DE102021206515B4 - Lagerungssystem, lithographieanlage und verfahren zum herstellen eines lagerungssystems - Google Patents
Lagerungssystem, lithographieanlage und verfahren zum herstellen eines lagerungssystemsInfo
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|---|---|---|---|---|
| WO2012013512A1 (de) * | 2010-07-29 | 2012-02-02 | Jenoptik Laser Gmbh | Fixieren eines in zwei raumrichtungen justierbaren optikhalters mit einem schrumpfenden kleber |
| DE102014215105A1 (de) * | 2014-07-31 | 2016-02-04 | Forschungsverbund Berlin E.V. | Optische Vorrichtung umfassend eine Mikrooptik und einen Halter und Verfahren zur Herstellung einer optischen Vorrichtung |
| DE102019203838A1 (de) * | 2019-03-20 | 2020-09-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem optischen Element mit Sensorreferenz und Verfahren zur Ausrichtung der Sensorreferenz |
Family Cites Families (4)
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|---|---|---|---|---|
| JPH02304511A (ja) * | 1989-05-19 | 1990-12-18 | Olympus Optical Co Ltd | レンズの保持装置 |
| DE102004038093A1 (de) * | 2004-05-28 | 2005-12-22 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Anordnung eines mikrooptischen Bauelements auf einem Substrat, Verfahren zur Justierung der Anordnung und optisches System mit der Anordnung |
| DE102006038634A1 (de) * | 2006-08-17 | 2008-02-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Halteeinrichtung für ein optisches Element mit Stützkraftausgleich |
| DE102018218162A1 (de) * | 2018-10-24 | 2018-12-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung, insbesondere für ein EUV-Lithographiesystem |
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Patent Citations (3)
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|---|---|---|---|---|
| WO2012013512A1 (de) * | 2010-07-29 | 2012-02-02 | Jenoptik Laser Gmbh | Fixieren eines in zwei raumrichtungen justierbaren optikhalters mit einem schrumpfenden kleber |
| DE102014215105A1 (de) * | 2014-07-31 | 2016-02-04 | Forschungsverbund Berlin E.V. | Optische Vorrichtung umfassend eine Mikrooptik und einen Halter und Verfahren zur Herstellung einer optischen Vorrichtung |
| DE102019203838A1 (de) * | 2019-03-20 | 2020-09-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem optischen Element mit Sensorreferenz und Verfahren zur Ausrichtung der Sensorreferenz |
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