wäsche noch umgesetzt werden kann.
- Nach Abtrennung des Waschwassers (HCl-Dünnsäure) erhält man Disiloxan mit einer Reinheit von > 99,5 Gew.-%.
- In den nachfolgenden Beispielen sind, falls nicht anders angegeben alle Mengen- und Prozentangaben auf das Gewicht bezogen.
- Beispiel 1 (Variante 1)
- Der folgende Reaktor wird verwendet: Rohrreaktor (Stahl/PTFE, NW 25), Volumen 750 ml, statischer Mischer am Eintritt der Reaktanten. Die Hydrolyse wurde unter den in Tabelle 1 angegebenen Bedingungen durchgeführt.
- Tabelle 1:
- Das so erhaltene Hydrolysat wurde nun mittels einer Füllkörperkolonne (h=22,5 cm, d = 2,8 cm, Sumpftemperatur 85 – max. 90 °C) destilliert. Die Ergebnisse finden sich in Tabelle 2. Tabelle 2:
- Anschließend wurde das so erhaltene Destillat mittels Loop mit Kreiselpumpe gewaschen, wobei das Verhältnis von Disiloxan (Si2) nach Destillation : Wasser wie nachstehend beschrieben ist:
1-stufige Wäsche : 500 g Si2, 55 g teilentsalztes Wasser
2-stufige Wäsche : 500 g Si2, 1. Stufe 40 g teilentsalztes Wasser, 2. Stufe 15 g teilentsalztes Wasser. - Nach der Trennung von Disiloxan und HCl-Dünnsäure wurde das Siloxan zur Entfernung von Wasserspuren über einen Koaleszer gegeben. Es wird Hexamethyldilsiloxan mit den in Tabelle 3 angegebenen Eigenschaften erhalten.
- Tabelle 3:
- Beispiel 2 (Variante 2)
- Der folgende Reaktor wird verwendet: Reaktionskolonne mit Füllkörpern, h = 90 cm, d = 2,5 cm
Sumpf: 1 kg Hexamethyldisiloxan - Das im Sumpf befindliche Hexamethyldisiloxan wurde vor Beginn der Reaktion auf Siedetemperatur erhitzt, ebenso ca. 2/3 der Kolonne.
- Die Hydrolyse wurde unter den in Tabelle 4 angegebenen Bedingungen durchgeführt.
- Tabelle 4:
- An der Sumpftemperatur ist erkennbar, wenn größere Mengen an Trimethylchlorsilan in den Sumpf durchfallen.
- Das so erhaltene Hexamethyldisiloxan wurde wie in Beispiel 1 beschrieben gewaschen und Wasserspuren entfernt. Die Reinheit betrug in beiden Fällen ebenfalls 99,8 %.
- Beispiel 3 (Variante 2)
- Die in Beispiel 2 beschriebene Verfahrensweise wird wiederholt mit der folgenden Abänderung: Reaktionskolonne mit Füllkörpern, h = 90 cm, d = 2,5 cm
Sumpf: 1 kg Tetramethyldivinyldisiloxan - Die Hydrolyse wurde unter den in Tabelle 5 angegebenen Bedingungen durchgeführt.
- Tabelle 5:
- Das so erhaltene Hexamethyldisiloxan wurde wie in Beispiel 1 beschrieben gewaschen und Wasserspuren entfernt. Die Reinheit betrug in beiden Fällen ebenfalls 99,8%.
Claims (5)
- Verfahren zur Herstellung von Disiloxanen der allgemeinen Formel
- Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass es bei einer Temperatur durchgeführt wird, die 10 bis 30°C niedriger ist als die Siedetemperatur des Disiloxans der Formel (I) bei dem jeweiligen Reaktionsdruck.
- Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass es bei einem Druck von 0,1 bis 1,0 bar durchgeführt wird.
- Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Disiloxanen (I) unter Bildung von gasförmigem Chlorwasserstoff durch Umsetzung von Chlorsilanen der Formel (II) mit konzentrierter Salzsäure in einem Rohrreaktor oder Loop, wobei die Menge an Salzsäure so gewählt wird, dass höchstens 0,5 mol Wasser pro mol Si-Cl im Silan der Formel (II) vorliegen.
- Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Disiloxanen (I) unter Bildung von gasförmigem Chlorwasserstoff durch Umsetzung von Chlorsilanen der Formel (II) mit Wasser im oberen Teil einer Reaktionskolonne, wobei die Menge an Wasser so gewählt wird, dass höchstens 0,5 mol Wasser pro mol Si-Cl im Silan der Formel (II) vorliegen.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2003140887 DE10340887B4 (de) | 2003-09-04 | 2003-09-04 | Verfahren zur Herstellung von Disiloxanen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2003140887 DE10340887B4 (de) | 2003-09-04 | 2003-09-04 | Verfahren zur Herstellung von Disiloxanen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE10340887A1 DE10340887A1 (de) | 2004-03-18 |
| DE10340887B4 true DE10340887B4 (de) | 2005-01-05 |
Family
ID=31724894
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2003140887 Expired - Fee Related DE10340887B4 (de) | 2003-09-04 | 2003-09-04 | Verfahren zur Herstellung von Disiloxanen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE10340887B4 (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102757458B (zh) * | 2012-07-30 | 2015-04-29 | 嘉兴联合化学有限公司 | 制备四甲基二氢二硅氧烷的方法及装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105061483A (zh) * | 2015-08-19 | 2015-11-18 | 湖北兴瑞化工有限公司 | 一种利用有机硅副产物制备六甲基二硅氧烷的方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3244500A1 (de) * | 1981-12-14 | 1983-06-23 | General Electric Co., Schenectady, N.Y. | Verfahren zum hydrolysieren von chlorsilanen |
| US4497942A (en) * | 1983-12-14 | 1985-02-05 | General Electric Company | Process for hydrolyzing chlorosilanes |
| EP0227825A1 (de) * | 1985-07-30 | 1987-07-08 | Postron Corp. | Elektronisches system zur übertragung von information |
| DE10146390A1 (de) * | 2001-09-20 | 2002-06-06 | Wacker Chemie Gmbh | Abwasserfreie Herstellung von Polyorganosiloxanen |
-
2003
- 2003-09-04 DE DE2003140887 patent/DE10340887B4/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3244500A1 (de) * | 1981-12-14 | 1983-06-23 | General Electric Co., Schenectady, N.Y. | Verfahren zum hydrolysieren von chlorsilanen |
| US4497942A (en) * | 1983-12-14 | 1985-02-05 | General Electric Company | Process for hydrolyzing chlorosilanes |
| EP0227825A1 (de) * | 1985-07-30 | 1987-07-08 | Postron Corp. | Elektronisches system zur übertragung von information |
| DE10146390A1 (de) * | 2001-09-20 | 2002-06-06 | Wacker Chemie Gmbh | Abwasserfreie Herstellung von Polyorganosiloxanen |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102757458B (zh) * | 2012-07-30 | 2015-04-29 | 嘉兴联合化学有限公司 | 制备四甲基二氢二硅氧烷的方法及装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE10340887A1 (de) | 2004-03-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0600266B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von SiH-Gruppen aufweisenden Organopolysiloxanen | |
| DE954198C (de) | Verfahren zur Herstellung von Organopolysiloxanen durch kontinuierliche Hydrolyse von Organochlorsilanen mit Wasser | |
| EP0003285B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von siliciumfunktionellen Polyorganosiloxanen | |
| DE10203914C1 (de) | Verfahren zur Reinigung eines HCI-haltigen Abgases aus der Organosilanesterherstellung und dessen Verwendung | |
| DE2630744C3 (de) | Verfahren zur Umwandlung von Organosiloxanen | |
| DE4343033A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Polydimethylsiloxanen | |
| EP1831233B1 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen herstellung von amino-gruppen tragenden silicium-verbindungen | |
| DE3231196A1 (de) | Verfahren zum hydrolysieren von organochlorsilanen | |
| EP0650968A1 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung wässriger Alkali-Alkylsiliconatlösungen | |
| DE69819948T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Monosilanen | |
| DE3244500A1 (de) | Verfahren zum hydrolysieren von chlorsilanen | |
| DE60013971T2 (de) | Umsetzung von hochsiedenden Rückständen der Direktsynthese in Monosilane | |
| DE10340887B4 (de) | Verfahren zur Herstellung von Disiloxanen | |
| DE2855927A1 (de) | Verfahren zur herstellung von siliciumfunktionellen polyorganosiloxanen | |
| EP0524526B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Organosiloxanen | |
| DE60205521T2 (de) | Verfahren zur Herstellung linearer Organohydrosiloxane | |
| DE1929902A1 (de) | Reduktion halogenhaltiger Siliciumverbindungen | |
| DE2345923C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von halogensubstituierten linearen oder verzweigten OrganopolysUoxanen | |
| DE60201037T2 (de) | Herstellung verzweigter Siloxane | |
| DE69727288T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von hochreine, verzweigte, flüssige Phenylsiloxane | |
| DE2557624B2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Organosiloxanen | |
| DE10104966A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von in 3-Stellung funktionalisierten Propylsilanen | |
| DE60112486T2 (de) | Verfahren zur Reduzierung der Menge an lineares Siloxan in einem Gemisch aus zyklischen und linearen Siloxanen | |
| DE2141881A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Chlor silanen aus Disiloxanen | |
| DE2737111A1 (de) | Organosiliciumverbindungen mit funktionellen gruppen |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OAV | Publication of unexamined application with consent of applicant | ||
| OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: WACKER CHEMIE AG, 81737 MUENCHEN, DE |
|
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |