DE10225602A1 - Halbleiterbauelement mit integrierter Schaltung, Kühlkörper und Temperatursensor - Google Patents
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Abstract
Ein Halbleiterbauelement mit einer integrierten Schaltung weist einen Kühlkörper als Wärmesenke sowie einen damit thermisch verbundenen Temperatursensor auf, dessen Widerstand von der Temperatur abhängig ist; der Temperatursensor enthält einen Dünnfilm-Messwiderstand, der auf einer elektrisch isolierenden Oberfläche eines folienartigen Substrats aufgebraucht ist, wobei die gesamte Dicke des Temperatursensors im Bereich von 10 mum bis 100 mum liegt. Der Dünnfilm-Messwiderstand ist als ebenes Bauteil ausgebildet, wobei der Temperatursensor zwischen der integrierten Schaltung und dem Kühlkörper angeordnet ist. DOLLAR A Der Dünnfilm-Messwiderstand ist auf einer Seite mit einer an den Kühlkörper angrenzenden thermischen Ankopplungsschicht versehen, während er auf der anderen Seite mit seinem Substrat an einem Wärmeverteiler grenzt, der wenigstens zum Teil die integrierte Schaltung umgibt.
Description
- Die Erfindung betrifft ein Halbleiterbauelement mit einer integrierten Schaltung und einem damit thermisch verbundenen Temperatursensor, dessen Widerstand von der Temperatur abhängig ist, sowie mit einem Kühlkörper als Wärmesenke.
- Der Begriff „integrierte Schaltung" umfasst eine in einem Gehäuse eingekapselte integrierte elektronische Schaltung auf Halbleiterbasis (IC), während der eingangs genannte Begriff „Halbleiterbauelement" auf ein komplettes Bauelement mit Kühlkörper gerichtet ist.
- Aus der
EP 0 350 015 B1 ist ein Halbleiterbauelement mit einem Gehäuse bekannt, das mindestens einen Leistungs-MOSFET und einen mit diesem thermisch verbundenen Sensor enthält, wobei der Sensor in Abhängigkeit von der Temperatur seinen Widerstand zwischen zwei seiner Anschlüsse ändert. Als Temperatursensor ist ein Thyristor vorgesehen, es kann jedoch auch ein Bipolar-Transistor eingesetzt werden. Auf diese Weise ist es möglich, ein Halbleiterbauelement so weiter zu bilden, dass der MOSFET bei Erreichen einer kritischen Temperatur nicht einfach abgeschaltet wird, sondern dass z.B. seine Belastung durch Verringern der Leitfähigkeit herabgesetzt wird. - Aus der
WO 96/02942 - Weiterhin ist aus der
EP 0 578 411 B1 eine Halbleiteranordnung mit einer an einem Leitungsrahmen angebrachten und in einem Kunststoffgehäuse vorgesehenen Halbleitervorrichtung bekannt, wobei die Oberfläche des Gehäuses über der Halbleitervorrichtung nach oben gerichtete einstückig ausgeformte Wärmeableitungselemente aufweist und diese Wärmeableitungselemente als konische Vorsprünge ausgebildet sind, die sich innerhalb eines direkt oberhalb der Halbleitervorrichtung vorgesehenen Bereiches erstrecken. - Weiterhin ist aus der
EP 0 723 293 A1 eine Halbleiteranordnung mit einer Wärmesenke bekannt, bei der ein in einem Leiterrahmen montiertes Halbleiterelement direkt an eine Wärmesenke grenzt, welche für die Abfuhr der im Halbleiterbauelement entstehenden Wärme sorgt. - Aus der
US 6,092,927 ist ein Verfahren zur Bestimmung der Temperatur eines Leistungshalbleiters bekannt, wobei ein integrierter analoger Schaltkreis zusammen mit dem Leistungshalbleiter auf einer Wärmesenke zusammengepackt ist; auf diese Weise ist es möglich, den thermischen Widerstand zwischen dem Leistungshalbleiter und dem integrierten Schaltkreis, die thermischen Widerstände zwischen dem Leistungshalbleiter und der Wärmesenke und zwischen dem analogen integrierten Schaltkreis und der Wärmesenke zu bestimmen. Somit ist es möglich, die Verlustleistung in dem Leistungshalbleiter zu bestimmen, in dem die Temperatur des integrierten Schaltkreises, die Temperatur der Wärmesenke unter Ausnutzung thermischer Kapazitäten sowie die Wärmesenkentemperatur und thermischen widerstände im Hinblick auf Spannung und Strom des integrierten Schaltkreises zu ermitteln. Dabei wird ein Ausgangssignal für ein asymptotisches Anzeigesystem der Temperatur des Leistungshalbleiters geschaffen. - Weiterhin ist aus der
US 5,596,231 eine Wärmesenke, die selektiv mit elektrisch isolierendem Werkstoff beschichtet ist, für einen integrierten Schaltkreis vorgesehen, wobei das elektrisch isolierende Material anodisch oxidiertes Aluminium aufweist, welches durch Aufdampfen auf die Wärmesenke erzeugt worden ist. Die Wärmesenke selbst ist aus Kupfer oder Kupfer-Legierungen gebildet, die wegen ihrer starken thermischen Leitfähigkeit ausgewählt sind. - Die gesamte integrierte Schaltungseinrichtung kann dabei in einem Plastikgehäuse untergebracht sein.
- Weiterhin ist aus der
WO 80/00878 - Die Erfindung stellt sich die Aufgabe, eine genaue und rasche Temperaturermittlung bei der Wärmeabfuhr aus integrierten Schaltungen im Bereich der Wärmesenke eines Halbleiterschaltelements vorzunehmen, wobei insbesondere Sensoren mit kleiner thermischer Masse zur Anwendung gelangen sollen.
- Die Aufgabe wird dadurch gelöst, dass der Temperatursensor einen Dünnfilm-Messwiderstand aufweist, der auf einer elektrisch isolierenden Oberfläche eines folienartigen Substrats aufgebracht ist, wobei die gesamte Dicke des Temperatursensors im Bereich von 10 μm bis 100 μm liegt und wobei der Temperatursensor an den Kühlkörper thermisch angekoppelt ist.
- Als besonders vorteilhaft erweist es sich, dass der Dünnfilm-Messwiderstand als Temperatursensor aufgrund seiner geringen Dicke nur eine kleine thermische Masse aufweist und somit eine Integration in den Heatsink-Bereich von Halbleiterchips ohne Veränderung des Kühlaufbaus ermöglicht.
- Vorteilhafte Ausgestaltungen des Gegenstandes nach Anspruch 1 sind in den Ansprüchen 2 bis 15 angegeben.
- In einer bevorzugten Ausführungsform des Temperatur-Sensors ist der Dünnfilm-Messwiderstand als ebenes Bauteil ausgebildet. Der Messwiderstand weist vorteilhafterweise eine Schicht in Form eines mäanderförmigen Musters auf und besteht im wesentlichen aus Platin oder einer Platinlegierung; die Dicke der Schicht liegt im Bereich von 0,8 bis 1,2 μm.
- In einer vorteilhaften Ausgestaltung des Halbleiterbauelements ist der Temperatursensor zwischen der integrierten Schaltung und dem Kühlkörper angeordnet.
- Weiterhin ist in einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist der Dünnfilm-Messwiderstand auf einem Substrat mit elektrisch isolierender Oberfläche aufgebracht, wobei das Substrat aus Metall, vorzugsweise aus Nickel, einer Nickellegierung oder aus einer Eisenlegierung mit einem Gehalt an Chrom und Aluminium besteht. Der Gehalt an Chrom liegt vorzugsweise bei ∽20 Gew-%, während der Gehalt an Aluminium bei ∽5 Gew-% liegt. Diese Eisenlegierung ist in dem Buch „Stahlschlüssel" von C. W. Wegst, Verlag Stahlschlüssel West GmbH Marbach 1998 (18. Auflage; ISBN 3-922599-14-1) auch mit der Werkstoffnummer 1.4767 und dem Kurznamen (DIN) CrAl 20 5 (X8CrAl20-5) versehen.
- Als besonders vorteilhaft hat es sich erwiesen, dass Platin-Dünnfilm-Messwiderstände auf Nickelfolien oder Folien einer Nickel-Legierung bzw. einer Eisenlegierung mit einer Dicke im Bereich von 30 bis 80 μm aufgebracht werden können, woraus sich aufgrund geringer Wärmekapazität eine weitgehend verzögerungsfreie Temperaturbestimmung ergibt.
- In einer bevorzugten Ausgestaltung der Endung ist der Dünnfilmmesswiderstand auf einer Isolationsschicht mit einer Dicke im Bereich von 2 bis 5 μm aufgebracht; die Isolationsschicht weist vorteilhafterweise Siliziumoxid oder Aluminiumoxid auf und ist im PVD-Verfahren auf das Substrat aufgebracht.
- Weiterhin wird in einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung eine Passivierungsschicht auf den Dünnfilm-Messwiderstand aufgebracht; sie besteht vorzugsweise aus Siliziumoxid (SiO) oder Aluminiumoxid (Al2O3). Die Passivierungsschicht weist eine Dicke von 1 bis 5 μm auf; sie ist mittels PVD-Verfahren aufgebracht.
- Weiterhin ist in einer bevorzugten Ausführungsform der Dünnfilmmesswiderstand in einer Ebene angeordnet, wobei der Messwiderstand bzw. die Passivierungsschicht auf einer Seite mit einer an den Kühlkörper angrenzenden thermischen Ankopplungsschicht abgedeckt ist, während er auf der anderen Seite mit einem Substrat an einem Wärmeverteiler grenzt, der wenigstens zum Teil die integrierte Schaltung umgibt.
- In einer vorteilhaften Ausgestaltung ist zwischen wenigstens einem Teil der integrierten Schaltung und dem Wärmeverteiler eine elektrisch isolierende, jedoch thermisch gut leitende Schicht angeordnet.
- Im folgenden ist der Gegenstand anhand der
1a ,1b sowie2a und2b näher erläutert. -
1a zeigt schematisch in einem Längsschnitt ein integriertes Halbleiterbauelement auf einem Substrat, wobei dieses von einem Wärmeverteiler weitgehend umgeben ist; weiterhin ist im Längsschnitt ein im Übergangsbereich zwischen Wärmeverteiler und Kühlkörper bzw. Wärmesenke angeordneter Temperatursensor erkennbar. -
1b zeigt einen teilweise gebrochen dargestellten Ausschnitt nach1a , in dem der Aufbau des im Längsschnitt schematisch dargestellten Sensors zum Teil besser erkennbar ist. -
2a zeigt in einer Draufsicht einen Temperatursensor (Schnitt A-B gemäß1a ), welcher direkt zur Wärmesenke benachbart angeordnet ist. -
2b zeigt eine alternative Darstellung zu2a (Schnitt A-B gemäß1a ). - Gemäß
1a befindet sich ein Halbleiterbauelement mit integrierter Schaltung1 auf einem Substrat2 mit elektrisch isolierender Oberfläche, wobei die dem Substrat2 abgewandte Seite der integrierten Schaltung1 über eine wärmeleitende Schicht3 an einen Wärmeverteiler4 thermisch angekoppelt ist. Der Wärmeverteiler4 umschließt dabei wenigstens teilweise die auf dem Substrat2 befindliche integrierte Schaltung1 , wobei jedoch der mit dem Substrat2 verbundene Bereich bzw. Bodenbereich der integrierten Schaltung1 freigelassen ist. - Auf der dem Substrat
2 abgewandten Seite des Wärmeverteilers4 befindet sich eine elektrisch isolierende jedoch thermisch gut leitende Schicht5 als thermische Ankoppelungsschicht, auf der ein flächenhaft ausgebildeter elektrischer Dünnschichtwiderstand auf Platinbasis als Temperatursensor7 angeordnet ist. Der Temperatursensor7 weist eine ebene zickzackförmige oder mäanderförmige Widerstandsschicht als Messwiderstand auf, welche über ebenfalls in Dünnschichttechnik ausgeführte Anschlussleitungen8 ,9 (2a ,2b ) mit einem Außenanschluss10 verbunden ist. - Gemäß
1b ist der Messwiderstand15 des Temperatursensors7 auf einer Nickelfolie oder einer Folie16 aus einer Nickellegierung, bzw. einer Folie aus einer Eisenlegierung der Werkstoffnummer 1.4767 (Stahlschlüssel) aufgebracht, wobei sich zwischen der Folie16 und dem Messwiderstand15 zusammen mit den in dieser Figur nicht gezeigten Anschlussleitungen eine elektrisch isolierende Schicht bzw. Isolationsschicht17 mit einer Dicke im Bereich von 2 bis 5 μm befindet. Die Isolationsschicht17 besteht aus Siliziumoxid oder aus Aluminiumoxid. - Weiterhin ist im Längsschnitt gemäß
1a bzw.1b eine zweite thermische Ankopplungsschicht12 erkennbar, die auf ihrer dem Wärmeverteiler4 abgewandten Seite mit einer Wärmesenke13 bzw. einem Kühlkörper thermisch in Verbindung steht. Die Wärmesenke13 besteht vorzugsweise aus thermisch gut leitendem Werkstoff, wie beispielsweise Kupfer oder Aluminium. - Die wärmeleitenden Schichten
3 ,5 und12 gemäß1a bestehen aus einem elektrisch isolierenden, jedoch thermisch gut leitenden Material, wie z.B. keramikgefüllten Wärmeleitklebern. - Mit Hilfe des Temperatursensors
7 ist es somit möglich, die aus dem Bereich des Wärmeverteilers4 zur Wärmesenke13 strömende Wärmemenge zu erfassen und mit Hilfe eines so ermittelten Temperatursignals die integrierte Schaltung1 beispielsweise durch Umschaltmaßnahmen vor Überhitzung zu schützen. - Die anhand
2a erkennbare Aluminiumnitridschicht14 fehlt bei der Anordnung gemäß2b , so dass hier der Temperatursensor7 direkt auf der Außenoberfläche des Wärmeverteilers4 aufgebracht ist.
Claims (15)
- Halbleiterbauelement mit einer integrierten Schaltung und einem damit thermisch verbundenen Temperatursensor, dessen Widerstand von der Temperatur abhängig ist, sowie mit einem Kühlkörper als Wärmesenke, dadurch gekennzeichnet, dass der Temperatursensor (
7 ) einen Dünnfilm-Messwiderstand (15 ) aufweist, der auf einer elektrisch isolierenden Oberfläche eines folienartigen Substrats (16 ) aufgebracht ist, wobei die gesamte Dicke des Temperatursensors im Bereich von 10 μm bis 100 μm liegt und der Temperatursensor (7 ) an den Kühlkörper (13 ) thermisch angekoppelt ist. - Halbleiterelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Dünnfilm-Messwiderstand (
15 ) als ebenes Bauteil ausgebildet ist. - Halbleiterelement nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Temperatursensor (
7 ) zwischen der integrierten Schaltung (1 ) und dem Kühlkörper (13 ) angeordnet ist. - Halbleiterelement nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Dünnfilm-Messwiderstand (
15 ) auf einer elektrisch isolierenden Oberfläche eines folienartigen Substrats (16 ) aus Metall aufgebracht ist. - Halbleiterelement nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrisch isolierende Oberfläche aus einer Isolationsschicht (
17 ) mit einer Dicke im Bereich von 2 bis 5 μm gebildet ist. - Halbleiterelement nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Isolationsschicht (
17 ) Siliziumoxid oder Aluminiumoxid aufweist. - Halbleiterelement nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Isolationsschicht (
17 ) mittels PVD-Verfahren aufgebracht ist. - Halbleiterelement nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass das folienartige Substrat (
16 ) für den Dünnfilm-Messwiderstand (15 ) Nickel, eine Nickel-Legierung oder eine Eisenlegierung mit einem Gehalt an Chrom und Aluminium aufweist. - Halbleiterelement nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das folienartige Substrat (
16 ) aus einer Nickelfolie, einer Folie aus Nickellegierung oder einer Folie aus der Eisenlegierung mit einem Gehalt an Chrom und Aluminium mit einer Dicke im Bereich von 30 bis 80 μm besteht. - Halbleiterbauelement nach einem Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass eine Passivierungsschicht (
18 ) aus Siliziumoxid oder Aluminiumoxid auf den Dünnfilm-Messwiderstand (15 ) aufgebracht ist. - Halbleiterelement nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Passivierungsschicht (
18 ) eine Dicke im Bereich von 1 bis 5 μm aufweist. - Halbleiterelement nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Passivierungsschicht (
18 ) mittels PVD-Verfahren aufgebracht ist. - Halbleiterbauelement nach einem Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass der Dünnfilm-Messwiderstand (
15 ) auf einer Seite mit einer an den Kühlkörper (13 ) angrenzenden thermischen Ankopplungsschicht (12 ) versehen ist, während er auf der anderen Seite mit seinem Substrat an einen Wärmeverteiler (4 ) grenzt, der benachbart zur integrierten Schaltung (1 ) angeordnet ist. - Halbleiterelement nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass der Wärmeverteiler (
4 ) wenigstens zum Teil die integrierte Schaltung (1 ) umgibt. - Halbleiterbauelement nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen einem Teil der integrierten Schaltung (
1 ) und dem Wärmeverteiler (4 ) eine elektrisch isolierende, thermisch gut leitende Schicht angeordnet ist.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10225602A DE10225602A1 (de) | 2002-06-07 | 2002-06-07 | Halbleiterbauelement mit integrierter Schaltung, Kühlkörper und Temperatursensor |
EP03007717A EP1369915A3 (de) | 2002-06-07 | 2003-04-04 | Halbleiterbauelement mit integrierter Schaltung, Kühlkörper und Temperatursensor |
US10/444,215 US6787870B2 (en) | 2002-06-07 | 2003-05-23 | Semiconductor component with integrated circuit, cooling body, and temperature sensor |
JP2003161197A JP2004015061A (ja) | 2002-06-07 | 2003-06-05 | 集積回路、冷却体および温度センサを有する半導体構成素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10225602A DE10225602A1 (de) | 2002-06-07 | 2002-06-07 | Halbleiterbauelement mit integrierter Schaltung, Kühlkörper und Temperatursensor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10225602A1 true DE10225602A1 (de) | 2004-01-08 |
Family
ID=29432711
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10225602A Withdrawn DE10225602A1 (de) | 2002-06-07 | 2002-06-07 | Halbleiterbauelement mit integrierter Schaltung, Kühlkörper und Temperatursensor |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6787870B2 (de) |
EP (1) | EP1369915A3 (de) |
JP (1) | JP2004015061A (de) |
DE (1) | DE10225602A1 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6898969B2 (en) | 2002-12-20 | 2005-05-31 | Heraeus Sensor Technology Gmbh | Flow sensor element and method of using same |
WO2007048573A1 (de) | 2005-10-24 | 2007-05-03 | Heraeus Sensor Technology Gmbh | Strömungssensorelement und dessen selbstreinigung |
DE102017205857B3 (de) | 2017-04-06 | 2018-06-07 | Audi Ag | Kühleinrichtung, insbesondere für Elektronikbauteile, und Elektronikanordnung damit |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6928380B2 (en) * | 2003-10-30 | 2005-08-09 | International Business Machines Corporation | Thermal measurements of electronic devices during operation |
JP2005167075A (ja) * | 2003-12-04 | 2005-06-23 | Denso Corp | 半導体装置 |
EP1568978B1 (de) * | 2004-02-24 | 2014-06-04 | Siemens Aktiengesellschaft | Temperatursensor |
US7495542B2 (en) * | 2004-08-12 | 2009-02-24 | Kelk Ltd. | Film temperature sensor and temperature sensing substrate |
DE102004040773B3 (de) * | 2004-08-23 | 2005-05-25 | Siemens Ag | Halbleiterschaltgeräte mit Temeratursensor |
DE102006030786A1 (de) * | 2006-06-30 | 2008-01-03 | Heraeus Sensor Technology Gmbh | Strömungssensorelement und dessen Selbstreinigung |
US7513686B2 (en) * | 2006-02-27 | 2009-04-07 | Advanced Micro Devices, Inc. | Circuit lid with a thermocouple |
EP2251651A3 (de) * | 2007-04-26 | 2012-02-22 | Heraeus Sensor Technology Gmbh | Anordnung eines Schichtwiderstandes einer anemometrischen Messeinrichtung in einem Abgasrohr |
SG148900A1 (en) * | 2007-07-06 | 2009-01-29 | Aem Singapore Pte Ltd | A heat transfer device |
US8057094B2 (en) * | 2007-11-16 | 2011-11-15 | Infineon Technologies Ag | Power semiconductor module with temperature measurement |
DE102008037206B4 (de) * | 2008-08-11 | 2014-07-03 | Heraeus Sensor Technology Gmbh | 300°C-Flowsensor |
JP5391776B2 (ja) * | 2009-03-27 | 2014-01-15 | 富士通株式会社 | ヒートシンク |
EP2592403B1 (de) * | 2011-11-09 | 2017-03-29 | Siemens Aktiengesellschaft | Baugruppe mit Temperaturerfassung |
AU2012358146B2 (en) * | 2011-12-23 | 2015-09-17 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Methods and apparatuses for remodeling tissue of or adjacent to a body passage |
JP5928233B2 (ja) * | 2012-08-03 | 2016-06-01 | 富士通株式会社 | 放熱器及び該放熱器を備えた電子装置 |
US9109818B2 (en) * | 2013-09-20 | 2015-08-18 | Palo Alto Research Center Incorporated | Electrocaloric cooler and heat pump |
JP2016534842A (ja) * | 2013-10-25 | 2016-11-10 | ボストン サイエンティフィック サイムド,インコーポレイテッドBoston Scientific Scimed,Inc. | 除神経フレックス回路における埋め込み熱電対 |
JP6119602B2 (ja) * | 2013-12-26 | 2017-04-26 | 株式会社デンソー | 電子装置 |
US10168222B2 (en) * | 2017-03-30 | 2019-01-01 | Qualcomm Incorporated | Thermal detector array configured to detect thermal radiation from the integrated circuit |
WO2019009088A1 (ja) * | 2017-07-07 | 2019-01-10 | 株式会社村田製作所 | 電力回路モジュール |
DE102018208618A1 (de) * | 2018-05-30 | 2019-12-05 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zum Ermitteln der Temperatur eines elektrischen/elektronischen Bauteils, Schaltung |
US20190394898A1 (en) * | 2018-06-21 | 2019-12-26 | Abb Schweiz Ag | Thermal interface material sheet and method of manufacturing a thermal interface material sheet |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3733192C1 (de) * | 1987-10-01 | 1988-10-06 | Bosch Gmbh Robert | PTC-Temperaturfuehler sowie Verfahren zur Herstellung von PTC-Temperaturfuehlerelementen fuer den PTC-Temperaturfuehler |
DE3733193C1 (de) * | 1987-10-01 | 1988-11-24 | Bosch Gmbh Robert | NTC-Temperaturfuehler sowie Verfahren zur Herstellung von NTC-Temperaturfuehlerelementen |
DE4025715C1 (de) * | 1990-08-14 | 1992-04-02 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart, De | |
DE4300084C2 (de) * | 1993-01-06 | 1995-07-27 | Heraeus Sensor Gmbh | Widerstandsthermometer mit einem Meßwiderstand |
JPH0883880A (ja) * | 1994-09-12 | 1996-03-26 | Nippon Avionics Co Ltd | 温度センサ付き半導体パッケージ |
DE19512813C1 (de) * | 1995-04-05 | 1996-06-20 | Sensotherm Temperatursensorik | Verfahren zur Herstellung von Bauelementen |
DE19522126C2 (de) * | 1995-06-19 | 1999-01-28 | Hella Kg Hueck & Co | Elektronischer Lastschalter für ein Kraftfahrzeug, beispielsweise Blinkgeber |
DE19918003A1 (de) * | 1998-07-16 | 2000-01-20 | Heraeus Electro Nite Int | Elektrischer Temperatur-Sensor mit Mehrfachschicht |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4255961A (en) | 1978-10-17 | 1981-03-17 | University Of Va. Alumni Patents Foundation | Differential calorimeter based on the heat leak principle |
JPS56103458A (en) * | 1980-01-21 | 1981-08-18 | Nec Corp | Hybrid ic device |
US4791398A (en) * | 1986-02-13 | 1988-12-13 | Rosemount Inc. | Thin film platinum resistance thermometer with high temperature diffusion barrier |
DE8808805U1 (de) | 1988-07-08 | 1988-09-01 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen, De | |
JPH03176623A (ja) * | 1989-12-05 | 1991-07-31 | Anritsu Corp | 半導体素子の温度制御装置と、それに用いた温度センサ |
US5254500A (en) | 1991-02-05 | 1993-10-19 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method for making an integrally molded semiconductor device heat sink |
US5596231A (en) * | 1991-08-05 | 1997-01-21 | Asat, Limited | High power dissipation plastic encapsulated package for integrated circuit die |
US5608267A (en) | 1992-09-17 | 1997-03-04 | Olin Corporation | Molded plastic semiconductor package including heat spreader |
JP2986381B2 (ja) * | 1994-08-16 | 1999-12-06 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 電子チップ温度制御装置及び方法 |
US6092927A (en) * | 1994-11-10 | 2000-07-25 | International Rectifier Corp. | Temperature detection of power semiconductors performed by a co-packaged analog integrated circuit |
EP0723293B1 (de) | 1994-12-16 | 2001-08-01 | Seiko Epson Corporation | Halbleiteranordnung mit einer Wärmesenke und Herstellungsverfahren der Wärmesenke |
JP3494747B2 (ja) * | 1995-03-31 | 2004-02-09 | 石塚電子株式会社 | 薄膜温度センサ及びその製造方法 |
US5612677A (en) * | 1995-09-29 | 1997-03-18 | Baudry; Jean-Jerome C. | System to monitor the temperature of an integrated circuit and to dissipate heat generated thereby |
US5831333A (en) * | 1996-05-14 | 1998-11-03 | Sun Microsystems, Inc. | Integrated junction temperature sensor/package design and method of implementing same |
EP0987529A1 (de) * | 1998-09-14 | 2000-03-22 | Heraeus Electro-Nite International N.V. | Elektrischer Widerstand mit wenigstens zwei Anschlusskontaktfeldern auf einem Substrat mit wenigstens einer Ausnehmung sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
US6126311A (en) * | 1998-11-02 | 2000-10-03 | Claud S. Gordon Company | Dew point sensor using mems |
US6504392B2 (en) * | 1999-03-26 | 2003-01-07 | International Business Machines Corporation | Actively controlled heat sink for convective burn-in oven |
US6909602B2 (en) * | 2002-05-24 | 2005-06-21 | International Business Machines Corporation | Temperature-controlled user interface |
-
2002
- 2002-06-07 DE DE10225602A patent/DE10225602A1/de not_active Withdrawn
-
2003
- 2003-04-04 EP EP03007717A patent/EP1369915A3/de not_active Withdrawn
- 2003-05-23 US US10/444,215 patent/US6787870B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-06-05 JP JP2003161197A patent/JP2004015061A/ja not_active Withdrawn
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3733192C1 (de) * | 1987-10-01 | 1988-10-06 | Bosch Gmbh Robert | PTC-Temperaturfuehler sowie Verfahren zur Herstellung von PTC-Temperaturfuehlerelementen fuer den PTC-Temperaturfuehler |
DE3733193C1 (de) * | 1987-10-01 | 1988-11-24 | Bosch Gmbh Robert | NTC-Temperaturfuehler sowie Verfahren zur Herstellung von NTC-Temperaturfuehlerelementen |
DE4025715C1 (de) * | 1990-08-14 | 1992-04-02 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart, De | |
DE4300084C2 (de) * | 1993-01-06 | 1995-07-27 | Heraeus Sensor Gmbh | Widerstandsthermometer mit einem Meßwiderstand |
JPH0883880A (ja) * | 1994-09-12 | 1996-03-26 | Nippon Avionics Co Ltd | 温度センサ付き半導体パッケージ |
DE19512813C1 (de) * | 1995-04-05 | 1996-06-20 | Sensotherm Temperatursensorik | Verfahren zur Herstellung von Bauelementen |
DE19522126C2 (de) * | 1995-06-19 | 1999-01-28 | Hella Kg Hueck & Co | Elektronischer Lastschalter für ein Kraftfahrzeug, beispielsweise Blinkgeber |
DE19918003A1 (de) * | 1998-07-16 | 2000-01-20 | Heraeus Electro Nite Int | Elektrischer Temperatur-Sensor mit Mehrfachschicht |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6898969B2 (en) | 2002-12-20 | 2005-05-31 | Heraeus Sensor Technology Gmbh | Flow sensor element and method of using same |
WO2007048573A1 (de) | 2005-10-24 | 2007-05-03 | Heraeus Sensor Technology Gmbh | Strömungssensorelement und dessen selbstreinigung |
US7739908B2 (en) | 2005-10-24 | 2010-06-22 | Heraeus Sensor Technology Gmbh | Flow sensor element and its self-cleaning |
EP2759811A2 (de) | 2005-10-24 | 2014-07-30 | Heraeus Sensor Technology Gmbh | Strömungssensorelement und dessen Selbstreinigung |
DE102017205857B3 (de) | 2017-04-06 | 2018-06-07 | Audi Ag | Kühleinrichtung, insbesondere für Elektronikbauteile, und Elektronikanordnung damit |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1369915A3 (de) | 2006-08-09 |
US20030227067A1 (en) | 2003-12-11 |
JP2004015061A (ja) | 2004-01-15 |
US6787870B2 (en) | 2004-09-07 |
EP1369915A2 (de) | 2003-12-10 |
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