DE10209126A1 - Kathodenstrahlröhre mit einer gespannten Fokussiermaske mit einer Widerstandsschicht - Google Patents
Kathodenstrahlröhre mit einer gespannten Fokussiermaske mit einer WiderstandsschichtInfo
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Abstract
Es wird eine Farb-Kathodenstrahlröhre (CRT) (10) mit einem evakuierten Kolben (11) mit einer darin angeordneten Elektronenkanone (26) zur Erzeugung wenigstens eines Elektronenstrahls (28) beschrieben. Der Kolben enthält ferner eine Schirmträgerplatte (12) mit einem Leuchtschirm (22) mit Phosphorzeilen auf dessen Innenfläche. Eine gespannte Fokussiermaske (25) mit mehreren, voneinander beabstandeten Strängen (40) liegt benachbart zu einem effektiven Bildbereich des Schirms. Die Abstände zwischen den Strängen bilden mehrere Schlitze (42), die im wesentlichen parallel zu den Phosphorzeilen des Schirms verlaufen. Jeder der Stränge enthält eine im wesentlichen gleichmäßige Schicht (62) aus einem Isoliermaterial (62) auf der dem Schirm zugewandten Seite der Stränge. DOLLAR A Mehrere Querdrähte (60) liegen im wesentlichen senkrecht zu den mehreren Strängen und sind durch die Schicht aus Isoliermaterial damit verbunden. Die mehreren Querdrähte sind mit Sammelschienen (140) (die an gegenüberliegenden Enden der Fokussiermaske liegen) mit einer Widerstandsschicht (68) verbunden, die Hafteigenschaften aufweist. Die Widerstandsschicht wird über und zwischen jeder der zweiten leitenden Stränge aufgebracht, um sie mit den Sammelschienen zu verbinden und außerdem elektrisch voneinander zu isolieren. Ein Leiter (65) liegt entlang eines Teils wenigstens einer Sammelschiene, um die Spannung durch die leitende Schicht gleichmäßig auf jeden Strang zu verteilen. Die Widerstandsschicht besteht aus ...
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Farb-Kathoden
strahlröhre (CRT) und insbesondere eine Farb-CRT mit einer
gespannten Fokussiermaske.
Eine Farb-Kathodenstrahlröhre (CRT) enthält im allgemeinen
eine Elektronenkanone zum Erzeugen und zum Richten von drei
Elektronenstrahlen auf einen Schirm der Röhre. Der Schirm
liegt auf der Innenfläche der Schirmträgerplatte der Röhre und
enthält eine Anordnung von Elementen mit drei unterschiedliche
Farben emittierenden Phosphoren. Eine Farbauswahlelektrode,
die entweder eine Schattenmaske oder eine Fokussiermaske sein
kann, liegt zwischen der Kanone und dem Schirm, damit jeder
Elektronenstrahl nur auf die Phosphorelemente auftrifft, die
zu diesem Strahl gehören. Eine Schattenmaske ist eine dünne
Metallschicht, die im wesentlichen parallel zu der Innenfläche
der Schirmträgerplatte der Röhre liegt. Eine Fokussiermaske
enthält zwei Sätze von parallelen Leitern, die senkrecht
zueinander liegen und im allgemeinen durch eine Isolierschicht
voneinander getrennt sind. Der erste Satz der parallelen
Leiter besteht in voneinander beabstandeten Metallsträngen in
Vertikalanordnung, und der zweite Satz der parallelen Leiter
besteht aus Metall-Querdrähten oder Kreuzungsdrähten in
horizontaler Ausrichtung. Jeder Satz von parallelen Leiter ist
elektrisch mit den unter Spannung gehaltenen Strängen
verbunden. Der Fokussiermaskenaufbau bildet im wesentlichen
rechteckförmige Öffnungen, die viereckförmige Linsen oder
sogenannte Quadrupol-Linsen bilden, wenn unterschiedliche
Spannungen an die beiden Sätze der parallelen Leiter angelegt
werden.
Die großen Spannungsdifferenzen zwischen den beiden Sätzen
von parallelen Leitern bilden eine Anfälligkeit gegenüber
Oberflächen-Überschläge zwischen den Leitern. Ein Oberflächen-
Überschlag ist ein Durchbruchsvorgang, der bei oder in der
Nähe der Oberfläche des Isoliermaterials erfolgen kann, das
die beiden Sätze von parallelen Leitern trennt, und kann zu
einem Lichtbogen zwischen den Leitern bei einer oder mehreren
Stellen der Fokussiermaske führen. Da die Querdrähte, die
einen Satz von parallelen Leitern bilden, elektrisch
miteinander verbunden sind, wird die gesamte Maske höchst
anfällig für einen derartigen Durchbruch. Das System kann
einen nennenswerten Betrag an Energie in Form eines
Kondensators speichern. Daher sind einzelne Verbindungspunkte
zwischen den beiden Sätzen von Leitern durch eine schnelle und
nahezu vollständige kapazitive Entladung der gesamten
gespannten Fokussiermaske verletzlich. Diese Entladung der
gespeicherten Energie kann ausreichen, ein örtliches
Verschmelzen der Leiter und/oder des Isoliermaterials zu
verursachen, und kann in einem elektrischen Kurzschluß
resultieren, der zu dem darauffolgenden Ausfall der
Fokussiermaske führt.
Es besteht somit ein Bedarf, die einzelnen Kreuzungsdrähte
voneinander und von ihrer zugeordneten Anode elektrisch zu
isolieren und dabei die genannten Nachteile zu vermeiden.
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Farb-
Kathodenstrahlröhre mit einem evakuierten Kolben mit einer
darin angeordneten Elektronenkanone zum Erzeugen wenigstens
eines Elektronenstrahls. Der Kolben enthält ferner eine
Schirmträgerplatte mit einem Leuchtschirm mit Phosphorzeilen
auf dessen Innenfläche. Eine gespannte Fokussiermaske mit
mehreren voneinander beabstandeten Strängen liegt benachbart
zu einem effektiven Bildbereich des Schirms. Der Abstand
zwischen den Strängen bildet mehrere Schlitze im wesentlichen
parallel zu den Phosphorzeilen auf dem Schirm. Jeder der
Stränge enthält eine im wesentlichen kontinuierliche Schicht
aus Isoliermaterial auf seiner dem Schirm zugewandten Seite.
Mehrere Querdrähte liegen im wesentlichen senkrecht zu den
mehreren Strängen und sind mit diesen durch eine Schicht aus
einem Isoliermaterial verbunden. Die Querdrähte sind
elektrisch miteinander und mit einem Leiter über ein
Widerstandsmaterial verbunden, das durch eine Sammelschiene
getragen wird, die aus einem elektrisch isolierenden Material
besteht. Die Widerstandsschicht ist ein Verbundmaterial mit
einem elektrischen Leiter und einem mit wenigstens einem
Silicatglas gemischten Oxid.
Eine bevorzugte Ausführung der Prinzipien der vorliegenden
Erfindung wird nunmehr anhand der beigefügten Zeichnung im
einzelnen beschrieben. In der Zeichnung zeigen:
Fig. 1 eine Draufsicht, teilweise im Axialschnitt, einer
Farb-Kathodenstrahlröhre (CRT) mit einer uniaxial gespannten
Fokussiermasken-Rahmenanordnung mit der vorliegenden
Erfindung,
Fig. 2 eine Draufsicht einer Anordnung mit einer uniaxial
gespannten Fokussiermasken-Rahmenanordnung von Fig. 1,
Fig. 3 eine Seitenansicht der Masken-Rahmenanordnung entlang
der Linie 3-3 von Fig. 2,
Fig. 4 einen vergrößerten Abschnitt der uniaxial gespannten
Fokussiermaske, gezeigt innerhalb des Kreises 4 von Fig. 2
und
Fig. 5 eine vergrößerte, teilweise weggebrochene Perspektive
der Sammelschiene entlang den Linien 5-5 von Fig. 4.
Fig. 1 zeigt eine Farb-Kathodenstrahlröhre (CRT) 10 mit
einem Glaskolben 11 mit einer Schirmträgerplatte 12 und einem
über einen Trichter 15 damit verbundenen röhrenförmigen Hals
14. Der Trichter 15 enthält einen (nicht dargestellten) ersten
leitenden Belag auf der Innenseite des Trichters 15, der einen
ersten Anodenanschluß 16 elektrisch mit einem Maskenrahmen 44
verbindet. Der Trichter 15 enthält außerdem einen (nicht
dargestellten) zweiten, leitenden inneren Belag, der einen
zweiten Anodenanschluß 17 kontaktiert und von diesem ausgeht,
ohne irgendein Element zu kontaktieren, das elektrisch mit dem
ersten Anodenanschluß 16 verbunden ist.
Die Schirmträgerplatte 12 enthält einen Bildschirm 18 und
einen peripheren Flansch oder eine Seitenwand 20, die über
eine Glasschmelze 21 mit dem Trichter 15 verschweißt ist. Ein
Dreifarben-Phosphorleuchtschirm 22 ist an der Innenfläche des
Bildschirms 18 gehaltert. Der Schirm 22 ist ein (nicht
dargestellter) sogenannter Zeilenschirm, der eine Vielzahl von
Schirmelementen aus Rot-emittierenden, Grün-emittierenden und
Blau-emittierenden Phosphorzeilen R, G bzw. B besteht, die
jeweils in Dreiergruppen angeordnet sind, wobei jede
Dreiergruppe eine Phosphorzeile jeder der drei Farben enthält.
Vorzugsweise trennt eine (nicht dargestellte)
lichtabsorbierende Matrix die Phosphorzeilen. Eine (nicht
dargestellte) dünne leitende Schicht, vorzugsweise aus
Aluminium, liegt auf dem Schirm 22 und bildet ein Mittel zur
Zuführung einer gleichmäßigen ersten Anodenspannung zu dem
Schirm sowie zur Reflexion von Licht, das von den Phosphor
elementen emittiert wird, durch die Schirmträgerplatte 18.
Eine uniaxial gespannte Fokussiermaske 25 ist durch
bekannte Mittel lösbar in einem vorbestimmten Abstand zu dem
Schirm 22 in der Schirmträgerplatte 12 befestigt. Eine
Elektronenkanone 26, die schematisch durch die gestrichelten
Linien in Fig. 1 dargestellt ist, liegt mittig in dem Hals
14, um drei in einer Ebene liegende, sogenannte Inline-
Elektronenstrahlen 28, einen mittleren und zwei seitliche oder
äußere Strahlen, entlang konvergenten Wegen durch die uniaxial
gespannte Fokussiermaske 25 zu erzeugen und zu dem Schirm 22
auszusenden. Die Inline-Richtung des mittleren Strahls 28
liegt im wesentlichen senkrecht zu der Papierebene.
Die CRT von Fig. 1 ist für die Anwendung mit einem
externen magnetischen Ablenkjoch vorgesehen, wie dem Joch 30,
das in der Nähe der Verbindung zwischen Trichter und Hals
dargestellt ist. Im Betrieb unterwirft das Joch 30 die drei
Elektronenstrahlen Magnetfeldern, die bewirken, daß die
Strahlen ein horizontales und ein vertikales rechteckförmiges
Raster über dem Schirm 22 abtasten.
Wie Fig. 2 zeigt, enthält die Maske 25 zwei horizontale
Seiten 32, 34 und zwei vertikale Seiten 36, 38. Die beiden
horizontalen Seiten 32, 34 liegen parallel zu der
Mittenhauptachse X der CRT, während die beiden vertikalen
Seiten 36, 38 parallel zu der Mittennebenachse Y der CRT
liegen. Ein Rahmen 44 enthält vier Hauptteile, zwei
Torsionsröhren oder gekrümmte Teile 46, 48 und zwei Spannarme
oder gerade Teile 50, 52. Die beiden gekrümmten Teile 46, 48
liegen parallel zu der Hauptachse X und zueinander. Wie Fig.
3 zeigt, enthält jedes der geraden Teile 50, 52 zwei einander
überlappende Teile 54, 56, wobei jedes Teil einen L-förmigen
Querschnitt aufweist. Die einander überlappenden Teile 54, 56
sind anstelle der Überlappung miteinander verschweißt. Ein
Ende jedes der einander überlappenden Teile 54, 56 ist mit
einem Ende der gekrümmten 46, 48 verbunden. Die Krümmung der
gekrümmten Teile 46, 48 bildet die Krümmung der Fokussiermaske
25. Die horizontalen Seiten 32, 34 der Fokussiermaske 25 sind
zwischen den gekrümmten Teilen 46, 48 verschweißt, die die
notwendige Spannung für die Maske bilden.
In Fig. 4 enthält die Fokussiermaske 25 mehrere
Metallstränge 40, jeder mit einer Querabmessung oder Breite
von ungefähr 0,3 mm bis ungefähr 0,5 mm, die durch Abstands
schlitze 42 voneinander getrennt sind, von denen jeder eine
Breite in einem Bereich von ungefähr 0,27 mm bis ungefähr 0,43
mm aufweist, die parallel zu der Nebenachse Y der CRT und den
Phosphorzeilen des Schirms 22 liegen. Für eine CRT mit einer
Diagonalabmessung von 68 cm haben die Metallstränge eine
Breite in einem Bereich von ungefähr 0,3 mm bis ungefähr 0,38
mm und eine Breite der Schlitze 42 von ungefähr 0,27 mm bis
ungefähr 0,33 mm. Bei einer Farb-CRT mit einer Diagonal
abmessung von 68 cm gibt es ungefähr 760 Metallstränge 40.
Jeder der Schlitze 42 erstreckt sich von einer horizontalen
Seite 32 der Maske zu deren anderen horizontalen Seite 34 (wie
in Fig. 2 gezeigt).
Die Stränge 40 bestehen vorzugsweise aus einer dünnen,
rechteckförmigen Schicht mit einer Dicke von ungefähr 0,05 mm
aus einem kohlenstoffarmen Stahl (ungefähr 0,005
Gewichtsprozente an Kohlenstoff). Geeignete Materialien für
die Fokussiermaske 25 können kohlenstoffarme Stähle mit hoher
Ausdehnung und einem thermischen Ausdehnungskoeffizienten (CTE
= coefficient of thermal expansion) in einem Bereich von
ungefähr 120-160 × 10-7/°C, Legierungen mit mittlerer
Ausdehnung, wie Eisen-Kobalt-Nickel (z. B. KOVAR™) mit einem
thermischen Ausdehnungskoeffizienten in einem Bereich von
ungefähr 40-60 × 10-7/°C sowie Legierungen mit geringer
Ausdehnung wie Eisen-Nickel (z. B. INVAR™) mit einem
thermischen Ausdehnungskoeffizienten in einem Bereich von 9-
30 × 10-7/°C sein.
In den Fig. 4 und 5 sind mehrere Querdrähte 60 mit
einem Durchmesser von ungefähr 0,025 mm im wesentlichen
senkrecht zu den Strängen 40 angeordnet und von diesen durch
ein Isoliermaterial 62 beabstandet, das auf der dem Schirm
zugewandten Seite jeder der Stränge 40 ausgebildet ist. Die
Querdrähte 60 bilden Querteile zur Erleichterung der
Anbringung einer zweiten Anode oder einer Fokussierspannung zu
der Fokussiermaske 25. Geeignete Materialien für die
Querdrähte 60 sind Eisen/Nickel-Legierungen wie INVAR™
und/oder nickelreiche Stähle wie HyMu 80-Draht (handelsüblich
verfügbar von Carpenter Technology, Reading, PA.).
Der Vertikalabstand oder die Schrittweite, auch mit
"Pitch" bezeichnet, zwischen nebeneinander liegenden
Querdrähten 60 beträgt ungefähr 0,33 mm für eine Farb-CRT mit
einer Diagonalabmessung von 68 cm. Die Fokussiermaske 25
bildet eine Maskendurchlässigkeit in bei der Mitte des Schirms
von ungefähr 40-45%, und die zweite Anode oder
Fokussierspannung ΔV, die an die Querdrähte 60 angelegt ist,
unterscheidet sich von der an die Stränge 40 angelegten ersten
Anodenspannung um weniger als ungefähr 2 kV, bei einer ersten
Anodenspannung von ungefähr 30 kV. Die Kombination der Stränge
40 und der Querdrähte 60 zusammen mit den unterschiedlichen,
an sie angelegten elektrischen Spannungen dient zur Bildung
des Vierpolfeldes oder Quadrupolfeldes.
Das Isoliermaterial 62 ist im wesentlichen gleichmäßig auf
die dem Schirm zugewandte Seite jeder der Stränge 40
aufgebracht. Die Querdrähte 60 sind mit dem Isoliermaterial 62
verbunden und bilden eine elektrische Isolierung der
Querdrähte 60 von den Strängen 40. Die Querdrähte 60 sind mit
Sammelschienen 140 verbunden (am besten in Fig. 5
dargestellt), die an gegenüberliegenden Enden der
Fokussiermaske 25 liegen, mit einer Widerstandsschicht 68, die
Hafteigenschaften aufweist. Die Widerstandsschicht 68 liegt
über und zwischen jedem der Querdrähte 60 und verbindet diese
mit den Sammelschienen 140 und isoliert sie außerdem
elektrisch voneinander.
Ein Leiter 65 liegt entlang eines Teiles wenigstens einer
Sammelschiene 140 und bildet einen elektrischen Kontakt mit
der Widerstandsschicht 68, um eine Spannung über die
Widerstandsschicht 68 gleichmäßig jedem Querdraht 60
zuzuführen. Eine gleichmäßige elektrische Spannung wird durch
die Widerstandsschicht 68 durch eine Hochspannung gebildet,
die an den Leiter 65 angelegt ist, der in elektrischem Kontakt
mit dem zweiten inneren Belag und dem zweiten Anodenanschluß
17 steht. Der Leiter 65 kann zum Beispiel aus einem
Metalldraht, einer Leitpaste und/oder einer leitenden Schicht
bestehen. Die Sammelschiene 140 besteht im allgemeinen aus
Glas und hat eine Dicke von ungefähr 2,54 mm.
Während des Betriebs der Fokussiermaske werden hohe
Spannungsdifferenzen zwischen den beiden Leitern benötigt, um
die Elektronenstrahlen effektiv auf ihre zugehörigen
Phosphorstreifen zu fokussieren. Der Spannungsunterschied,
zusammen mit der konstanten Beaufschlagung oder dem
Bombardement mit Elektronen auf die beiden Sätze von Leitern
40, 60 kann die einzelnen Verbindungspunkte zwischen den
Leitern 40, 60 anfällig machen gegenüber einer schnellen und
im wesentlichen vollständigen Überschlagsentladung der gesamte
gespannten Fokussiermaske. Derartige Ereignisse zerbrechen
oder schwächen den Isolator derart, daß die beiden Sätze von
Leitern 40, 60 elektrisch in Kontakt miteinander kommen. Das
zerstört somit die Effizienz der Fokussiermaske 25 für die
Fokussierung der Strahlen.
Eine Gruppe von Verbundmaterialien haben bei ihrer
Anwendung als Widerstandsschicht 68 den Aufprall von
Hochspannungsüberschlägen wesentlich gemildert. Diese
Verbundmaterialien enthalten einen elektrischen Leiter und ein
Oxid, gemischt mit wenigstens einem Silicatglas. Das
Verhältnis des Oxids zu dem elektrischen Leiter in dem
Verbundmaterial dient zur Steuerung dessen spezifischen
Widerstands. Das Verhältnis des Oxids zu dem elektrischen
Leiter liegt vorzugsweise in einem Bereich von 4 : 1 bis
ungefähr 10 : 1. Der Widerstandsbelag hat vorzugsweise einen
spezifischen Widerstand in einem Bereich von ungefähr 5 kOhm
bis ungefähr 200 kOhm.
Geeignete Oxide können unter anderem zum Beispiel sein:
Aluminiumoxid (Al2O3), Eisenoxid (Fe2O3) und Titandioxid (TiO2).
Geeignete elektrische Leiter können zum Beispiel unter anderem
Graphit, Antimon und Silber sein. Geeignete Silicatglasarten
können zum Beispiel unter anderem Kaliumsilicat, Blei-Zink-
Borosilicatglas und Glaskeramik sein.
Gemäß einem bevorzugten Verfahren zur Herstellung der
Fokussiermaske 25 wird eine erste Schicht aus Isoliermaterial
62 gebildet, zum Beispiel durch einen Sprühvorgang auf die dem
Schirm zugewandte Seite der Stränge 40. Die Stränge 40
bestehen in diesem Beispiel aus einer Legierung mit geringer
Ausdehnung, wie INVAR™ mit einem Temperaturausdehnungs
koeffizienten in einem Bereich von 9-30 × 10-7/°C.
Vorzugsweise ist die Schicht aus Isoliermaterial ein Blei-
Zink-Borosilicatglas wie SCC-11 oder ein Bleioxid (PbO),
dotiert mit ungefähr 7% Eisenoxid (Fe2O3). Die erste Schicht
des Isolators hat im allgemeinen eine Dicke von ungefähr 0,05
mm bis ungefähr 0,09 mm.
Der Rahmen 44 mit den beschichteten Strängen 40 wird bei
Zimmertemperatur getrocknet. Nach dem Trocknen wird die erste
Schicht 62 des Isoliermaterials durch Erwärmung des Rahmens 44
mit den Strängen 40 in einem Ofen ausgehärtet. Der Rahmen 44
wird über eine Periode von ungefähr 30 Minuten auf eine
Temperatur von ungefähr 300°C erwärmt und für ungefähr 20
Minuten bei 300°C gehalten. Dann wird die Temperatur des Ofens
über eine Periode von 20 Minuten auf ungefähr 460°C erhöht und
für zwei Stunden bei dieser Temperatur gehalten, um die erste
Schicht zu verschmelzen und zu kristallisieren und eine erste
Schicht 62 aus Isoliermaterial auf den Strängen 40 zu bilden.
Die erste Schicht 62 aus Isoliermaterial wird im allgemeinen
nach der Erwärmung nicht verschmelzen. Die erste Schicht 62
aus Isoliermaterial ist im allgemeinen kalottenförmig und hat
eine Dicke in einem Bereich von ungefähr 0,05 mm bis ungefähr
0,09 mm über jeden der Stränge 40.
Nachdem die erste Schicht des Isolators ausgehärtet ist,
wird eine zweite Schicht aus Isoliermaterial auf die erste
Schicht aus Isoliermaterial aufgebracht. Die zweite Schicht
aus Isoliermaterial hat dieselbe Zusammensetzung wie die erste
Schicht. Die zweite Schicht aus Isoliermaterial kann optional
eine andere Zusammensetzung als die erste Schicht aufweisen.
Die zweite Schicht aus Isoliermaterial hat eine Dicke von
ungefähr 0,0025 mm bis ungefähr 0,05 mm.
Danach werden die Querdrähte 60 an dem Rahmen 44 über der
zweiten Schicht aus Isoliermaterial derart angebracht, daß die
Querdrähte 60 im wesentlichen senkrecht zu den Strängen 40
liegen. Die Querdrähte 60 werden durch eine (nicht
dargestellte) Wicklungsbefestigung aufgebracht, die genau
einen gewünschten Abstand hält, zum Beispiel ungefähr 0,33 mm,
zwischen benachbarten Metallsträngen für eine Farb-CRT mit
einer Diagonalabmessung von ungefähr 68 cm.
Die Querdrähte 60 kontaktieren, wenn sie gewickelt sind,
außerdem eine Widerstandsschicht 68 entlang der Oberseite und
eines Teils der Seite der Sammelschiene 140 sowie an der
Oberseite der anderen (nicht dargestellten) Sammelschiene.
Alternativ und zusätzlich kann nach dem Wicklungsvorgang eine
Schicht eines Widerstandsbelags auf die Querdrähte 60 sowie
auf die Sammelschienen 140 aufgebracht werden. Die
Widerstandsschicht 68 hat eine Dicke von ungefähr 0,07 bis
0,15 mm.
Der Rahmen 44 mit der Wicklungsbefestigung wird für
ungefähr 120 Minuten auf eine Temperatur von ungefähr 460°C
erwärmt, um die zweite Schicht aus Isoliermaterial
auszuhärten. Nach der Aushärtung wird jeglicher überschüssige
Querdraht entfernt, und der Rahmen wird aus der
Haltevorrichtung herausgenommen, elektrische Anschlüsse werden
für die Stränge und Querdrähte durchgeführt, und die gespannte
Fokussiermaske wird in einen Röhrenkolben eingesetzt.
Claims (18)
1. Kathodenstrahlröhre (CRT) (10) mit einem evakuierten Kolben
(11) mit einer darin angeordneten Elektronenkanone (26) zum
Erzeugen wenigstens eines Elektronenstrahls (28), einer
Schirmträgerplatte (18) mit einem Leuchtschirm (22) mit
Phosphorzeilen auf dessen Innenfläche und einer gespannten
Fokussiermaske (25),
dadurch gekennzeichnet, daß
die gespannte Fokussiermaske mehrere voneinander beabstandete Stränge (40) mit einem darauf angeordneten Isoliermaterial (62) und mehrere voneinander beabstandete Querdrähte (60) enthält, die im wesentlichen senkrecht zu den mehreren, beabstandeten Strängen liegen, und daß die mehreren beabstandeten Querdrähte mit dem Isoliermaterial verbunden sind, wobei:
die mehreren voneinander beabstandeten Querdrähte elektrisch miteinander und mit einem Leiter (65) mit einer darauf angeordneten Widerstandsschicht (68) auf wenigstens einem Teil einer elektrisch isolierenden Sammelschiene (140) verbunden sind.
die gespannte Fokussiermaske mehrere voneinander beabstandete Stränge (40) mit einem darauf angeordneten Isoliermaterial (62) und mehrere voneinander beabstandete Querdrähte (60) enthält, die im wesentlichen senkrecht zu den mehreren, beabstandeten Strängen liegen, und daß die mehreren beabstandeten Querdrähte mit dem Isoliermaterial verbunden sind, wobei:
die mehreren voneinander beabstandeten Querdrähte elektrisch miteinander und mit einem Leiter (65) mit einer darauf angeordneten Widerstandsschicht (68) auf wenigstens einem Teil einer elektrisch isolierenden Sammelschiene (140) verbunden sind.
2. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 1, wobei die Widerstands
schicht dadurch gekennzeichnet ist, daß sie ein
Verbundmaterial mit einem elektrischen Leiter und einem
Oxid, gemischt mit wenigstens einem Silicatglas, enthält.
3. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß der elektrische Leiter in der zusammengesetzten
Widerstandsschicht aus der Gruppe ausgewählt ist, die
Graphit, Antimon und Silber enthält.
4. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß das Oxid aus der Gruppe ausgewählt ist, die
Aluminiumoxid (Al2O3), Eisenoxid (Fe2O3) und Titandiooxid
(TiO2) enthält.
5. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß das Silicatglas eines oder mehrere Materialien enthält,
die aus der Gruppe ausgewählt sind, die aus Kaliumsilicat,
Natriumsilicat, Blei-Zink-Borosilicat-Glas und Keramikglas
besteht.
6. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß das Verhältnis des elektrischen Leiters zu dem Oxid
zwischen ungefähr 1 : 14 und ungefähr 1 : 10 liegt.
7. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Widerstandsschicht einen spezifischen Widerstand von
ungefähr 5 kOhm bis ungefähr 200 kOhm aufweist.
8. Kathodenstrahlröhre (CRT) (10) mit einem evakuierten Kolben
(11) mit einer darin angeordneten Elektronenkanone (26) zum
Erzeugen wenigstens eines Elektronenstrahls (28), einer
Schirmträgerplatte (12) mit einem Leuchtschirm (22) mit
Phosphorzeilen auf dessen Innenfläche und einer gespannten
Fokussiermaske (25), dadurch gekennzeichnet, daß die
gespannte Fokussiermaske mehrere voneinander beabstandete
Stränge (40) mit einem darauf angeordneten Isoliermaterial
(62) und mehrere voneinander beabstandete Querdrähte (60)
enthält, die im wesentlichen senkrecht zu den mehreren
beabstandeten Strängen liegen, daß die mehreren
beabstandeten Querdrähte mit dem Isoliermaterial verbunden
sind, wobei:
die mehreren beabstandeten Querdrähte miteinander und mit einem Leiter (65) mit einer Widerstandsschicht (68) elektrisch verbunden sind, der auf wenigstens einem Teil einer elektrisch isolierenden Sammelschiene (140) liegt, wobei die Widerstandsschicht ein Verbundmaterial mit einem elektrischen Leiter und einem Oxid, gemischt mit wenigstens einem Silicatglas enthält, und das Verhältnis des Oxids zu dem elektrischen Leiter in einem Gewichtsbereich von 4 : 1 bis ungefähr 10 : 1 liegt.
die mehreren beabstandeten Querdrähte miteinander und mit einem Leiter (65) mit einer Widerstandsschicht (68) elektrisch verbunden sind, der auf wenigstens einem Teil einer elektrisch isolierenden Sammelschiene (140) liegt, wobei die Widerstandsschicht ein Verbundmaterial mit einem elektrischen Leiter und einem Oxid, gemischt mit wenigstens einem Silicatglas enthält, und das Verhältnis des Oxids zu dem elektrischen Leiter in einem Gewichtsbereich von 4 : 1 bis ungefähr 10 : 1 liegt.
9. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 8, wobei das Silicatglas
gekennzeichnet ist durch eine oder mehrere Materialien, die
aus der Gruppe ausgewählt sind, die aus Kaliumsilicat,
Natriumsilicat, Blei-Zink-Borosilicatglas und Keramikglas
besteht.
10. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 8, dadurch
gekennzeichnet, daß der elektrische Leiter in der
zusammengesetzten Widerstandsschicht aus der Gruppe
ausgewählt ist, die aus Graphit, Antimon und Silber besteht.
11. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 8, dadurch
gekennzeichnet, daß das Oxid aus einer Gruppe ausgewählt
ist, die aus Aluminiumoxid (Al2O3), Eisenoxid (Fe2O3) und
Titandioxid (TiO2) besteht.
12. Verfahren zur Herstellung einer Kathodenstrahlröhre (CRT)
(10) mit einem evakuierten Kolben (11) mit einer darin
angeordneten Elektronenkanone (26) zum Erzeugen wenigstens
eines Elektronenstrahls (28), einer Schirmträgerplatte (12)
mit einem Leuchtschirm (22) mit Phosphorzeilen auf dessen
Innenfläche und einer gespannten Fokussiermaske (25), wobei
die gespannte Fokussiermaske mehrere voneinander
beabstandete Stränge (40) mit einem darauf angeordneten
Isoliermaterial (62) und mehrere voneinander beabstandete
Querdrähte (60) aufweist, die im wesentlichen senkrecht zu
den mehreren beabstandeten Strängen liegen und die mehreren
beabstandeten Querdrähte mit dem Isoliermaterial verbunden
sind,
gekennzeichnet durch folgende Schritte:
elektrische Verbindung der mehreren voneinander beabstandeten Kreuzungsdrähte miteinander und mit einem Leiter (65) mit einer Widerstandsschicht (68), die auf wenigstens einem Teil einer elektrisch isolierenden Sammelschiene (140) liegt.
elektrische Verbindung der mehreren voneinander beabstandeten Kreuzungsdrähte miteinander und mit einem Leiter (65) mit einer Widerstandsschicht (68), die auf wenigstens einem Teil einer elektrisch isolierenden Sammelschiene (140) liegt.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die
Widerstandsschicht ein leitendes Material mit einem
elektrischen Leiter und einem Oxid, gemischt mit wenigstens
einem Silicatglas, enthält.
14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der
elektrische Leiter in der zusammengesetzten
Widerstandsschicht aus der Gruppe ausgewählt ist, die
Graphit, Antimon und Silber enthält.
15. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß das
Oxid aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Aluminiumoxid
(Al2O3), Eisenoxid (Fe2O3) und Titandioxid (TiO2) besteht.
16. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß das
Silicatglas eines oder mehrere Materialien enthält, die aus
der Gruppe ausgewählt sind, die aus Kaliumsilicat,
Natriumsilicat, Blei-Zink-Borosilicatglas und Keramikglas
besteht.
17. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß das
Verhältnis des elektrischen Leiters zu dem Oxid zwischen
ungefähr 1 : 4 und ungefähr 1 : 10 liegt.
18. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die
Widerstandsschicht einen spezifischen Widerstand zwischen
ungefähr 5 kOhm und ungefähr 200 kOhm aufweist.
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