DE10253908B4 - Strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement - Google Patents

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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L33/105Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a light reflecting structure, e.g. semiconductor Bragg reflector with a resonant cavity structure

Abstract

RCLED
– mit einer strahlungserzeugenden aktiven Schicht (1), die zwischen zwei verteilten Bragg-Reflektoren (21, 22) angeordnet ist,
– wobei die Bragg-Reflektoren (21, 22) einen optischen Resonator für eine Wellenlänge λ bilden,
– wobei die Dicke (D) der aktiven Schicht (1) größer als λ ist,
– wobei die aktive Schicht (1) einen zwischen einer p-dotierten (32) und einer n-dotierten (31) Barriere angeordneten aktiven Bereich (4) aufweist, der symmetrisch um ein Feldmaximum (5) einer sich im Resonator ausbildenden stehenden Welle (6) der Wellenlänge λ angeordnet ist, und
– wobei die p-dotierte Barriere (32) dicker ist als die n-dotierte Barriere (31).

Description

  • Die Erfindung betrifft ein strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement mit einer strahlungserzeugenden aktiven Schicht, die zwischen zwei verteilten Bragg-Reflektoren angeordnet ist. Die verteilten Bragg-Reflektoren bilden einen optischen Resonator für eine bestimmte Wellenlänge λ.
  • Leuchtdioden der eingangs genannten Art werden beispielsweise mit Hilfe des Materialsystems AlGaInP realisiert. In den letzten Jahren wurden deutliche Fortschritte sowohl hinsichtlich der technischen Qualität als auch hinsichtlich des Marktvolumens gemacht. Die optischen Eigenschaften einer solchen Diode wie zum Beispiel die Emissionswellenlänge oder auch die spektrale Reinheit werden durch die verteilten Bragg-Reflektoren bestimmt. Ein sehr interessantes Merkmal ist in diesem Zusammenhang die Möglichkeit, die Direktionalität des emittierten Lichts zu verstärken, woraus eine vergrößerte Helligkeit resultiert. Solche Leuchtdioden können demnach besonders vorteilhaft dort eingesetzt werden, wo die Lichtemission in ein System mit einer vorgegebenen numerischen Apertur eingekoppelt werden soll. Beispiele hierfür sind optische Kunststoffasern, optische Scanner oder auch Drucker und Anzeigen.
  • Aus der Druckschrift DE 695 22 778 T2 ist ein VCSEL (Vertical Cavity Surface Emitting Laser) bekannt, der eine obere und eine untere Abstandsschicht über bzw. unter einer aktiven Schicht aufweist, um die erforderliche Länge des optischen Resonators zwischen einem oberen und einem unteren Spiegel festzulegen, wobei der optische Resonator insbesondere über eine Länge von nλ/2 verfügt (wobei λ die Wellenlänge des emittierten Lichts ist und n eine ganze Zahl).
  • Aus der Druckschrift EP 1 081 816 A2 ist ein VCSEL bekannt, dessen aktive Schicht eine Mehrzahl von Quantenstrukturen aufweist, wobei die Quantenstrukturen jeweils symmetrisch um ein Maximum des Betrages des elektrischen Feldes herum angeordnet sind.
  • Aus der Druckschrift R. Wirth et al., ”High Efficiency Resonant Cavity LEDs Emitting at 650 nm”, IEEE Photon. Technol. Lett., Vol. 13, pp. 421, 2001 sind strahlungsemittierende Halbleiterbauelemente der eingangs genannten Art bekannt, wobei die aktive Schicht in einer resonanten Kavität angeordnet ist. Solche Leuchtdioden (LED) werden daher auch durch RCLED (Resonant Cavity Light Emitting Diode) abgekürzt. Bei den bekannten RCLEDs ist die aktive Schicht so dünn wie möglich ausgeführt. Die minimale Dicke für die aktive Schicht ergibt sich aus der Forderung, daß die Wellenlänge des zu emittierenden Lichts zwischen die beiden verteilten Bragg-Reflektoren passen muß, um die entsprechende Randbedingung für eine stehende Welle im Resonator zu erfüllen. Indem die aktive Schicht möglichst dünn ausgeführt wird, kann erreicht werden, daß das strahlungsemittierende Halbleiterbauelement eine maximale Auskoppeleffizienz aufweist.
  • Die bekannten Leuchtdioden haben jedoch den Nachteil, daß die interne Quanteneffizienz durch hohe Leckströme, welche aus den schmalen Ladungsträgerbarrieren resultieren, verringert ist.
  • Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Leuchtdiode anzugeben, die niedrige Leckströme aufweist.
  • Diese Aufgabe wird gelöst durch ein strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement gemäß Patentanspruch 1. Vorteilhafte Ausgestaltungen des Bauelements sind den Unteransprüchen zu entnehmen.
  • Es wird ein strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement angegeben, das eine strahlungserzeugende aktive Schicht aufweist. Die aktive Schicht ist zwischen zwei verteilten Bragg-Reflektoren angeordnet. Die Bragg-Reflektoren bilden einen optischen Resonator für eine Wellenlänge λ. Die Dicke der aktiven Schicht ist größer als die Wellenlänge λ.
  • Das Halbleiterbauelement hat den Vorteil, daß durch die vergrößerte Dicke der aktiven Schicht der in der aktiven Schicht zur Verfügung stehende Platz vergrößert ist. Daraus ergibt sich der Vorteil, daß beispielsweise der Platz zur Verfügung steht, um Barrieren zum Einsperren von Ladungsträgern in der aktiven Schicht auszubilden. Solche Barrieren können dicker gestaltet werden, weswegen die Anzahl der Ladungsträger, die durch Überwinden der Barriere beziehungsweise durch Tunneln durch die Barriere die aktive Schicht verlassen, reduziert werden kann.
  • Es ist ein Halbleiterbauelement vorteilhaft, bei dem die Dicke der aktiven Schicht ein ganzzahliges Vielfaches von λ beträgt. Ein solches Bauelement hat den Vorteil, daß mit Hilfe der sich direkt an der aktiven Schicht anschließenden verteilten Bragg-Reflektoren ein Resonator erzeugen läßt, für den bei der Wellenlänge λ die Randbedingung für das Erzeugen einer stehenden Welle im Innern des Resonators erfüllt ist. Dadurch kann der Resonator seine Aufgabe optimal erfüllen.
  • Es ist ein Halbleiterbauelement besonders vorteilhaft, bei dem die Dicke der aktiven Schicht 2 × λ beträgt. Ein solches Bauelement hat den Vorteil, daß trotz dickerer aktiver Schicht die Auskoppeleffizienz noch nicht so stark verringert ist, daß der Vorteil hinsichtlich der internen Effizienz (Reduktion der Leckströme) überkompensiert wird. Mit steigender Ordnung der Kavität wird nämlich die Auskoppeleffizienz für das Licht aus der Leuchtdiode immer schlechter.
  • Bei dem Halbleiterbauelement weist die aktive Schicht einen aktiven Bereich auf, welcher zwischen einer p-dotierten Barriere und einer n-dotierten Barriere angeordnet ist. Der aktive Bereich ist dabei symmetrisch um ein Maximum des Betrages des elektrischen Feldes herum angeordnet, wobei das Maximum des Betrages des elektrischen Feldes einer im Resonator stehenden optischen Welle der Wellenlänge λ zugeordnet ist. Durch die spezielle Anordnung des aktiven Bereichs kann erreicht werden, daß eine optimale Kopplung zwischen der Mode im Resonator und der Emission des aktiven Bereichs erreicht wird.
  • Es ist dabei vorteilhaft, wenn die Dicke des aktiven Bereichs kleiner als λ/2 ist. Hierdurch kann einerseits erreicht werden, daß sich der Resonator auf den Teil der Mode mit betragsmäßig maximaler Feldstärke beschränkt, sowie andererseits, daß noch mehr Platz für Ladungsträgerbarrieren innerhalb der aktiven Schicht zur Verfügung steht.
  • Die p-dotierte Barriere ist dicker ausgeführt als die n-dotierte Barriere. Der Grund hierfür ist, daß für eine bestmögliche Nutzung der Barrierenhöhe eine möglichst hohe Dotierung notwendig ist. Aus technologischen Gründen ist es speziell bei der p-seitigen Barriere nur schwer möglich, das gewünschte Dotierniveau zu erreichen, wenn für die p-seitige Barriere lediglich die Dicke zur Verfügung steht, wie sie eine LED mit resonanter Kavität nach dem Stand der Technik aufweist.
  • Dadurch wird erreicht, dass das Maximum des Betrages des elektrischen Feldes, welches die Lage des aktiven Bereichs bestimmt, näher an dem n-dotierten verteilten Bragg-Reflektor als an dem p-dotierten verteilten Bragg-Reflektor liegt. Dementsprechend ist es vorteilhaft, wenn der aktive Bereich nicht in der Mitte des Resonators sondern an einem am Rand des Resonators befindlichen Maximum des Betrages des elektrischen Feldes angeordnet ist.
  • Im folgenden wird die Erfindung anhand eines Ausführungsbeispieles und den dazugehörigen Figuren näher erläutert.
  • 1 zeigt beispielhaft ein Halbleiterbauelement in einem schematischen Querschnitt.
  • 2 zeigt beispielhaft das elektrische Feld einer stehenden optischen Welle in einem Bauelement gemäß 1, wobei der Betrag der Feldstärke über der Achse x aus 1 in einem Tiefenprofil dargestellt ist und wobei die einzelnen Schichten aus 1 mit eingetragen sind.
  • 1 zeigt die Schichtabfolge einer RCLED in einer schematischen Darstellung. Es ist auf einem Substrat 7 ein erster verteilter Bragg-Reflektor 21 angeordnet. Das Substrat 7 kann vorteilhafterweise aus Galliumarsenid bestehen. Dementsprechend können die in 1 gezeigten Bragg-Reflektoren 21, 22 aus dem Materialsystem Aluminium-Galliumarsenid hergestellt sein. Der erste verteilte Bragg-Reflektor 21 besteht aus 34 Schichtpaaren, die in dem Ausschnitt dargestellt sind. Die Schichten 211 bestehen abwechselnd aus Al0,95 Ga0,05 As und Al0,5 Ga0,5 As.
  • Auf dem ersten verteilten Bragg-Reflektor 21 ist eine aktive Schicht 1 aufgebracht.
  • Die in 1 dargestellten Schichten können beispielsweise mittels metallorganischer Gasphasenepitaxie (MOVPE) abgeschieden werden. Entscheidend ist, daß die Schichtdicken der einzelnen Schichten sehr genau kontrolliert werden, um einerseits die gewünschte Länge des Resonators und andererseits die Lage des aktiven Bereichs auf das gewünschte Maß einzustellen.
  • Auf dem ersten verteilten Bragg-Reflektor 21 ist die aktive Schicht 1 aufgebracht. Die aktive Schicht 1 basiert auf dem Materialsystem AlGaInP. Die aktive Schicht ist dabei unterteilt in einen aktiven Bereich 4 sowie in eine n-dotierte Barriere 31 und eine p-dotierte Barriere 32. Die einzelnen Teile der aktiven Schicht 1 unterscheiden sich im Verhältnis von Aluminium zu Gallium. Der aktive Bereich 4 weist eine Abfolge von 5 Quantentrögen auf, in denen die Lichterzeugung durch Rekombination von Elektronen und Löchern stattfindet. Hingegen sind die p- beziehungsweise n-dotierten Barrieren 31, 32 als einfache Potentialbarrieren gestaltet.
  • Auf der aktiven Schicht 1 ist ein zweiter verteilter Bragg-Reflektor 22 angeordnet, der aus sechs Schichtpaaren besteht. Dabei wechseln sich wie im Ausschnitt des zweiten verteilten Bragg-Reflektors 22 angedeutet, Schichten 221 aus Al0,95 Ga0,05 As mit Schichten 221 aus Al0,5 Ga0,5 As ab. Über den zweiten verteilten Bragg-Reflektor 22 wird die in der aktiven Schicht 1 erzeugte Strahlung ausgekoppelt. Auf der Oberseite des zweiten verteilten Bragg-Reflektors 22 befindet sich eine Metallisierung 8, die der elektrischen Kontaktierung des Bauelements dient.
  • 1 ist noch zu entnehmen, daß das Bauelement ein vertikal abstrahlendes Bauelement ist, da, wie durch den Pfeil angedeutet, die Strahlung nach oben abgegeben wird.
  • In 1 ist auch noch die Richtung eines Profils in die Tiefe x angegeben, wobei hinsichtlich Einzelheiten auf 2 verwiesen wird.
  • 2 zeigt den Betrag der Feldstärke einer stehenden optischen Welle 6 in der Abhängigkeit von der Tiefe x gemäß 1. Es ist der Betrag der elektrischen Feldstärke in der Einheit V pro Meter aufgetragen über die Tiefe x in der Einheit nm. Die Wellenlänge der stehenden optischen Welle 6 beträgt 660 nm. Aufgrund der speziellen Eigenschaften der verteilten Bragg-Reflektoren 21, 22, welche auch unter dem Namen Distributed Bragg Reflector (DBR) bekannt sind, ergibt sich ein Ma ximum des Betrages der Feldstärke im mittleren Bereich von 2, wobei der Betrag der Feldstärke zu den Rändern hin abnimmt. Die verteilten Bragg-Reflektoren 21, 22 sind dabei auf die Wellenlänge λ von 660 nm abgestimmt.
  • Darüber hinaus ist in 2 gezeigt, wie die in 1 beschriebenen Schichten bemessen sind und wie die relative Lage dieser Schichten zur Feldstärke der stehenden optischen Welle 6 ausgeführt ist.
  • Die Tiefe x ist dabei gemessen von der Grenzfläche des Bauelements zum Medium, beispielsweise zur Luft hin. Beginnend beim Substrat 7 ist in der rechten Hälfte von 2 ein erster verteilter Bragg-Reflektor 21 angeordnet. Dieser Bragg-Spiegel ist n-dotiert, beispielsweise mittels Tellur. Er basiert auf dem Materialsystem Aluminium-Galliumarsenid. Mittels des ersten verteilten Bragg-Reflektors 21, im folgenden n-Spiegel genannt, werden Elektronen in die aktive Schicht 1 injiziert.
  • An den n-Spiegel schließt sich die aktive Schicht 1 an. Am rechten Rand der aktiven Schicht 1, welche die Dicke D von zirka 430 nm besitzt, befindet sich die n-dotierte Barriere 31, welche eine Dicke Dn von etwa 80 nm aufweist. Die n-dotierte Barriere 31 verhindert Leckströme von Löchern, welche sich in der aktiven Schicht 1 befinden und welche ohne Barriere zum n-Spiegel abfließen würden.
  • Entsprechend ist auf der anderen Seite der aktiven Schicht 1 eine p-dotierte Barriere 32 angeordnet, welche eine Dicke Dp von zirka 300 nm aufweist. Diese Barriere 32 verfolgt den Zweck, Leckströme von Elektronen aus der aktiven Schicht 1 in die am linken Rand der aktiven Schicht 1 angrenzende zweiten verteilten Bragg-Reflektor 22, welcher p-dotiert ist, zu verhindern. Um das gewünschte Dotierniveau für die p-seitige Barriere erreichen zu können, wird die Dicke Dp der p-dotierten Barriere 32 wesentlich größer ausgeführt als die Dicke Dn der n-dotierten Barriere 31. Daraus resultiert der Effekt, daß sowohl die Elektronen als auch die Löcher in der aktiven Schicht 1 optimal gehalten werden können, wodurch die Quanteneffizienz des Bauelements steigt.
  • Zwischen den beiden Barrieren 31, 32 ist noch der aktive Bereich 4 angeordnet, dessen Dicke d zirka 40 nm beträgt. Bezüglich des aktiven Bereichs 4 ist die Position symmetrisch zu einem Maximum des Betrages des elektrischen Feldes 5 der stehenden optischen Welle 6 wesentlich, da nur so ein optimaler Überlapp von der Mode des Resonators mit dem lichterzeugenden aktiven Bereich erreicht werden kann. Der im aktiven Bereich 4 liegende Abschnitt der stehenden Welle 6 ist durch eine vergrößerte Linienstärke angedeutet.
  • Auf der dem ersten verteilten Bragg-Reflektor 21 gegenüberliegenden Seite der aktiven Schicht 1 ist ein zweiter verteilter Bragg-Reflektor 22 angeordnet, welcher p-dotiert ist, beispielsweise mittels Kohlenstoff. Durch den im folgenden als p-Spiegel bezeichneten zweiten verteilten Bragg-Reflektor 22 werden Löcher in die aktive Schicht 1 beziehungsweise in den aktiven Bereich 4 injiziert. Diese Löcher werden durch die n-dotierte Barriere 31 am Verlassen des aktiven Bereichs 4 in Richtung auf den n-Spiegel gehindert.
  • An der Oberfläche des p-Spiegels ist noch eine Metallisierung 8 aufgebracht, die der elektrischen Kontaktierung des Bauelements dient.
  • Die vorliegende Erfindung beschränkt sich nicht auf die in den Figuren dargestellten Ausführungsbeispiele, sondern bezieht sich auf alle RCLEDs, bei denen die Kavität größer als die Wellenlänge λ ist, also insbesondere auf 2, 3, 4 oder 5 λ-Kavitäten.

Claims (4)

  1. RCLED – mit einer strahlungserzeugenden aktiven Schicht (1), die zwischen zwei verteilten Bragg-Reflektoren (21, 22) angeordnet ist, – wobei die Bragg-Reflektoren (21, 22) einen optischen Resonator für eine Wellenlänge λ bilden, – wobei die Dicke (D) der aktiven Schicht (1) größer als λ ist, – wobei die aktive Schicht (1) einen zwischen einer p-dotierten (32) und einer n-dotierten (31) Barriere angeordneten aktiven Bereich (4) aufweist, der symmetrisch um ein Feldmaximum (5) einer sich im Resonator ausbildenden stehenden Welle (6) der Wellenlänge λ angeordnet ist, und – wobei die p-dotierte Barriere (32) dicker ist als die n-dotierte Barriere (31).
  2. RCLED nach Anspruch 1, wobei die Dicke (D) der aktiven Schicht (1) ein ganzzahliges Vielfaches von λ beträgt.
  3. RCLED nach Anspruch 2, wobei die Dicke (D) der aktiven Schicht (1) 2 × λ beträgt.
  4. RCLED nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Dicke (d) des aktiven Bereichs (4) kleiner als λ/2 ist.
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